RU2013106521A - Способ получения метаматериала и метаматериал - Google Patents

Способ получения метаматериала и метаматериал Download PDF

Info

Publication number
RU2013106521A
RU2013106521A RU2013106521/28A RU2013106521A RU2013106521A RU 2013106521 A RU2013106521 A RU 2013106521A RU 2013106521/28 A RU2013106521/28 A RU 2013106521/28A RU 2013106521 A RU2013106521 A RU 2013106521A RU 2013106521 A RU2013106521 A RU 2013106521A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electromagnetic wave
support
wave resonator
producing
metamaterial
Prior art date
Application number
RU2013106521/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Кендзи КИТАОКА
Казухико НИВАНО
Original Assignee
Асахи Гласс Компани, Лимитед
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Асахи Гласс Компани, Лимитед filed Critical Асахи Гласс Компани, Лимитед
Publication of RU2013106521A publication Critical patent/RU2013106521A/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P7/00—Resonators of the waveguide type
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0005—Separation of the coating from the substrate
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/002—Pretreatement
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/002—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of materials engineered to provide properties not available in nature, e.g. metamaterials
    • G02B1/007—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of materials engineered to provide properties not available in nature, e.g. metamaterials made of negative effective refractive index materials
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P11/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing waveguides or resonators, lines, or other devices of the waveguide type
    • H01P11/008—Manufacturing resonators
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/60—Deposition of organic layers from vapour phase
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
    • B05D5/12—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain a coating with specific electrical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0254—Physical treatment to alter the texture of the surface, e.g. scratching or polishing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10—Methods of surface bonding and/or assembly therefor

Abstract

1. Способ получения метаматериала, содержащего резонатор электромагнитных волн, резонирующий с электромагнитной волной, при этом способ содержит: осаждение из паровой фазы материала, который может образовывать резонатор электромагнитных волн, на опору, имеющую конфигурацию, соответствующую конфигурации резонатора электромагнитных волн, чтобы тем самым расположить резонатор электромагнитных волн на опоре.2. Способ получения метаматериала по п. 1, в котором материал, который может образовывать резонатор электромагнитных волн, осаждают из паровой фазы физическим осаждением из паровой фазы, чтобы тем самым расположить резонатор электромагнитных волн на опоре.3. Способ получения метаматериала по п. 1, в котором материал, который может образовывать резонатор электромагнитных волн, осаждают из паровой фазы на опору с двух или более различных направлений.4. Способ получения метаматериала по п. 3, в котором опора имеет конфигурацию, имеющую выпуклую криволинейную поверхность, соответствующую конфигурации резонатора электромагнитных волн, при этом материал, который может образовывать резонатор электромагнитных волн, осаждают из паровой фазы на выпуклую криволинейную поверхность опоры.5. Способ получения метаматериала по п. 3, в котором диэлектрик осаждают из паровой фазы на опору, а электропроводный материал и/или диэлектрик дополнительно осаждают из паровой фазы на него.6. Способ получения метаматериала по п. 5, в котором опора имеет множество плоских поверхностей, при этом плоские поверхности из множества имеют разность уровней относительно друг друга.7. Способ получения метаматериала по п. 3, в котором материал

Claims (12)

1. Способ получения метаматериала, содержащего резонатор электромагнитных волн, резонирующий с электромагнитной волной, при этом способ содержит: осаждение из паровой фазы материала, который может образовывать резонатор электромагнитных волн, на опору, имеющую конфигурацию, соответствующую конфигурации резонатора электромагнитных волн, чтобы тем самым расположить резонатор электромагнитных волн на опоре.
2. Способ получения метаматериала по п. 1, в котором материал, который может образовывать резонатор электромагнитных волн, осаждают из паровой фазы физическим осаждением из паровой фазы, чтобы тем самым расположить резонатор электромагнитных волн на опоре.
3. Способ получения метаматериала по п. 1, в котором материал, который может образовывать резонатор электромагнитных волн, осаждают из паровой фазы на опору с двух или более различных направлений.
4. Способ получения метаматериала по п. 3, в котором опора имеет конфигурацию, имеющую выпуклую криволинейную поверхность, соответствующую конфигурации резонатора электромагнитных волн, при этом материал, который может образовывать резонатор электромагнитных волн, осаждают из паровой фазы на выпуклую криволинейную поверхность опоры.
5. Способ получения метаматериала по п. 3, в котором диэлектрик осаждают из паровой фазы на опору, а электропроводный материал и/или диэлектрик дополнительно осаждают из паровой фазы на него.
6. Способ получения метаматериала по п. 5, в котором опора имеет множество плоских поверхностей, при этом плоские поверхности из множества имеют разность уровней относительно друг друга.
7. Способ получения метаматериала по п. 3, в котором материал опоры представляет собой материал, проницаемый для электромагнитной волны.
8. Способ получения метаматериала по п. 1, в котором резонатор электромагнитных волн, который перенесен на материал, обладающий адгезионной способностью, ламинируют, после чего следует объединение.
9. Способ получения метаматериала по п. 1, в котором резонатор электромагнитных волн, который образован на опоре, переносят на материал, обладающий адгезионной способностью, и затем резонатор электромагнитных волн отделяют от опоры с тем, чтобы снять.
10. Способ получения метаматериала по п. 1, в котором резонатор электромагнитных волн диспергируют в жидкости, состоящей из материала, после затвердевания являющегося диэлектриком, прозрачным для электромагнитной волны, или в жидкости, содержащей материал, после затвердевания являющийся диэлектриком, прозрачным для электромагнитной волны, после чего следует затвердевание.
11. Метаматериал, содержащий опору, имеющую конфигурацию, имеющую множество столбиков; и резонатор электромагнитных волн, который расположен на опоре, покрывает по меньшей мере часть опоры материалом, отличающимся от опоры, и резонирует с электромагнитной волной,
при этом резонатор электромагнитных волн имеет приблизительно незамкнутую четырехугольную форму или приблизительно U-образную форму, при этом приблизительно незамкнутая четырехугольная форма или приблизительно U-образная форма имеет две концевые части, отличающиеся длиной.
12. Метаматериал, содержащий опору, которая имеет различные высоту, ширину и/или глубину и имеет конфигурацию, имеющую множество столбиков; и резонатор электромагнитных волн, который расположен на опоре, покрывает по меньшей мере часть опоры материалом, отличающимся от опоры, и резонирует с электромагнитной волной,
при этом резонатор электромагнитных волн имеет приблизительно незамкнутую четырехугольную форму или приблизительно U-образную форму.
RU2013106521/28A 2010-07-15 2011-07-14 Способ получения метаматериала и метаматериал RU2013106521A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010-160956 2010-07-15
JP2010160956 2010-07-15
PCT/JP2011/066162 WO2012008551A1 (ja) 2010-07-15 2011-07-14 メタマテリアルの製造方法およびメタマテリアル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2013106521A true RU2013106521A (ru) 2014-08-20

Family

ID=45469546

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013106521/28A RU2013106521A (ru) 2010-07-15 2011-07-14 Способ получения метаматериала и метаматериал

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9130250B2 (ru)
EP (1) EP2594971A1 (ru)
JP (1) JP5803916B2 (ru)
CN (1) CN102985857B (ru)
RU (1) RU2013106521A (ru)
TW (1) TW201215932A (ru)
WO (1) WO2012008551A1 (ru)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6116005B2 (ja) * 2013-08-27 2017-04-19 国立大学法人東京工業大学 メタマテリアルの製造方法
US20150069667A1 (en) * 2013-09-12 2015-03-12 Yi Li Nano-parts fabrication method
CA2952641A1 (en) 2014-06-20 2015-12-23 Patrick K. Brady System for converting electromagnetic radiation to electrical energy using metamaterials
WO2016044104A1 (en) * 2014-09-15 2016-03-24 California Institute Of Technology Simultaneous polarization and wavefront control using a planar device
CN105116489B (zh) * 2015-09-15 2018-08-21 中国计量学院 一种非对称开口环超材料波导结构高q谐振装置
CN105206904B (zh) * 2015-09-25 2019-06-14 中国人民解放军空军工程大学 基于高介低损全介质超材料的双通带频率选择表面
CN106299718B (zh) * 2016-11-15 2019-04-19 中国人民解放军空军工程大学 一种基于介电材料的极化旋转超材料及其制作方法
CN106785468B (zh) * 2017-01-11 2019-10-18 中国人民解放军空军工程大学 一种吸波-透波一体化超材料
CN108695585B (zh) * 2017-04-12 2021-03-16 日本电产株式会社 高频构件的制造方法
CA3075792C (en) 2017-09-15 2022-10-04 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Metal particle annular structure, insulator-coated metal particle annular structure, and composition
CN110260981B (zh) * 2017-09-30 2020-06-12 烟台睿创微纳技术股份有限公司 一种基于超表面的非制冷红外成像传感器
CN107728248B (zh) * 2017-10-16 2019-06-28 中国科学院物理研究所 双频带圆偏振选择器及其制备方法
US10211029B1 (en) 2018-01-10 2019-02-19 Lockheed Martin Corporation Acoustic manipulation of plasma for arbitrary plasma metamaterial formation
CN109256620B (zh) * 2018-08-21 2021-01-12 四川大学 一种基于动态调控等效能级的太赫兹宽频带负折射率超材料结构
KR20210064240A (ko) 2018-10-22 2021-06-02 캘리포니아 인스티튜트 오브 테크놀로지 3d 엔지니어링된 재료에 기반한 컬러 및 다중-스펙트럼 이미지 센서
US10522897B1 (en) 2019-02-05 2019-12-31 Pivotal Commware, Inc. Thermal compensation for a holographic beam forming antenna
US10468767B1 (en) 2019-02-20 2019-11-05 Pivotal Commware, Inc. Switchable patch antenna
JP7386525B2 (ja) 2019-03-20 2023-11-27 国立大学法人電気通信大学 円二色性フィルタ、光学素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、及び円二色性フィルタの製造方法
JP7132660B2 (ja) * 2019-03-27 2022-09-07 国立大学法人東北大学 ３次元等方性メタマテリアル、その製造方法、及びそのメタマテリアルを備えたテラヘルツ領域光学素子
CN110146463B (zh) * 2019-04-15 2020-08-07 枣庄学院 一种多频点谐振生物传感器
WO2020230694A1 (ja) * 2019-05-16 2020-11-19 ソニー株式会社 移動体
CN110165419B (zh) * 2019-05-21 2021-03-02 南京邮电大学 一种基于高温超导体的可调谐型单向吸收吸波器
WO2022056024A1 (en) 2020-09-08 2022-03-17 Pivotal Commware, Inc. Installation and activation of rf communication devices for wireless networks
US11574619B2 (en) * 2020-09-29 2023-02-07 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Acoustic structure for beaming soundwaves
JP2024504621A (ja) 2021-01-15 2024-02-01 ピヴォタル コムウェア インコーポレイテッド ミリ波通信ネットワークのためのリピータの設置
AU2022307056A1 (en) 2021-07-07 2024-02-15 Pivotal Commware, Inc. Multipath repeater systems
CN113703247B (zh) * 2021-09-03 2023-05-16 北京索通新动能科技有限公司 一种基于非对称超表面的载流子色散型全光开关
CN113745778B (zh) * 2021-09-03 2022-03-29 合肥工业大学 一种双频段极化敏感带阻滤波器的制备方法
US20230126395A1 (en) * 2021-10-26 2023-04-27 Pivotal Commware, Inc. Rf absorbing structures
US11937199B2 (en) 2022-04-18 2024-03-19 Pivotal Commware, Inc. Time-division-duplex repeaters with global navigation satellite system timing recovery

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6122103A (en) 1999-06-22 2000-09-19 Moxtech Broadband wire grid polarizer for the visible spectrum
US6501439B2 (en) * 2000-05-26 2002-12-31 Tyco Electronics Logistics Ag Flexible substrate wide band, multi-frequency antenna system
US7138288B2 (en) * 2003-03-28 2006-11-21 Citizen Watch Co., Ltd. Method for manufacturing small crystal resonator
ATE531669T1 (de) 2003-06-10 2011-11-15 Asahi Glass Co Ltd Herstellungsverfahren für feines metallhydridteilchen, feines metallhydridteilchen enthaltende flüssige dispersion und metallisches material
CN101080656B (zh) * 2004-12-16 2011-04-20 东丽株式会社 偏振光片、其制造方法和使用该偏振光片的液晶显示装置
KR101319775B1 (ko) 2005-04-21 2013-10-17 아사히 가라스 가부시키가이샤 광경화성 조성물, 미세 패턴 형성체 및 그 제조 방법
JP4669744B2 (ja) 2005-06-20 2011-04-13 独立行政法人理化学研究所 光学材料、それを用いた光学素子およびその作製方法
JP2007041243A (ja) * 2005-08-03 2007-02-15 Namiki Precision Jewel Co Ltd 偏光子
JP2007269530A (ja) 2006-03-30 2007-10-18 Kyoto Univ 鉛フリー低融点ガラス及びその製造方法
CN101295131B (zh) * 2006-11-03 2011-08-31 中国科学院物理研究所 一种在绝缘衬底上制备纳米结构的方法
TWI431338B (zh) * 2007-01-12 2014-03-21 Toray Industries 偏光板及使用它之液晶顯示裝置
JP2008263129A (ja) 2007-04-13 2008-10-30 Asahi Glass Co Ltd プリント配線板の製造方法
JP5264113B2 (ja) 2007-07-13 2013-08-14 旭化成イーマテリアルズ株式会社 光硬化性樹脂組成物及び、成型体及び、成型体の製造方法
JP2009046742A (ja) * 2007-08-22 2009-03-05 Toppan Printing Co Ltd メタルワイヤーパタンの製造方法、バックライトシステム及びそれらを用いた液晶ディスプレイ
JP2009057518A (ja) 2007-09-03 2009-03-19 Institute Of Physical & Chemical Research 異方性フィルムおよび異方性フィルムの製造方法
JP5470693B2 (ja) 2007-09-19 2014-04-16 東レ株式会社 成形型用硬化性樹脂組成物、成形型の製造方法、構造体の製造方法およびディスプレイ用部材の製造方法
WO2009125827A1 (ja) * 2008-04-11 2009-10-15 株式会社日立製作所 人工構造物質素子及びその製造方法
US9116302B2 (en) * 2008-06-19 2015-08-25 Ravenbrick Llc Optical metapolarizer device
JP5671455B2 (ja) * 2009-01-21 2015-02-18 レイブンブリック，エルエルシー 光学的メタポラライザ・デバイス
US8197887B1 (en) * 2009-07-30 2012-06-12 Sandia Corporation Three-dimensional metamaterials

Also Published As

Publication number Publication date
CN102985857A (zh) 2013-03-20
CN102985857B (zh) 2016-02-24
JP5803916B2 (ja) 2015-11-04
JPWO2012008551A1 (ja) 2013-09-09
TW201215932A (en) 2012-04-16
WO2012008551A1 (ja) 2012-01-19
US20130141190A1 (en) 2013-06-06
US9130250B2 (en) 2015-09-08
EP2594971A1 (en) 2013-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2013106521A (ru) Способ получения метаматериала и метаматериал
JP2008525997A5 (ru)
WO2013014406A3 (en) Electromagnetic radiation absorber
WO2013012840A3 (en) Method and apparatus for manufacturing a resonating structure
WO2010096366A3 (en) Planar antenna having multi-polarization capability and associated methods
FR2936049B1 (fr) Resonateur a metallisation partielle pour detecteur de parametre angulaire.
FR2965669B1 (fr) Reflecteur d'antenne large bande pour une antenne filaire plane a polarisation circulaire et procede de realisation du deflecteur d'antenne
JP2012191121A5 (ru)
EP2584647A3 (en) Communication device and antenna structure thereof
JP2014229779A5 (ru)
WO2013015935A3 (en) Methods of forming graphene-containing switches
WO2015061642A3 (en) Multi-layer wireless sensor construct for use at electrically-conductive material surfaces
EA201590322A1 (ru) Солнечный элемент с резонатором для использования в энергетике
WO2011157883A8 (en) Method for manufacturing an autocompensating antenna structure by etching
JP2014216751A (ja) 基板及びアンテナ
JP2015035679A5 (ru)
UA110230C2 (en) Photovoltaic element including a resonator
JP2013520645A5 (ru)
JP2013150324A5 (ru)
CN202373690U (zh) 全向圆极化天线
CN204441426U (zh) 一种基于石墨烯的太赫兹调谐器件
RU2015155372A (ru) Структуры для динамически настроенного звука в устройстве хранения данных
GB2573051A (en) Enhanced antenna systems
CN204089748U (zh) 一种采用平板陶瓷基座封装的石英晶体谐振器
CN204927529U (zh) 宽频带金属膜式地面波数字电视接收天线

Legal Events

Date Code Title Description
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20150820