RU2015104164A

RU2015104164A - Способ нанесения покрытия импульсами высокой мощности

Info

Publication number: RU2015104164A
Application number: RU2015104164A
Authority: RU
Inventors: Зигфрид КРАССНИТЦЕР; Денис КУРАПОВ
Original assignee: Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах
Priority date: 2012-07-10
Filing date: 2013-06-29
Publication date: 2016-08-27
Also published as: SG11201500131PA; CN104411863A; PH12015500057A1; RU2015104267A; WO2014008989A1; MY175241A; MY171167A; BR112015000350A2; HUE065108T2; CA2878324A1; MX2015000441A; PH12015500057B1; EP2872665A1; KR20210091840A; PH12015500056B1; WO2014008984A1; BR112015000253B1; EP2872666B1; EP2872665C0; JP2019090113A

Abstract

1. Способ нанесения покрытия на подложку посредством реакционного с плазменной поддержкой процесса распыления HiPIMS, отличающийся тем, что сначала определяют расход реакционного газа в зависимости от параметра нанесения покрытия или нескольких параметров нанесения покрытия, и для нанесения покрытия упомянутый или упомянутые параметры нанесения покрытия выбирают таким образом, что нанесение покрытия выполняют в переходном режиме, причем расход реакционного газа регулируют посредством установки упомянутого параметра нанесения покрытия или упомянутых параметров нанесения покрытия.2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что упомянутый параметр нанесения покрытия представляет собой парциальное давление реакционного газа.3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что расход реакционного газа регулируют таким образом, что он составляет, по существу, по меньшей мере 70% от максимального расхода реакционного газа4. Способ по п. 3, отличающийся тем, что парциальное давление реакционного газа устанавливают в диапазоне, нижняя граница которого приводит к максимальному расходу реакционного газа, и верхняя граница которого приводит к 70% от максимального расхода реакционного газа.5. Способ по п. 4, отличающийся тем, что мощность импульса повышают до тех пор, пока зависимость расхода реакционного газа от парциального давления реакционного газа не уменьшится таким образом, что процесс нанесения покрытия становится стабильнее.6. Способ по п. 2, отличающийся тем, что мощность импульса повышают до тех пор, пока зависимость расхода реакционного газа от парциального давления реакционного газа не уменьшится таким образом, что процесс нанесения покрытия становится

Claims

1. Способ нанесения покрытия на подложку посредством реакционного с плазменной поддержкой процесса распыления HiPIMS, отличающийся тем, что сначала определяют расход реакционного газа в зависимости от параметра нанесения покрытия или нескольких параметров нанесения покрытия, и для нанесения покрытия упомянутый или упомянутые параметры нанесения покрытия выбирают таким образом, что нанесение покрытия выполняют в переходном режиме, причем расход реакционного газа регулируют посредством установки упомянутого параметра нанесения покрытия или упомянутых параметров нанесения покрытия.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что упомянутый параметр нанесения покрытия представляет собой парциальное давление реакционного газа.

3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что расход реакционного газа регулируют таким образом, что он составляет, по существу, по меньшей мере 70% от максимального расхода реакционного газа

4. Способ по п. 3, отличающийся тем, что парциальное давление реакционного газа устанавливают в диапазоне, нижняя граница которого приводит к максимальному расходу реакционного газа, и верхняя граница которого приводит к 70% от максимального расхода реакционного газа.

5. Способ по п. 4, отличающийся тем, что мощность импульса повышают до тех пор, пока зависимость расхода реакционного газа от парциального давления реакционного газа не уменьшится таким образом, что процесс нанесения покрытия становится стабильнее.

6. Способ по п. 2, отличающийся тем, что мощность импульса повышают до тех пор, пока зависимость расхода реакционного газа от парциального давления реакционного газа не уменьшится таким образом, что процесс нанесения покрытия становится стабильнее.

7. Способ по п. 4, отличающийся тем, что длительность импульса повышают до тех пор, пока зависимость расхода реакционного газа от парциального давления реакционного газа не уменьшится таким образом, что процесс нанесения покрытия становится стабильнее.

8. Способ по п. 2, отличающийся тем, что длительность импульса повышают до тех пор, пока зависимость расхода реакционного газа от парциального давления реакционного газа не уменьшится таким образом, что процесс нанесения покрытия становится стабильнее.

9. Способ по п. 2, отличающийся тем, что устанавливают заданную высоту максимального расхода реакционного газа посредством установки плотности мощности в импульсе.

10. Способ по п. 3, отличающийся тем, что устанавливают заданную высоту максимального расхода реакционного газа посредством установки плотности мощности в импульсе.

11. Способ по любому из пп. 2-10, отличающийся тем, что для определения зависимости расхода реакционного газа от парциального давления реакционного газа выполняют способ со следующими этапами:

a) впуск реакционного газа в камеру нанесения покрытия, причем соответствующий поток реакционного газа измеряется и одновременно измеряется присутствующее в камере нанесения покрытия парциальное давление, без воспламенения плазмы;

b) впуск реакционного газа в камеру нанесения покрытия, причем соответствующий поток реакционного газа измеряется и одновременно измеряется присутствующее в камере нанесения покрытия парциальное давление, причем воспламеняется плазма;

c) повторение этапов а) и b) при нескольких различных потоках реакционного газа, и определение зависимости потока реакционного газа от парциального давления как с плазмой, так и без плазмы,

d) при заданном парциальном давлении вычитание значения потока реакционного газа, которое было определено без плазмы, из значения потока реакционного газа, которое было определено с плазмой, и уравнивание разности с расходом реакционного газа.

12. Способ по п. 11, отличающийся тем, что в качестве реакционного газа применяют азот.