RU2156324C1 - Electrolyte for deposition of zinc-antimony alloy - Google Patents
Electrolyte for deposition of zinc-antimony alloy Download PDFInfo
- Publication number
- RU2156324C1 RU2156324C1 RU99113651/02A RU99113651A RU2156324C1 RU 2156324 C1 RU2156324 C1 RU 2156324C1 RU 99113651/02 A RU99113651/02 A RU 99113651/02A RU 99113651 A RU99113651 A RU 99113651A RU 2156324 C1 RU2156324 C1 RU 2156324C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- zinc
- antimony
- chloride
- electrolyte
- deposition
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к области гальваностегии, в частности к электролитическому осаждению сплава цинк - сурьма. Известен электролит для осаждения сплава цинк - сурьма (авт. свид. СССР N 429140), содержащий сернокислый цинк, антимонилтартрат калия, битартрат калия, сернокислый алюминий и смачиватель ОС-20. Рассеивающая способность этого электролита, измеренная в ячейке Филда, составляет 43-48%, а скорость коррозии полученных покрытий в 0,1 Н растворе серной кислоты 15-17 г/м2ч.The invention relates to the field of electroplating, in particular to electrolytic deposition of an alloy of zinc - antimony. Known electrolyte for the deposition of the zinc-antimony alloy (ed. Certificate of the USSR N 429140), containing zinc sulfate, potassium antimonyl tartrate, potassium bitartrate, aluminum sulphate and wetting agent OS-20. The scattering capacity of this electrolyte, measured in the Field cell, is 43-48%, and the corrosion rate of the resulting coatings in a 0.1 N sulfuric acid solution is 15-17 g / m 2 h.
Задачей заявленного изобретения является повышение рассеивающей способности электролита и коррозионной стойкости получаемых покрытий. The objective of the claimed invention is to increase the scattering ability of the electrolyte and the corrosion resistance of the resulting coatings.
Предложенный электролит для осаждения сплава цинк-сурьма, содержащий соли цинка и сурьмы и комплексообразователь, дополнительно содержит хлористый алюминий и выравниватель А (бензолсульфат метилдиэтиламинометил полигликолевого эфира алкилфенола), в качестве солей цинка и сурьмы он содержит хлористый цинк и хлористую сурьму, а в качестве комплексообразователя - трилон Б (динатриевую соль этилендиаминотетрауксусной кислоты) соответственно при следующем соотношении компонентов, г/л:
Хлористый цинк - 50-60
Хлористая сурьма - 5-10
Трилон Б - 69-71
Хлористый алюминий - 30-40
Выравниватель А - 3,5-4,5
Предлагаемый электролит отличается от известного тем, что в качестве соединений цинка и сурьмы используются хлористые соли этих металлов, а в качестве комплексообразователя - трилон Б и в состав электролита введены хлористый алюминий и органическая добавка выравниватель А (бензолсульфат метилдиэтиламинометил полигликолевого эфира алкилфенола).The proposed electrolyte for the deposition of zinc-antimony alloy, containing zinc and antimony salts and a complexing agent, additionally contains aluminum chloride and leveling agent A (benzene sulfate methyldiethylaminomethyl polyglycol ether of phenol), as zinc and antimony salts it contains zinc chloride and antimony chloride, and antimony - trilon B (disodium salt of ethylenediaminetetraacetic acid), respectively, in the following ratio of components, g / l:
Zinc Chloride - 50-60
Antimony Chloride - 5-10
Trilon B - 69-71
Aluminum Chloride - 30-40
Equalizer A - 3.5-4.5
The proposed electrolyte differs from the known one in that the chloride salts of these metals are used as zinc and antimony compounds, Trilon B is used as a complexing agent, and aluminum chloride and an organic additive equalizer A (benzene sulfate methyldiethylaminomethyl polyglycol ether of phenol) are introduced into the electrolyte.
Дополнительное введение хлорида алюминия, выравнивателя А и использование в качестве комплексона трилона Б (динатриевой соли этилендиаминтетрауксусной кислоты) обеспечивает повышение рассеивающей способности и коррозионной стойкости получаемых покрытий. The additional introduction of aluminum chloride, leveling agent A and the use of Trilon B (disodium salt of ethylenediaminetetraacetic acid) as a complexon provides an increase in the dispersing ability and corrosion resistance of the resulting coatings.
Использование трилона Б предотвращает гидролиз солей, позволяя получать стабильный электролит, т.к. ионы цинка и сурьмы связаны в очень прочные трилонатные комплексные соединения. The use of Trilon B prevents the hydrolysis of salts, allowing you to get a stable electrolyte, because Zinc and antimony ions are bonded to very strong trilonate complexes.
Добавление хлорида алюминия к электролиту повышает электропроводность раствора и улучшает равномерность распределения металла на катоде. Поверхностно-активное неионогенное вещество выравниватель А, адсорбируясь на катоде, ингибирует процесс восстановления ионов металла, одновременно улучшая смачиваемость осадков. Adding aluminum chloride to the electrolyte increases the conductivity of the solution and improves the uniform distribution of the metal at the cathode. The surfactant nonionic substance equalizer A, adsorbed on the cathode, inhibits the recovery of metal ions, while improving the wettability of the precipitates.
Электролит готовят растворением в отдельных порциях горячей воды (70-80oC) соли цинка, соли сурьмы и трилона Б. Раствор трилона Б вливают при перемешивании в полученные растворы, а затем смешивают их. К полученной смеси добавляют хлористый алюминий и выравниватель А.The electrolyte is prepared by dissolving zinc salts, antimony and trilon B salts in separate portions of hot water (70-80 o C). The trilon B solution is poured into the resulting solutions with stirring and then mixed. To the resulting mixture was added aluminum chloride and equalizer A.
Электроосаждение покрытий (толщина 10 - 15 мкм) ведут при катодной плотности 0,5-4 А/дм2, температуре 20-30oC, pH - 2,5-3,5 при перемешивании с использованием цинковых анодов.The electrodeposition of coatings (thickness 10-15 microns) is carried out at a cathode density of 0.5-4 A / dm 2 , a temperature of 20-30 o C, pH 2.5-3.5 with stirring using zinc anodes.
Конкретные примеры, иллюстрирующие использование изобретения, приведены в таблице. Specific examples illustrating the use of the invention are shown in the table.
Рассеивающая способность предлагаемого электролита за счет повышения поляризации катода при введении в его состав трилона Б и выравнивателя А увеличивается на 10% по сравнению с известным электролитом 1. Скорость коррозии сплавов, полученных из предлагаемого электролита, в 1,5 - 1,8 раза меньше, чем покрытий, осажденных из известного электролита. The dissipating ability of the proposed electrolyte due to increased polarization of the cathode when Trilon B and equalizer A are introduced into its composition increases by 10% compared to the known electrolyte 1. The corrosion rate of alloys obtained from the proposed electrolyte is 1.5-1.8 times lower. than coatings deposited from a known electrolyte.
Использование предлагаемого электролита позволяет осаждать светлые, прочно сцепленные со стальной основой покрытия. Покрытия не отслаиваются от основы после нагрева при 250oC в течение 1 часа и последующего резкого охлаждения.Using the proposed electrolyte allows you to precipitate light, firmly adhered to the steel base of the coating. The coatings do not peel off from the substrate after heating at 250 ° C. for 1 hour and subsequent rapid cooling.
Claims (1)
Хлористый цинк - 50 - 60
Хлористая сурьма - 5 - 10
Трилон Б - 69 - 71
Хлористый алюминий - 30 - 40
Выравниватель А - 3,5 - 4,5An electrolyte for the deposition of zinc-antimony alloy containing zinc and antimony salts and a complexing agent, characterized in that it additionally contains aluminum chloride and leveling agent A (benzene sulfate methyldiethylaminomethyl polyglycol ether of alkylphenol), as zinc and antimony salts it contains zinc chloride and antimony and as a complexing agent, Trilon B (disodium salt of ethylenediaminotetraacetic acid), respectively, with the following ratio of components, g / l:
Zinc Chloride - 50 - 60
Antimony Chloride - 5 - 10
Trilon B - 69 - 71
Aluminum Chloride - 30 - 40
Leveling device A - 3.5 - 4.5
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU99113651/02A RU2156324C1 (en) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | Electrolyte for deposition of zinc-antimony alloy |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU99113651/02A RU2156324C1 (en) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | Electrolyte for deposition of zinc-antimony alloy |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2156324C1 true RU2156324C1 (en) | 2000-09-20 |
Family
ID=20221760
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU99113651/02A RU2156324C1 (en) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | Electrolyte for deposition of zinc-antimony alloy |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2156324C1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114420917A (en) * | 2022-01-18 | 2022-04-29 | 山东大学深圳研究院 | Flexible zinc-antimony composite material and preparation method and application thereof |
CN114457393A (en) * | 2022-03-02 | 2022-05-10 | 中国计量大学 | Zinc-selenium-antimony electroplating solution and preparation method thereof |
-
1999
- 1999-06-22 RU RU99113651/02A patent/RU2156324C1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
ГАЛЬВАНИЧЕСКИЕ ПОКРЫТИЯ В МАШИНОСТРОЕНИИ. Справочник./Под ред. ШЛУГЕРА М.А. - М.: Машиностроение, т.1, с. 164-165, 174-175. * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114420917A (en) * | 2022-01-18 | 2022-04-29 | 山东大学深圳研究院 | Flexible zinc-antimony composite material and preparation method and application thereof |
CN114457393A (en) * | 2022-03-02 | 2022-05-10 | 中国计量大学 | Zinc-selenium-antimony electroplating solution and preparation method thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101502804B1 (en) | Pd and Pd-Ni electrolyte baths | |
CN110029374B (en) | Cyanide-free alkaline copper plating electroplating solution and electroplating process | |
Alesary et al. | Effect of sodium bromide on the electrodeposition of Sn, Cu, Ag and Ni from a deep eutectic solvent-based ionic liquid | |
JPWO2010044305A1 (en) | Electro-aluminum plating solution and method for forming aluminum plating film | |
JP2014194087A (en) | Method for obtaining yellow gold alloy deposits based on an electroplating method without using toxic metals or metalloids | |
JP4790191B2 (en) | Electrolytic bath for electrochemical deposition of palladium or its alloys | |
US2250556A (en) | Electrodeposition of copper and bath therefor | |
JPS60169588A (en) | Acidic zinc plating bath, acidic zinc alloy plating bath and process | |
US3879270A (en) | Compositions and process for the electrodeposition of metals | |
RU2156324C1 (en) | Electrolyte for deposition of zinc-antimony alloy | |
US4778575A (en) | Electrodeposition of magnesium and magnesium/aluminum alloys | |
US4615774A (en) | Gold alloy plating bath and process | |
US3634205A (en) | Method of plating a uniform copper layer on an apertured printed circuit board | |
FR2519656A1 (en) | PROCESS FOR THE ELECTROLYTIC COATING OF TRIVALENT CHROMIUM WITHOUT HEXAVALENT CHROMIUM ION FORMATION, USING A FERRITE ANODE | |
RU2118671C1 (en) | Zinc-plumbum alloy deposition electrolyte | |
RU2029798C1 (en) | Electrolyte for alloy zinc-cobalt precipitation | |
RU2106436C1 (en) | Electrolyte for depositing copper-nickel alloy | |
KR20200092882A (en) | Indium electroplating compositions and methods for electroplating indium on nickel | |
KR101012815B1 (en) | Tin plating solution for using in chip plating process | |
RU2105830C1 (en) | Electrolyte for depositing bismuth-lead alloy | |
RU2101395C1 (en) | Electrolyte for depositing copper-cobalt alloy | |
RU2197567C1 (en) | Electrolyte for precipitation of cobalt-bismuth alloy | |
JPS61223194A (en) | Electrodeposition bath of gold/tin alloy film | |
RU2134734C1 (en) | Electrolyte for deposition of copper-indium alloy | |
RU2343233C1 (en) | Electrolyte for deposition of alloy lead-indium |