RU2037474C1 - Способ получения просветляющего покрытия - Google Patents

Способ получения просветляющего покрытия Download PDF

Info

Publication number
RU2037474C1
RU2037474C1 SU3158340A RU2037474C1 RU 2037474 C1 RU2037474 C1 RU 2037474C1 SU 3158340 A SU3158340 A SU 3158340A RU 2037474 C1 RU2037474 C1 RU 2037474C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
silicon dioxide
layers
layer
antireflection coating
coating
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
В.А. Алексеев
Е.И. Лебедевич
С.П. Синельников
Г.С. Усоев
М.Г. Черенков
А.Л. Ямнов
В.И. ямпольский
Original Assignee
Обособленное научно-исследовательское подразделение по солнечной и точной оптике "СОЛТО" при Научно-производственном объединении "Астрофизика"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Обособленное научно-исследовательское подразделение по солнечной и точной оптике "СОЛТО" при Научно-производственном объединении "Астрофизика" filed Critical Обособленное научно-исследовательское подразделение по солнечной и точной оптике "СОЛТО" при Научно-производственном объединении "Астрофизика"
Priority to SU3158340 priority Critical patent/RU2037474C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2037474C1 publication Critical patent/RU2037474C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

Изобретение относится к технологическим процессам изготовления просветляющих покрытий оптических элементов. Сущность изобретения: на оптическую деталь последовательно наносят адгезионный слой двуокиси кремния с оптической толщиной λ/2 и просветвляющего покрытия из чередующихся слоев двуокиси кремния и вещества. Коэффициент преломления которого превышает коэффициент преломления двуокиси кремния, методом электронно-лучевого напыления. При этом на адгезионный слой двуокиси кремния наносят еще слой двуокиси кремния с оптической толщиной 2-3 λ, но кратной l/2. Нанесение всех слоев двуокиси кремния производят из заготовки кварца в атмосфере кислорода. Приводятся данные метода изготовления кварца и характеристика атмосферы кислорода. 2 ил.

Description

Изобретение относится к технологическим процессам, а именно к изготовлению просветляющих покрытий оптических элементов.
Известны способы получения просветляющих покрытий, заключающиеся в нанесении на оптическую деталь чередующихся слоев с высоким и низким коэффициентами преломления (авт. св. СССР NN 449893, 793956, кл. C 03 C 17/22; патенты США NN 3556646, 3674291, кл. 350-286).
Недостатком данных способов является малая лучевая прочность просветляющего покрытия, связанная с влиянием качества обработки поверхности оптической детали, поглощением излучения поверхностным нарушенным слоем оптической детали, нагревом просветляющего покрытия и его разрушением.
Известны способы получения просветляющих покрытий, заключающиеся в нанесении на оптическую деталь адгезионного слоя вещества с низким коэффициентом преломления и просветляющего покрытия из чередующихся слоев веществ с высоким и низким коэффициентами преломления (авт. св. СССР NN 966640, 1083144, кл. G 02 B 1/10; N 708916, кл. H 01 S 3/08).
Недостатком данных способов получения просветляющих покрытий является малая лучевая прочность просветляющего покрытия, связанная с влиянием качества обработки поверхностного слоя, поглощения излучения поверхностным нарушенным слоем оптической детали, выделением в нем большого количества тепла, нагревом адгезионного слоя и просветляющего покрытия и его разрушением. Также причиной низкой лучевой прочности являются поглощающие примеси в слоях просветляющего покрытия и адгезионном слое из-за примесей и включений в материале, из которого производится нанесение слоев электронно-лучевым способом, а также наличие примесей SiO в слоях двуокиси кремния из-за термического разложения напыляемой двуокиси кремния.
По технической сущности наиболее близким к заявляемому способу является способ получения просветляющего покрытия, заключающийся в последовательном нанесении на оптическую деталь адгезионного слоя двуокиси кремния с оптической толщиной λ /2 и просветляющего покрытия из чередующихся слоев двуокиси кремния и одного из окислов металлов с более высоким коэффициентом преломления, чем у двуокиси кремния, таких как TiO, Zr2O и т. д. методом электронно-лучевого напыления [1]
Недостатком данного способа является относительно низкая лучевая прочность получаемого просветляющего покрытия, связанная с низкой поверхностной лучевой прочностью материала оптической детали, которая в большой мере зависит от качества обработки поверхности оптической детали, внедренных в материал элемента остатков абразивных материалов, насыщения поверхностного трещиноватого слоя влагой, которые вызывают поглощение светового излучения в поверхностном слое, его нагрев и выход из строя просветляющего покрытия.
Лучевая прочность также снижена наличием поглощающих примесей в двуокиси кремния чередующихся слоев покрытия. Поглощающие примеси в слоях появляются из-за термического разложения двуокиси кварца до SiO, а также из-за наличия примесей в двуокиси кварца, из которого производится нанесение слоев двуокиси кремния.
Изобретение направлено на повышение лучевой прочности просветляющего покрытия.
Достигается это тем, что в способе получения просветляющего покрытия, заключающемся в последовательном нанесении на оптическую деталь адгезионного слоя двуокиси кремния с оптической толщиной λ /2 и просветляющего покрытия из чередующихся слоев двуокиси кремния и вещества с большим, чем у двуокиси кремния, коэффициентом преломления методом электронно-лучевого напыления, до нанесения слоев кварц, изготовленный методом парофазного синтеза, обрабатывают излучением с плотностью, составляющей от 0,7 до 0,9 от объемной лучевой прочности кварца, перед нанесением покрытия на адгезионный слой наносят на него слой двуокиси кремния с оптической толщиной 2-3 λ, но кратной λ/2, причем напыление всех слоев двуокиси кремния производят из предварительно обработанного кварца в атмосфере кислорода с давлением от 5˙10-5 до 5˙10-4 торр, очищенного от частиц с диаметром, большим чем 0,1 λ, где λ рабочая длина волны просветляющего покрытия.
Фиг. 1 и 2 поясняют предлагаемый способ.
Способ осуществляется следующим образом.
Заготовка из стекла, изготовленного методом парофазного синтеза, например кварца КУ-1 ГОСТ-15130-79 с государственным знаком качества, обрабатывается излучением с мощностью 5˙107Вт/см2 при длительности импульса 1˙10-3 с (объемная лучевая прочность данного кварца составляет (6-8) ˙107 Вт/см2). При этом кварцевая заготовка или разрушается, или остается целой. Из неразрушенной заготовки и производится напыление двуокиси кремния на оптическую деталь методом электронно-лучевого напыления, например, в вакуумной напылительной установке ВУ-1А.
Перед непосредственным нанесением слоев просветляющего покрытия на оптическую деталь, в камере напыления создают атмосферу кислорода при давлении, например, 1˙10-4 торр, причем кислород напускают в отвакуумированную камеру через фильтрующий элемент с тонкостью фильтрации 0,1 мкм, например фторопластовый фильтрующий элемент типа ФЭП. Затем производят напыление на деталь 1 (фиг. 1) слоев просветляющего покрытия в следующей последовательности, например, для длины волны просветления 1,06 мкм:
адгезионный слой 2 двуокиси кремния толщиной λ /2 (0,34 мкм);
буферный слой 3 двуокиси кремния толщиной 2,5 λ (1,71 мкм);
слой двуокиси циркония 4 толщиной 0,14 λ (0,078 мкм);
слой двуокиси кремния 5 толщиной 0,3λ (0,205 мкм).
Использование особо чистого кварца, изготовленного методом парофазного синтеза, и его предварительная обработка излучением позволяют вести нанесение слоев просветляющего покрытия двуокисью кремния, свободной от примесей, как по химическому составу, так и по случайным включениям, которые могут попадать в кварц в процессе изготовления. Обработка излучением выявляет случайные включения, т. к. они являются инициаторами разрушения качества при его облучении излучением околопороговой мощности. По количеству и размеру повреждений кварца можно отобрать наиболее чистые заготовки для нанесения слоев просветляющего покрытия. При высокотемпературном нагреве двуокиси кремния для ее испарения происходит частичное разложение двуокиси кремния до окиси кремния. Кислород, который находится в камере, вновь доокисляет окись кремния до двуокиси кремния. Очистка кислорода от механических частиц гарантирует невозможность попадания загрязняющих частиц в слои просветляющего покрытия. Чистота фильтрации определена по степени влияния поглощающих включений на стойкость слоев по теории Mu. Все эти мероприятия позволяют получать слои двуокиси кремния с малым коэффициентом поглощения и, следовательно, с меньшим нагревом при прохождении излучения через просветляющее покрытие, и более высокой лучевой прочностью.
Слой двуокиси кремния оптической толщиной 2-3 λ, нанесенный на адгезионный слой, позволяет исключить влияние термического сопротивления на границе адгезионного слоя и оптической детали из-за микронеровностей поверхности оптической детали и ее нарушенного поверхностного слоя, который сам является тепловыделяющим элементом при прохождении излучения через просветляющее покрытие. Тепло, выделяющееся в слое двуокиси циркония, который обладает высоким коэффициентом поглощения, беспрепятственно распространяется теплопроводностью в достаточно толстом слое двуокиси кремния, аккумулируется в нем, что в значительной мере снижает температуру слоя двуокиси циркония и, следовательно, повышает лучевую прочность, кроме этого, т. к. пленка двуокиси кремния обладает сжимающими напряжениями, то она служит аркой при частичном расплавлении и перегреве материала оптической детали без разрушения покрытия. Кратность оптической толщины слоя λ/2 не приводит к искажению волнового фронта и не препятствует прохождению излучения через него.
Общая толщина слоя ограничена снизу теплоаккумулирующими способностями (общей теплоемкостью) и сверху увеличением количества нарушений однородности слоя, большим количеством поглощающих включений и, следовательно, значительным снижением эффекта повышения лучевой прочности. Зависимость относительной лучевой прочности Eб/Eпр, где Eб лучевая прочность с буферным слоем и Eпр лучевая прочность прототипа (просветляющего покрытия), от толщины буферного слоя δ показана на фиг. 2 и подтверждается проведенными испытаниями.
Технические преимущества способа по сравнению с прототипом следующие:
большая лучевая прочность покрытия (примерно в 2 раза);
простота технологического выполнения;
изготовление просветляющего покрытия по данному способу производится на серийном оборудовании.

Claims (1)

  1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПРОСВЕТЛЯЮЩЕГО ПОКРЫТИЯ путем последовательного нанесения на оптическую деталь адгезионного слоя двуокиси кремния с оптической толщиной λ/2 и просветляющего покрытия из чередующихся слоев двуокиси кремния и вещества, коэффициент преломления которого превашает коэффициент преломления двуокиси кремния, методом электронно-лучевого напыления, отличающийся тем, что, с целью повышения прочности просветляющего покрытия, на адгезионный слой наносят слой двуокиси кремния с оптической толщиной 2-3λ, но кратной λ/2, нанесение всех слоев двуокиси кремния производят из заготовки кварца, изготовленного методом парофазного синтеза и обработанного излучением с плотностью, составляющей 0,7 0,9 объемной лучевой прочности кварца, причем нанесение всех слоев двуокиси кремния ведут в атмосфере кислорода с давлением 5 · 10- 5 5 · 10- 4 Торр, очищенного от частиц с диаметром большим, чем 0,1λ, где λ - рабочая длина волны просветляющего покрытия.
SU3158340 1986-12-22 1986-12-22 Способ получения просветляющего покрытия RU2037474C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU3158340 RU2037474C1 (ru) 1986-12-22 1986-12-22 Способ получения просветляющего покрытия

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU3158340 RU2037474C1 (ru) 1986-12-22 1986-12-22 Способ получения просветляющего покрытия

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2037474C1 true RU2037474C1 (ru) 1995-06-19

Family

ID=20928688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU3158340 RU2037474C1 (ru) 1986-12-22 1986-12-22 Способ получения просветляющего покрытия

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2037474C1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ОСТЗ-1901-73 "Покрытия оптических деталей" *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4783373A (en) Article with thin film coating having an enhanced emissivity and reduced absorption of radiant energy
JP2000034193A (ja) フッ化物単結晶の熱処理方法及び製造方法
JPS6045137B2 (ja) 多孔性非反射層を有する耐久ガラスの製造方法
US2834689A (en) Infrared transmitting medium and method of making same
NL9001542A (nl) Werkwijze en inrichting voor de productie van een cathodestraalbuis.
RU2037474C1 (ru) Способ получения просветляющего покрытия
CA1221545A (en) Process for producing image fiber
EP0101742B1 (en) Process for manufacturing optical multiple fiber
KR101050612B1 (ko) 고 굴절률의 광학 층을 제조하기 위한 증착 물질
US5032000A (en) Gradient index-type optical device and process for production thereof
US6855380B2 (en) Method for the production of optical components with increased stability, components obtained thereby and their use
US4088388A (en) O-Type optical waveguide
KR101616540B1 (ko) 성능이 향상된 광 코팅된 반도체 디바이스 및 관련 제조 방법
EP0687927B1 (en) Methods of manufacture of microporous silica coated silica fibers
JPH0585778A (ja) 反射防止膜を有する光学部品
JP2005232565A (ja) 薄膜の製造方法
JPH10115711A (ja) 光学薄膜の製造方法
JPS63170243A (ja) 反射防止膜の形成方法
JP4022657B2 (ja) 誘電体光学薄膜の製造方法
JPH09113744A (ja) 導波路及びその製造方法
JPH11142604A (ja) 光学薄膜およびその製造方法
DE102011054427A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines optischen Elements und optisches Element
JPH01166002A (ja) 反射防止膜の形成方法
JP2014024741A (ja) 光学素子の製造方法
JPH01102401A (ja) 反射防止膜の形成方法