RU2042620C1 - Method of silicon dioxide producing - Google Patents

Method of silicon dioxide producing Download PDF

Info

Publication number
RU2042620C1
RU2042620C1 RU93038277A RU93038277A RU2042620C1 RU 2042620 C1 RU2042620 C1 RU 2042620C1 RU 93038277 A RU93038277 A RU 93038277A RU 93038277 A RU93038277 A RU 93038277A RU 2042620 C1 RU2042620 C1 RU 2042620C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
sio
solution
concentration
ammonium
pri
Prior art date
Application number
RU93038277A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU93038277A (en
Inventor
Л.Г. Симонова
Е.Л. Михайленко
Ю.О. Булгакова
Н.В. Карасюк
Original Assignee
Институт катализа им.Г.К.Борескова СО РАН
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт катализа им.Г.К.Борескова СО РАН filed Critical Институт катализа им.Г.К.Борескова СО РАН
Priority to RU93038277A priority Critical patent/RU2042620C1/en
Publication of RU93038277A publication Critical patent/RU93038277A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2042620C1 publication Critical patent/RU2042620C1/en

Links

Images

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

FIELD: inorganic chemistry. SUBSTANCE: SiO2 is precipitated by addition of sodium or potassium silicate solutions to solutions of ammonium salts of sulfuric, hydrochloric, carbonic, nitric, formic or acetic acids at the ratio of total SiO2 adding with silicate to the total content of ammonium salt
Figure 00000002
followed by treatment of hydrogel prepared. Precipitation conditions: temperature is 35-95 C, rate is 100-270 g SiO2/lsusp·h and additional treatment of hydrogel SiO2 after precipitation with ammonium salt solutions taken from the order: (NH4)2SO4, or NH4Cl, or (NH4)2CO3,, or NH4HCO3, or NH4NO3,, or NH4HCO2,, or NH4CH3CO2.. EFFECT: improved method of producing. 2 cl, 1 tbl

Description

Изобретение относится к производству высокодисперсного осажденного диоксида кремния с большим объемом пор, высокой влаго- и маслоемкостью, применимого в качестве носителей катализаторов, а также наполнителей для некоторых материалов: зубных паст, резины, эластомеров и др. The invention relates to the production of fine precipitated silica with a large pore volume, high moisture and oil absorption, applicable as catalyst carriers, as well as fillers for some materials: toothpastes, rubber, elastomers, etc.

Для указанных областей применяются силикагели с рыхлой упаковкой первичных частиц в агрегатах (так называемые "открытые" структуры) с низкой насыпной плотностью (0,05-0,3 г/см3), большим объемом пор (более 1,05 см3/г), высокой влаго- и маслоемкостью (более 1,5 см3 масла/г SiО2), низкой прочностью вторичных агрегатов. Такие свойства обеспечивают хорошее диспергирование и распределение частиц наполнителя в массе основного материала, улучшая пластические и тиксотропные свойства полупродуктов и потребительские свойства готовых изделий.Silica gels with loose packing of primary particles in aggregates (the so-called "open" structures) with a low bulk density (0.05-0.3 g / cm 3 ) and a large pore volume (more than 1.05 cm 3 / g are used) ), high moisture and oil absorption (more than 1.5 cm 3 oil / g SiO 2 ), low strength secondary aggregates. Such properties provide good dispersion and distribution of filler particles in the bulk of the base material, improving the plastic and thixotropic properties of intermediates and consumer properties of finished products.

Рыхлая упаковка и большой объем пор силикагелевых носителей повышают термостабильность катализаторов, приготовленных на их основе, особенно в случае легкоплавкого активного компонента, например ванадиевого катализатора окисления SO2.The loose packaging and the large pore volume of silica gel supports increase the thermal stability of the catalysts prepared on their basis, especially in the case of a low-melting active component, for example, a vanadium SO 2 oxidation catalyst.

Открытая пористая структура характерна для аэросилов, недостатком которых является дорогостоящий пирогенный метод синтеза. Для получения высокопористых силикагелевых материалов разработаны и более дешевые методы осаждения из растворов силикатов щелочных металлов и минеральных или органических кислот с добавлением солевых коагуляторов. Заданные свойства силикагелей обеспечиваются подбором оптимальных условий синтеза. Например, известен метод получения аэросилоподобного силикагеля, включающий несколько стадий: получение первичных частиц SiO2 при одновременном сливании растворов минеральной кислоты и силиката щелочного металла при степени нейтрализации от 20 до 55% затем флокуляция осадка солями щелочного металла (NaCl) и нейтрализация непрореагировавшего силиката избытком кислоты.An open porous structure is characteristic of aerosils, the disadvantage of which is the expensive pyrogenic synthesis method. To obtain highly porous silica gel materials, cheaper methods of precipitation from solutions of alkali metal silicates and mineral or organic acids with the addition of salt coagulators have also been developed. The desired properties of silica gels are ensured by the selection of optimal synthesis conditions. For example, there is a known method for producing aerosil-like silica gel, which includes several stages: obtaining primary particles of SiO 2 while simultaneously pouring solutions of mineral acid and alkali metal silicate with a degree of neutralization of from 20 to 55%, then flocculation of the precipitate with alkali metal salts (NaCl) and neutralizing unreacted silicate with an excess of acid .

Наиболее близким к предлагаемому изобретению является способ получения высокодисперсного гидратированного оксида кремния смешением растворов силикатов натрия или калия с концентрацией от 3 до 35 мас. SiO2 и водных растворов аммонийных солей (NH4Cl, (NH4)2SO4, (NH4)2CO3, NH4NO3, NH4CH32,
NH4CO2Н) с концентрацией от 5 до 40 мас. или этих же солей в сочетании с кислотами (HCl, H2SO4, H2CO3, HNO3, HCO2Н, СH3CO2H), причем отношение общего количества диоксида кремния к количеству аммонийных солей m GSiО2/Gсоли должно быть ≅2. Осаждение ведут добавлением силиката к раствору аммонийных солей или одновременным сливанием растворов в проточный реактор, затем осадок фильтруют, промывают водой до отсутствия анионов, сушат при температуре 120оС.
Closest to the proposed invention is a method for producing highly dispersed hydrated silicon oxide by mixing solutions of sodium or potassium silicates with a concentration of from 3 to 35 wt. SiO 2 and aqueous solutions of ammonium salts (NH 4 Cl, (NH 4 ) 2 SO 4 , (NH 4 ) 2 CO 3 , NH 4 NO 3 , NH 4 CH 3 CO 2 ,
NH 4 CO 2 H) with a concentration of from 5 to 40 wt. or the same salts in combination with acids (HCl, H 2 SO 4 , H 2 CO 3 , HNO 3 , HCO 2 H, CH 3 CO 2 H), the ratio of the total amount of silicon dioxide to the number of ammonium salts m GSiО 2 / G salt should be ≅2. Deposition lead adding silicate to the solution of ammonium salts or simultaneous draining solutions in a flow reactor, then the precipitate was filtered, washed with water until free of anions, dried at a temperature of 120 ° C.

Недостатком описанного способа является недостаточно высокий объем пор и, следовательно, невысокая влаго- и маслоемкость получаемого силикагеля. The disadvantage of the described method is the insufficiently high pore volume and, therefore, low moisture and oil absorption of the obtained silica gel.

Задачей предлагаемого изобретения является получение высокодисперсного силикагеля с повышенными влаго- и маслоемкостью и объемом пор. The task of the invention is to obtain highly dispersed silica gel with increased moisture and oil absorption and pore volume.

Указанная задача согласно изобретению решается добавлением растворов силикатов натрия или калия с концентрацией от 3 до 33 мас. SiО2 (предпочтительно 5-20 мас. SiО2) к растворам аммонийных солей (NH4)2SO4, (NH4)2CO3, NH4HCO3, NH4Cl, NH4NO3, NH4HCO2, NH4CH32 с концентрацией от 5 до 40 мас. (предпочтительно 5-20 мас.) при отношении общего количества образующегося SiО2 к количеству аммонийной соли m GSiO2/Gсоли ≅2 (предпочтительно 0,9-1,7), причем осаждение проводят при 35-95оС и скорости осаждения 100-270 г SiО2cусп˙ч, по окончании осаждения полученный гидрогель (неотфильтрованный или отфильтрованный, или отмытый водой) подвергают дополнительной обработке растворами аммонийных солей с концентрацией 5-15% Обработка состоит в суспендировании гидрогеля в водном растворе аммонийных солей серной, угольной, соляной, азотной, муравьиной или уксусной кислот при 35-95оС, после чего неотфильтрованный, отфильтрованный или отмытый продукт сушат при 120-250оС на распылительной сушилке или в сушильных аппаратах с неподвижным или кипящим слоем. В случае необходимости высушенный продукт размалывают на шаровых, струйных, вихревых и других мельницах. Можно использовать и невысушенный продукт.The specified problem according to the invention is solved by adding solutions of sodium or potassium silicates with a concentration of from 3 to 33 wt. SiO 2 (preferably 5-20 wt.% SiO 2 ) to solutions of ammonium salts (NH 4 ) 2 SO 4 , (NH 4 ) 2 CO 3 , NH 4 HCO 3 , NH 4 Cl, NH 4 NO 3 , NH 4 HCO 2 , NH 4 CH 3 CO 2 with a concentration of from 5 to 40 wt. (preferably 5-20 wt.) when the ratio of the total amount of formed SiO 2 to the amount of ammonium salt m GSiO 2 / G salt ≅2 (preferably 0.9-1.7), and the deposition is carried out at 35-95 about C and deposition rate 100-270 g of SiO 2 / l ss · h, after the precipitation is completed, the resulting hydrogel (unfiltered or filtered, or washed with water) is subjected to additional processing with solutions of ammonium salts with a concentration of 5-15%. The treatment consists in suspending the hydrogel in an aqueous solution of sulfuric ammonium salts, coal, hydrochloric, nitric, formic or ksusnoy acids at 35-95 ° C, after which an unfiltered, filtered and washed product was dried at 120-250 C in a spray drier or driers with a fixed or fluidized bed. If necessary, the dried product is ground in ball, jet, vortex and other mills. You can use and not dried product.

Отличительными признаками изобретения являются совокупность оптимальных условий осаждения: температура в интервале 35-95оС, скорость приливания силиката натрия (калия) Wпр, обеспечивающая скорость осаждения Wос. от 100 до 270 г SiО2cусп ˙ч и проведение дополнительной обработки осадка силикагеля растворами аммонийных солей, выбранных из ряда (NH4)2SO4, (NH4)2CO3, NH4HCO3, NH4Cl, NH4NO3, NH4HCO2, NH4CH3CO2Н с концентрацией от 5 до 15 мас.The distinguishing features of the invention are set of optimal precipitation conditions: temperature in the range of 35-95 ° C, the rate of pouring sodium silicate (potassium) wpr providing deposition rate W axes. from 100 to 270 g of SiO 2 / l sludge and additional processing of the silica gel precipitate with solutions of ammonium salts selected from the series (NH 4 ) 2 SO 4 , (NH 4 ) 2 CO 3 , NH 4 HCO 3 , NH 4 Cl, NH 4 NO 3 , NH 4 HCO 2 , NH 4 CH 3 CO 2 H with a concentration of from 5 to 15 wt.

путем суспендирования в них неотфильтрованного, отфильтрованного или отмытого осадка диоксида кремния в течение 0,5-1 ч. by suspending in them unfiltered, filtered or washed precipitate of silicon dioxide for 0.5-1 hours

Увеличение объема пор, влаго- и маслоемкости силикагеля возможно при выполнении всех перечисленных условий. Так, проведение осаждения при температурах 35-95оС и указанной скорости осаждения, но без дополнительной стадии обработки осадка раствором аммонийной соли снижает объем пор (пример 25). Несоблюдение оптимальной скорости или температуры осаждения при прочих указанных в изобретении условиях также снижает влагоемкость и объем пор (примеры 22-24). Таким образом, заданные свойства силикагеля формируются под воздействием совокупности оптимальных условий синтеза, приведенных в предлагаемом изобретении.An increase in pore volume, moisture and oil absorption of silica gel is possible if all of the above conditions are met. Thus, the deposition at temperatures of 35-95 about With and the specified deposition rate, but without the additional stage of processing the precipitate with a solution of ammonium salt reduces the pore volume (example 25). Failure to comply with the optimal deposition rate or temperature under the other conditions specified in the invention also reduces the moisture capacity and pore volume (examples 22-24). Thus, the desired properties of silica gel are formed under the influence of a combination of optimal synthesis conditions given in the present invention.

П р и м е р 1 (прототип). В реактор емкостью 200 л, снабженный мешалкой, вливают 70 л воды и прибавляют 7,5 кг хлорида аммония. После растворения приливают раствор силиката натрия, приготовленный из 30 л раствора силиката натрия с плотностью 1,375 г/см3 и 40 л воды (С 13 мас. SIО2) так, чтобы время добавления раствора составляло 15 мин. Образующуюся суспензию гидратированного диоксида кремния фильтруют, промывают водой, и после сушки в сушильном шкафу при 120оС осадок растирают. Размер зерен растертого порошка составляет от 0,5 до 30 мкм, величина удельной поверхности 300 м2/г, насыпная плотность 0,29 г/см3, влагоемкость 2,8 см3/г, маслоемкость 2,6 см3/г.PRI me R 1 (prototype). 70 l of water are poured into a 200 l reactor equipped with a stirrer and 7.5 kg of ammonium chloride are added. After dissolution, a sodium silicate solution is poured prepared from 30 l of a sodium silicate solution with a density of 1.375 g / cm 3 and 40 l of water (C 13 wt. SIO 2 ) so that the time for adding the solution is 15 minutes. The resulting slurry of hydrated silica is filtered, washed with water, and dried in an oven at 120 ° C the precipitate was triturated. The grain size of the powdered powder is from 0.5 to 30 μm, the specific surface area is 300 m 2 / g, bulk density is 0.29 g / cm 3 , water capacity is 2.8 cm 3 / g, oil capacity is 2.6 cm 3 / g.

П р и м е р 2. В реактор емкостью 2 л, снабженный мешалкой, заливают 0,89 л раствора NH4Cl c концентрацией 7 мас. (ρ= 1,026 г/см3), нагревают до 70оС и при интенсивном перемешивании приливают 1 л раствора силиката натрия с силикатным модулем n SiО2/Na2O 3,3, концентрацией 9 мас. SiО2 (100 г SiО2/л, ρ= 1,106 г/см3), при этом m GSiО2/GNH4Cl 1,9. Скорость осаждения составляет Wос. 200 г SiО2cусп˙ч, что для данного примера соответствует скорости приливания раствора силиката Wпр. 3,8 л/ч. По окончании осаждения суспензию отделяют от маточного раствора, промывают 2 л дистиллированной воды (20 л/кг SiО2), осадок суспендируют в 1 л раствора NH4Cl c концентрацией 5 мас. выдерживают в течение 1 ч при 70оС и интенсивном перемешивании. Затем суспензию фильтруют, промывают 2 л дистиллированной воды и сушат на распылительной сушилке. Полученный порошок с размером частиц от 2 до 30 мкм имеет объем пор Vпор 4,1 г/см3, удельную поверхность Sуд. 450 м2/г, насыпную плотность Δ= 0,16 г/см3, влагоемкость В 4,4 см3 H2О/гSiО2, маслоемкость М 4,3 см3 дибутилфталата/гSiО2.PRI me R 2. In a reactor with a capacity of 2 l, equipped with a stirrer, pour 0.89 l of a solution of NH 4 Cl with a concentration of 7 wt. (ρ = 1,026 g / cm 3 ), heated to 70 about C and with vigorous stirring pour 1 l of a solution of sodium silicate with a silicate module n SiO 2 / Na 2 O 3,3, concentration of 9 wt. SiO 2 (100 g SiO 2 / L, ρ = 1.106 g / cm 3 ), with m GSiO 2 / GNH 4 Cl 1.9. The deposition rate is W OS. 200 g of SiO 2 / l cusp hr, which for this example corresponds to the pouring rate of a silicate solution W pr. 3.8 l / h. At the end of the precipitation, the suspension is separated from the mother liquor, washed with 2 l of distilled water (20 l / kg SiO 2 ), the precipitate is suspended in 1 l of a solution of NH 4 Cl with a concentration of 5 wt. incubated for 1 h at 70 about C with vigorous stirring. Then the suspension is filtered, washed with 2 l of distilled water and dried on a spray dryer. The resulting powder with a particle size of 2 to 30 μm has a pore volume V pore of 4.1 g / cm 3 , specific surface area S beats. 450 m 2 / g, bulk density Δ = 0.16 g / cm 3 , moisture capacity B 4.4 cm 3 H 2 O / g SiO 2 , oil absorption M 4.3 cm 3 dibutyl phthalate / g SiO 2 .

П р и м е р 3. В реактор объемом 2 л заливают 0,89 л раствора NH4HCO3 c концентрацией 11 мас. ( ρ= 1,038 г/см3), нагревают до 70оС и при интенсивном перемешивании вливают 1 л раствора силиката натрия с силикатным модулем 3,3, концентрацией 9 мас. SiО2 (100 гSiО2/л, ρ=1,106 г/см3, при этом m 0,9. Скорость осаждения составляет 270 гSiО2cусп ˙ч (для данного примера это соответствует скорости приливания раствора силиката 5,1 л/ч). Суспензию отделяют от маточного раствора, промывают 2 л дистиллированной воды, затем осадок суспендируют в 1 л раствора NH4HCO3 c концентрацией 5 мас. и температурой 70оС при интенсивном перемешивании и выдерживают в этих условиях в течение 1 ч, затем фильтруют, промывают 2 л дистиллированной воды и сушат на распылительной сушилке. Полученный порошок с размером частиц от 2 до 30 мкм имеет объем пор 4,2 см3/г, удельную поверхность 300 м2/г, насыпную плотность 0,15 г/см3, влагоемкость 4,4 см3/г и маслоемкость 4,3 см3/г.PRI me R 3. In a reactor with a volume of 2 l of 0.89 l of a solution of NH 4 HCO 3 with a concentration of 11 wt. (ρ = 1,038 g / cm 3 ), heated to 70 about C and with vigorous stirring pour 1 l of a solution of sodium silicate with silicate module 3.3, a concentration of 9 wt. SiO 2 (100 g of SiO 2 / l, ρ = 1.106 g / cm 3 , with m 0.9. The deposition rate is 270 g of SiO 2 / l cusp ˙ h (for this example, this corresponds to a silica solution pouring rate of 5.1 l / h). The slurry is separated from the mother liquor, washed with 2 liters of distilled water, the precipitate was suspended in 1 liter of solution NH 4 HCO 3 c 5 wt. and 70 temperature ° C under vigorous stirring and kept under these conditions for 1 hour, then filtered, washed with 2 L of distilled water and dried on a spray dryer The resulting powder with a particle size of from 2 to 30 μm has a pore volume of 4.2 cm 3 / g, a specific surface area of 300 m 2 / g, bulk density of 0.15 g / cm 3 , a moisture capacity of 4.4 cm 3 / g and an oil capacity of 4.3 cm 3 / g.

П р и м е р 4. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что при обработке осадка SiО2 аммонийной солью используют раствор NH4HCO3 c концентрацией 15 мас.PRI me R 4. Similar to example 3, characterized in that when processing the precipitate SiO 2 ammonium salt using a solution of NH 4 HCO 3 with a concentration of 15 wt.

П р и м е р 5. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что перед обработкой аммонийными солями суспензию SiО2 не отделяют от маточного раствора путем фильтрации.PRI me R 5. Similar to example 3, differs in that before processing with ammonium salts, the suspension of SiO 2 is not separated from the mother liquor by filtration.

П р и м е р 6. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что перед обработкой раствором аммонийной соли суспензию SiО2 фильтруют, но не промывают водой.PRI me R 6. Similar to example 3, differs in that before processing with a solution of ammonium salt, a suspension of SiO 2 is filtered, but not washed with water.

П р и м е р 7. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что после обработки аммонийной солью суспензию SiО2 отфильтровывают, но не промывают водой.PRI me R 7. Similar to example 3, differs in that after treatment with ammonium salt, a suspension of SiO 2 is filtered off, but not washed with water.

П р и м е р 8. Аналогичен примеру 3, отличается тем, после обработки аммонийной солью суспензию SiО2 не отфильтровывают.PRI me R 8. Similar to example 3, differs in that, after treatment with ammonium salt, the suspension of SiO 2 is not filtered.

П р и м е р 9. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что температура осаждения силикагеля составляет 35оC.PRI me R 9. Similar to example 3, characterized in that the deposition temperature of silica gel is 35 about C.

П р и м е р 10. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что температура осаждения силикагеля составляет 95оС.PRI me R 10. Similar to example 3, characterized in that the deposition temperature of silica gel is 95 about C.

П р и м е р 11. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что скорость осаждения составляет 100 гSiО2сусп.˙ ч скорость приливания силиката 1,9 л/ч).PRI me R 11. Similar to example 3, characterized in that the deposition rate is 100 g SiO 2 / l susp. ˙ h silica flow rate 1.9 l / h).

П р и м е р 12. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что концентрация используемого раствора силиката натрия составляет 5 мас. (50 гSiО2/л). В этом случае объем раствора силиката натрия составляет 2 л и для обеспечения скорости осаждения 270 г SiО2сусп. ˙ч скорость приливания силиката составляет 15 л/ч.PRI me R 12. Similar to example 3, characterized in that the concentration of the solution of sodium silicate used is 5 wt. (50 g SiO 2 / L). In this case, the volume of the solution of sodium silicate is 2 l and to ensure the deposition rate of 270 g of SiO 2 / l susp. ˙h silica flow rate is 15 l / h.

П р и м е р 13. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что концентрация силиката натрия, используемого для осаждения силикагеля, составляет 20 мас. (250 гSiО2/л, ρ= 1,270 г/см 3). Объем добавляемого силиката составляет 0,4 л, для обеспечения скорости осаждения 270 гSiО2сусп.˙ч скорость приливания раствора силиката натрия составляет 1,4 л/ч.PRI me R 13. Similar to example 3, characterized in that the concentration of sodium silicate used for the deposition of silica gel is 20 wt. (250 g SiO 2 / l, ρ = 1.270 g / cm 3 ). The volume of added silicate is 0.4 l, to ensure the deposition rate of 270 g SiO 2 / l susp. ˙h, the flow rate of the sodium silicate solution is 1.4 l / h.

П р и м е р 14. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что для осаждения SiО2 используют раствор NH4HCO3 c концентрацией 20 мас. в количестве 0,45 л. Для обеспечения скорости осаждения 270 гSiО2cусп.˙ч скорость приливания раствора силиката составляет 3,9 л/ч.PRI me R 14. Similar to example 3, differs in that for the deposition of SiO 2 use a solution of NH 4 HCO 3 with a concentration of 20 wt. in the amount of 0.45 liters. To ensure the deposition rate of 270 g SiO 2 / l cusp. ˙h the flow rate of the silicate solution is 3.9 l / h.

П р и м е р 15. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что для осаждения SiО2 используют раствор NH4HCO3 c концентрацией 5 мас. в количестве 1,8 л. Для обеспечения скорости осаждения 270 гSiО2cусп. ˙ч скорость приливания раствора силиката натрия составляет 7,6 л/ч.PRI me R 15. Similar to example 3, differs in that for the deposition of SiO 2 use a solution of NH 4 HCO 3 with a concentration of 5 wt. in the amount of 1.8 liters. To ensure the deposition rate of 270 g SiO 2 / l cusp. ˙h, the flow rate of the sodium silicate solution is 7.6 l / h.

П р и м е р 16. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что для осаждения силикагеля используют раствор аммонийной соли (NH4)2SO4 c концентрацией 9,5 мас. в количестве 0,89 л, что обеспечивает отношение m 1,25.PRI me R 16. Similar to example 3, differs in that for the deposition of silica gel using a solution of ammonium salt (NH 4 ) 2 SO 4 with a concentration of 9.5 wt. in an amount of 0.89 l, which provides a ratio of m 1.25.

П р и м е р 17. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что для осаждения силикагеля используют раствор аммонийной соли NH4NO3 c концентрацией 11 мас. в количестве 0,89 л, что обеспечивает m 0,9.PRI me R 17. Similar to example 3, characterized in that for the deposition of silica gel using a solution of ammonium salt NH 4 NO 3 with a concentration of 11 wt. in the amount of 0.89 l, which provides m 0.9.

П р и м е р 18. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что для осаждения силикагеля используют раствор аммонийной соли (NH4)2CO3 c концентрацией 6 мас. в количестве 0,89 л, что обеспечивает m 1,7.PRI me R 18. Similar to example 3, differs in that for the deposition of silica gel using a solution of ammonium salt (NH 4 ) 2 CO 3 with a concentration of 6 wt. in the amount of 0.89 l, which provides m 1.7.

П р и м е р 19. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что для осаждения силикагеля используют раствор аммонийной соли NH4CO2Н c концентрацией 10 мас. в количестве 0,89 л, что обеспечивает m 1,12.PRI me R 19. Similar to example 3, characterized in that for the deposition of silica gel using a solution of ammonium salt NH 4 CO 2 N with a concentration of 10 wt. in the amount of 0.89 l, which provides m 1.12.

П р и м е р 20. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что для осаждения силикагеля используют раствор аммонийной соли NH43СОО с концентрацией 11 мас. в количестве 0,89 л, что обеспечивает m 0,97.PRI me R 20. Similar to example 3, characterized in that for the deposition of silica gel using a solution of ammonium salt NH 4 CH 3 COO with a concentration of 11 wt. in the amount of 0.89 l, which provides m of 0.97.

П р и м е р 21. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что для осаждения силикагеля используют раствор силиката калия с концентрацией 9 мас. (100 гSiО2/л).PRI me R 21. Similar to example 3, differs in that for the deposition of silica gel using a solution of potassium silicate with a concentration of 9 wt. (100 g SiO 2 / L).

П р и м е р 22. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что скорость осаждения составляет 63 гSiО2сусп. ˙ч, при этом скорость приливания раствора силиката натрия составляет 1,05 л/ч.PRI me R 22. Similar to example 3, characterized in that the deposition rate is 63 g of SiO 2 / l susp. ˙h, while the flow rate of the sodium silicate solution is 1.05 l / h.

П р и м е р 23. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что скорость осаждения составляет 585 гSiО2cусп.˙ч, при этом скорость приливания раствора силиката натрия составляет 8,9 л/ч.PRI me R 23. Similar to example 3, characterized in that the deposition rate is 585 g SiO 2 / l cusp. ˙h, while the flow rate of the sodium silicate solution is 8.9 l / h.

П р и м е р 24. Аналогичен примеру 10, отличается тем, что температура осаждения составляет 20оС.PRI me R 24. Similar to example 10, characterized in that the deposition temperature is 20 about C.

П р и м е р 25. Аналогичен примеру 3, отличается тем, что отсутствует стадия дополнительной обработки осадка SiО2 раствором аммонийной соли. После окончания осаждения суспензию фильтруют, промывают водой до отсутствия ионов СО3 2- в промывных водах.PRI me R 25. Similar to example 3, differs in that there is no stage of additional processing of the precipitate SiO 2 with a solution of ammonium salt. After the precipitation is completed, the suspension is filtered, washed with water until there are no CO 3 2- ions in the wash water.

Свойства диоксида кремния, полученного согласно примерам 1-25, представлены в таблице. The properties of silicon dioxide obtained according to examples 1-25 are presented in the table.

Одним из отличительных признаков предлагаемого изобретения является скорость осаждения силикагеля, которую рассчитывают по формуле как количество силикагеля, подаваемого в единицу реакционного объема в единицу времени
Wос. GSiО2/Vсусп.˙τ,[ гSiО2cусп. ˙ч]
где GSiО2 общее количество диоксида кремния, подаваемого в реакционный объем с раствором силиката, г SiО2;
τ- время приливания раствора силиката, ч;
Vсусп. общий объем суспензии, получаемый при добавлении силиката к раствору аммонийной соли, л).
One of the distinguishing features of the present invention is the deposition rate of silica gel, which is calculated by the formula as the amount of silica gel supplied per unit of reaction volume per unit time
W os. GSiO 2 / V susp. ˙τ, [g SiO 2 / l cusp. ˙h]
where GSiO 2 the total amount of silicon dioxide supplied to the reaction volume with a solution of silicate, g SiO 2 ;
τ is the silica solution pouring time, h;
V susp. the total volume of suspension obtained by adding silicate to a solution of ammonium salt, l).

В отличие от часто применяемой в научно-технической литературе скорости приливания Wпр. вышеуказанная формула позволяет рассчитывать и сопоставлять скорость осаждения силикагеля при изменении концентрации или объемов используемых растворов. Это очень существенно для обеспечения постоянных условий осаждения, например, при масштабном переходе на промышленное оборудование. Из таблицы видно, что при изменении концентрации и объемов растворов одинаковая скорость осаждения обеспечивается при различающейся скорости приливания растворов силиката щелочного металла.Unlike commonly used in scientific literature pouring speed W ave. Above formula allows to calculate and compare the rate of precipitation of silica by varying the concentration or volume of the solutions used. This is very important to ensure constant deposition conditions, for example, with a large-scale transition to industrial equipment. The table shows that when changing the concentration and volume of the solutions, the same deposition rate is ensured at a different rate of flow of alkali metal silicate solutions.

В прототипе скорость осаждения не указана. In the prototype, the deposition rate is not indicated.

Образцы диоксида кремния, полученные в примерах 1-25, характеризовали величиной удельной поверхности Sуд., м2/г, измеренной методом БЭТ по тепловой десорбции аргона, величиной влаго- и маслоемкости, насыпной плотностью и общим объемом пор, полученным из данных порометрии.Samples of silicon dioxide obtained in examples 1-25, characterized by the specific surface area S beats. , m 2 / g, measured by the BET method for thermal desorption of argon, the value of moisture and oil absorption, bulk density and total pore volume obtained from porosimetry data.

Влагоемкость В, см3H2О/г SiO2, и маслоемкость М, см3 масла/гSiО2, определяли известным методом, измеряя соответственно объем воды и масла, растительного или дибутилфталата, поглощаемого навеской порошкообразного силикагеля до момента появления на поверхности образующейся пасты тонкой пленки воды или масла.The moisture capacity of B, cm 3 H 2 O / g SiO 2 , and the oil capacity of M, cm 3 oil / g SiO 2 , were determined by the known method, respectively measuring the volume of water and oil, vegetable or dibutyl phthalate absorbed by a weighed portion of silica gel until the resulting paste forms on the surface a thin film of water or oil.

Насыпную плотность Δ,г/см3, определяли по общепринятой методике, измеряя объем, занимаемый навеской порошка силикагеля при свободной засыпке в мерный цилиндр при условии Dцилиндра ≥8D частиц SiО2.The bulk density Δ, g / cm 3 , was determined by the generally accepted method, measuring the volume occupied by a suspension of silica gel powder with free filling in a graduated cylinder under the condition of a D cylinder ≥8D SiO 2 particles.

Из данных, приведенных в таблице видно, что образцы, полученные согласно предлагаемому изобретению, имеют высокую удельную поверхность 190-450 м2/г, большой объем пор 2,7-4,2 см3/г, высокую влагоемкость 2,8-4,4 см3/г и маслоемкость 2,8-4,3 см3/г. Дополнительным свидетельством высокой пористости этих образцов является низкая насыпная плотность 0,15-0,25 г/см3.From the data given in the table shows that the samples obtained according to the invention have a high specific surface area of 190-450 m 2 / g, a large pore volume of 2.7-4.2 cm 3 / g, high moisture capacity of 2.8-4 , 4 cm 3 / g and oil absorption of 2.8-4.3 cm 3 / g Additional evidence of the high porosity of these samples is a low bulk density of 0.15-0.25 g / cm 3 .

Описанные в прототипе образцы имеют большую насыпную плотность (0,29-0,36 г/см3) и отличаются меньшим объемом пор, влаго- и маслоемкостью (пример 1).The samples described in the prototype have a greater bulk density (0.29-0.36 g / cm 3 ) and are characterized by a smaller pore volume, moisture and oil absorption (example 1).

Примеры 22-25 показывают снижение пористости у образцов, приготовленных за пределами указанного в изобретении интервала условий синтеза. Examples 22-25 show a decrease in porosity in samples prepared outside the range of synthesis conditions specified in the invention.

Claims (2)

1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ДИОКСИДА КРЕМНИЯ, включающий добавление раствора силиката натрия или калия с концентрацией 3 35 мас. по SiO2 к раствору сульфата, или карбоната, или бикарбоната, или хлорида, или нитрата аммония, или муравьинокислого, или уксуснокислого аммония концентрации 5 40 мас. при отношении общего количества SiO2, добавляемого с силикатом, к количеству аммонийной соли не более 2 с осаждением суспензии гидрогеля, отличающийся тем, что добавление проводят при 35 95oС, обеспечивая скорость осаждения 100 270 г SiO2/Л суспензии в 1 ч, и осажденный гидрогель диоксида кремния подвергают дополнительной обработке раствором сульфата, или карбоната, или бикарбоната, или хлорида, или нитрата аммония, или муравьинокислого или уксуснокислого аммония концентрации 5 15 мас.1. METHOD FOR PRODUCING SILICON DIOXIDE, comprising adding a solution of sodium silicate or potassium with a concentration of 3 to 35 wt. by SiO 2 to a solution of sulfate, or carbonate, or bicarbonate, or chloride, or ammonium nitrate, or formic acid, or ammonium acetate, concentration of 5 to 40 wt. when the ratio of the total amount of SiO 2 added with silicate to the amount of ammonium salt is not more than 2 with the precipitation of a hydrogel suspension, characterized in that the addition is carried out at 35 95 o C, providing a deposition rate of 100 270 g of SiO 2 / L suspension in 1 h, and the precipitated silica hydrogel is subjected to an additional treatment with a solution of sulfate, or carbonate, or bicarbonate, or chloride, or ammonium nitrate, or ammonium formate or ammonium acetate concentration of 5 to 15 wt. 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что дополнительную обработку проводят суспендированием неотфильтрованного, или отфильтрованного, или отмытого гидрогеля диоксида кремния в растворе аммонийной соли при 35 95oС с последующей сушкой неотфильтрованного, или отфильтрованного, или отмытого продукта.2. The method according to claim 1, characterized in that the additional processing is carried out by suspension of unfiltered, or filtered, or washed silica hydrogel in a solution of ammonium salt at 35 95 o C, followed by drying of unfiltered, or filtered, or washed product.
RU93038277A 1993-08-02 1993-08-02 Method of silicon dioxide producing RU2042620C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93038277A RU2042620C1 (en) 1993-08-02 1993-08-02 Method of silicon dioxide producing

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93038277A RU2042620C1 (en) 1993-08-02 1993-08-02 Method of silicon dioxide producing

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU93038277A RU93038277A (en) 1995-04-30
RU2042620C1 true RU2042620C1 (en) 1995-08-27

Family

ID=20145627

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU93038277A RU2042620C1 (en) 1993-08-02 1993-08-02 Method of silicon dioxide producing

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2042620C1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004047723A2 (en) * 2002-11-25 2004-06-10 Dutov, Ivan Nikolaevich Method for producing fine highly porous silicium dioxide

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство ЧССР N 254185, кл. C 01B 33/12, 1987. *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004047723A2 (en) * 2002-11-25 2004-06-10 Dutov, Ivan Nikolaevich Method for producing fine highly porous silicium dioxide
WO2004047723A3 (en) * 2002-11-25 2004-08-26 Dutov Ivan Nikolaevich Method for producing fine highly porous silicium dioxide

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6956006B1 (en) Modified titanium dioxide and a method for its preparation
FI72497B (en) FAELLNINGSKISELSYROR MED HOEG STRUCTUR OCH FOERFARANDE FOER DERAS FRAMSTAELLNING.
US3893840A (en) Amorphous precipitated siliceous pigments and methods for their production
US2114123A (en) Amorphous precipitated silica and method of preparation thereof
JPH0660011B2 (en) Spherical silica, its method of manufacture and use for reinforcing elastomers
EP1196351A1 (en) Very high structure, highly absorptive hybrid silica and method for making same
JPS6217968B2 (en)
US6251823B1 (en) Production of spherical catalyst carrier
KR102381148B1 (en) Titanium dioxide sol, method for preparing same and product obtained therefrom
JPH0930809A (en) Production of silica gel
AU610647B2 (en) Silica extrudates
JP5019556B2 (en) Porous particles and method for producing the same
RU2042620C1 (en) Method of silicon dioxide producing
CN108290746A (en) Silica synthesizes
US1879022A (en) Catalytic gel and method of making same
US2839475A (en) Production of silica-containing catalysts of high pore diameter
JPH0114809B2 (en)
JP2000070730A (en) Production of spherical carrier for carrying catalyst
SU437264A1 (en) A method for preparing a catalyst for the oxidation of sulfur dioxide
CN108128804A (en) Industrial carbonic acid zirconium of the good stable storing of purity high activity and preparation method thereof
JPS627125B2 (en)
JPS5935028A (en) Preparation of calcined titanium oxide and catalyst
US4473539A (en) Process for preparing pure silicon dioxide having high mechanical strength as well as silicon dioxide obtained by applying this process
RU2235684C2 (en) Method of preparing fine high-porous silica
US3130170A (en) Preparation of cracking catalysts from clay

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20100803