RU2116389C1 - Electrolyte for deposition of bismuth-manganese alloy - Google Patents
Electrolyte for deposition of bismuth-manganese alloy Download PDFInfo
- Publication number
- RU2116389C1 RU2116389C1 RU97114052A RU97114052A RU2116389C1 RU 2116389 C1 RU2116389 C1 RU 2116389C1 RU 97114052 A RU97114052 A RU 97114052A RU 97114052 A RU97114052 A RU 97114052A RU 2116389 C1 RU2116389 C1 RU 2116389C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- bismuth
- electrolyte
- manganese
- trilon
- deposition
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к области гальваностегии, в частности к электролитическому осаждению сплава висмут - марганец. The invention relates to the field of electroplating, in particular to electrolytic deposition of a bismuth-manganese alloy.
Известен электролит для осаждения марганца на висмутовый порошок, содержащий сульфат марганца и сульфат аммония. Рассеивающая способность этого электролита, измеренная в ячейке Фильда, составляет 41-43%, а скорость коррозии полученного сплава в 0,1 н. растворе серной кислоты составляет 0,18-0,16 г/м2 ч.Known electrolyte for the deposition of manganese on bismuth powder containing manganese sulfate and ammonium sulfate. The scattering capacity of this electrolyte, measured in the Field cell, is 41-43%, and the corrosion rate of the alloy obtained is 0.1 n. a solution of sulfuric acid is 0.18-0.16 g / m 2 hours
Предлагаемый электролит отличается от известного тем, что кроме солей марганца и аммония, содержит соль висмута и трилон Б (этилендиаминтетрауксусной кислоты динатриевую соль), при следующем соотношении компонентов, г/л:
Хлористый марганец - 70-90
Хлористый висмут - 20-30
Трилон Б - 40-50
Уксусный аммоний - 20-30
Целью изобретения является повышение рассеивающей способности электролита и коррозионной стойкости получаемого сплава.The proposed electrolyte differs from the known one in that in addition to the manganese and ammonium salts, it contains bismuth salt and trilon B (ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt), in the following ratio of components, g / l:
Manganese Chloride - 70-90
Bismuth chloride - 20-30
Trilon B - 40-50
Acetic ammonium - 20-30
The aim of the invention is to increase the scattering power of the electrolyte and the corrosion resistance of the resulting alloy.
Введение уксуснокислого аммония способствует увеличению буферных свойств электролита и улучшает равномерность распределения металла на катоде. The introduction of ammonium acetate promotes an increase in the buffer properties of the electrolyte and improves the uniform distribution of the metal at the cathode.
Трилон Б связывает ионы марганца и висмута в очень прочные трилонатные комплексы (lgβBiЭДTA= 27,9 и lgβМиЭДTA= 14,04), что препятствует гидролизу солей и улучшает стабильность электролита.Trilon B binds manganese and bismuth ions into very strong trilonate complexes (logβ BiEDTA = 27.9 and logβ MiEDTA = 14.04), which prevents the hydrolysis of salts and improves the stability of the electrolyte.
Электролит готовят растворением в отдельных порциях воды соли висмута, соли марганца и трилона Б. Часть раствора трилона Б добавляют при перемешивании в раствор соли висмута, а вторую половину компонента - в раствор соли марганца. Смеси растворов оставляют на 10-15 мин для полного комплексообразования, а затем медленно (при интенсивном перемешивании) к раствору комплексоната висмута добавляют раствор комплексоната марганца. The electrolyte is prepared by dissolving bismuth salts, manganese salts and Trilon B in separate portions of water. A portion of the Trilon B solution is added with stirring to the bismuth salt solution, and the other half of the component is added to the manganese salt solution. The mixture of solutions is left for 10-15 minutes for complete complexation, and then slowly (with vigorous stirring) a solution of manganese complexonate is added to the bismuth complexonate solution.
Электроосаждение покрытий ведут при катодной плотности тока 1,0-4,0 А/дм2, температуре 20-25oC, pH 1,5-2,0 при перемешивании с использованием висмутового анода.The electrodeposition of the coatings is carried out at a cathodic current density of 1.0-4.0 A / dm 2 , a temperature of 20-25 o C, pH 1.5-2.0 with stirring using a bismuth anode.
Конкретные примеры использования электролита и некоторые свойства покрытий приведены в таблице. Specific examples of the use of electrolyte and some properties of the coatings are given in the table.
Рассеивающая способность предлагаемого электролита за счет повышения поляризации катода при введении в его состав трилона Б увеличивается на 18-20% по сравнению с известным электролитом. The dissipating ability of the proposed electrolyte due to increased polarization of the cathode when Trilon B is introduced into its composition increases by 18-20% compared with the known electrolyte.
Скорость коррозии сплавов, полученных из предлагаемого электролита, на 44-59% меньше, чем покрытий, осажденных из известного электролита. The corrosion rate of alloys obtained from the proposed electrolyte is 44-59% less than coatings deposited from a known electrolyte.
Использование предлагаемого электролита позволяет осаждать светлые, полублестящие, прочносцепленные с основой покрытия. Осадки выдерживают изгиб под углом 90o без излома и не отслаиваются от основы после нагрева при 250oC в течение 1 ч и последующего резкого охлаждения.Using the proposed electrolyte allows you to precipitate light, semi-shiny, tightly coupled to the base coating. Precipitation withstands bending at an angle of 90 o without kink and does not exfoliate from the base after heating at 250 o C for 1 h and subsequent sharp cooling.
Claims (1)
Хлористый марганец - 70 - 90
Хлористый висмут - 20 - 30
Трилон Б - 40 - 50
Уксуснокислый аммоний - 20 - 30еThe electrolyte for the deposition of the bismuth - manganese alloy containing manganese and ammonium salts, characterized in that it additionally contains bismuth chloride and disodium salt of ethylenediaminetetraacetic acid (trilon B) in the following ratio of components, g / l:
Manganese Chloride - 70 - 90
Bismuth chloride - 20 - 30
Trilon B - 40 - 50
Ammonium acetate - 20-30s
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU97114052A RU2116389C1 (en) | 1997-08-13 | 1997-08-13 | Electrolyte for deposition of bismuth-manganese alloy |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU97114052A RU2116389C1 (en) | 1997-08-13 | 1997-08-13 | Electrolyte for deposition of bismuth-manganese alloy |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2116389C1 true RU2116389C1 (en) | 1998-07-27 |
RU97114052A RU97114052A (en) | 1998-12-10 |
Family
ID=20196412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU97114052A RU2116389C1 (en) | 1997-08-13 | 1997-08-13 | Electrolyte for deposition of bismuth-manganese alloy |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2116389C1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104790000A (en) * | 2014-12-10 | 2015-07-22 | 中国计量学院 | Manganese-bismuth-iron-phosphor permanent magnetic alloy plating solution and preparation method thereof |
-
1997
- 1997-08-13 RU RU97114052A patent/RU2116389C1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Лошкарев Ю.М. и др. Об электроосаждении марганца и сплава марганец - висм ут. В сб.: Электрохимия марганца. Т. 3 - Тбилиси: Мецниереба, 1967, с.292 - 302. * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104790000A (en) * | 2014-12-10 | 2015-07-22 | 中国计量学院 | Manganese-bismuth-iron-phosphor permanent magnetic alloy plating solution and preparation method thereof |
CN104790000B (en) * | 2014-12-10 | 2018-10-26 | 中国计量学院 | A kind of manganese bismuth iron phosphorus permanent-magnet alloy electroplate liquid and preparation method thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3576724A (en) | Electrodeposition of rutenium | |
CA1253452A (en) | Production of zn-ni alloy plated steel strips | |
RU2116389C1 (en) | Electrolyte for deposition of bismuth-manganese alloy | |
US3793162A (en) | Electrodeposition of ruthenium | |
JPS6250560B2 (en) | ||
US4082625A (en) | Electrodeposition of ruthenium | |
US4212708A (en) | Gold-plating electrolyte | |
US3772167A (en) | Electrodeposition of metals | |
RU2106436C1 (en) | Electrolyte for depositing copper-nickel alloy | |
RU2139370C1 (en) | Electrolyte for depositing bismuth-cadmium alloy | |
RU2343233C1 (en) | Electrolyte for deposition of alloy lead-indium | |
RU2190043C1 (en) | Electrolyte for depositing argentum-thallium alloy | |
SU1737024A1 (en) | Electrolyte for bright nickel plating | |
SU1618786A1 (en) | Electrolyte for depositing bismuth-indium alloy | |
SU574485A1 (en) | Electrolyte for high-gloss tinning | |
SU1420077A1 (en) | Electrolyte for lustrous copper plating | |
RU2205901C1 (en) | Method of electrodeposition of zinc | |
RU2101395C1 (en) | Electrolyte for depositing copper-cobalt alloy | |
RU2164967C1 (en) | Bismuth-tin ally precipitation electrolyte | |
RU2029798C1 (en) | Electrolyte for alloy zinc-cobalt precipitation | |
RU2291230C1 (en) | Lead plating electrolyte | |
RU2303662C1 (en) | Electrolyte for depositing silver-lead alloy | |
RU2105830C1 (en) | Electrolyte for depositing bismuth-lead alloy | |
RU2156324C1 (en) | Electrolyte for deposition of zinc-antimony alloy | |
SU1079701A1 (en) | Copper-plating electrolyte |