RU2012151908A - Управление облучением посредством кубических уголковых отражателей - Google Patents

Управление облучением посредством кубических уголковых отражателей Download PDF

Info

Publication number
RU2012151908A
RU2012151908A RU2012151908/07A RU2012151908A RU2012151908A RU 2012151908 A RU2012151908 A RU 2012151908A RU 2012151908/07 A RU2012151908/07 A RU 2012151908/07A RU 2012151908 A RU2012151908 A RU 2012151908A RU 2012151908 A RU2012151908 A RU 2012151908A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
irradiation
radiation
influence
material containing
corner reflectors
Prior art date
Application number
RU2012151908/07A
Other languages
English (en)
Inventor
Дон У. Кокран
Original Assignee
Пресско АйПи ЛЛК
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Пресско АйПи ЛЛК filed Critical Пресско АйПи ЛЛК
Publication of RU2012151908A publication Critical patent/RU2012151908A/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/12—Reflex reflectors
    • G02B5/122—Reflex reflectors cube corner, trihedral or triple reflector type
    • G02B5/124—Reflex reflectors cube corner, trihedral or triple reflector type plural reflecting elements forming part of a unitary plate or sheet
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24C—DOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
    • F24C15/00—Details
    • F24C15/22—Reflectors for radiation heaters
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24C—DOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
    • F24C7/00—Stoves or ranges heated by electric energy
    • F24C7/04—Stoves or ranges heated by electric energy with heat radiated directly from the heating element
    • F24C7/046—Ranges
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/30—Details, accessories or equipment specially adapted for furnaces of these types
    • F27B9/32—Casings
    • F27B9/34—Arrangements of linings
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D1/00—Casings; Linings; Walls; Roofs
    • F27D1/0003—Linings or walls
    • F27D1/0036—Linings or walls comprising means for supporting electric resistances in the furnace
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
    • H10F77/40—Optical elements or arrangements
    • H10F77/413—Optical elements or arrangements directly associated or integrated with the devices, e.g. back reflectors
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/06—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity heated without contact between combustion gases and charge; electrically heated
    • F27B9/062—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity heated without contact between combustion gases and charge; electrically heated electrically heated

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Electric Stoves And Ranges (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
  • Control Of Resistance Heating (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Radiation-Therapy Devices (AREA)

Abstract

1. Устройство для обработки или преобразования объекта воздействия посредством облучения, содержащее:источник облучения, предназначенный для генерации и направления облучения на объект воздействия, при этом объект воздействия поглощает часть направленного на него облучения;зону облучения, в которую для облучения помещают указанный объект воздействия, причем границы зоны облучения по меньшей мере частично заданы соседним материалом, содержащим систему кубических уголковых отражателей и обеспечивающим отражение обратно на объект воздействия облучения, представляющего собой по меньшей мере одно из перечисленного: облучение, отраженное объектом воздействия; облучение, рассеянное обратно объектом воздействия; облучение, прошедшее сквозь объект воздействия.2. Устройство по п.1, представляющее собой печь для приготовления пищи, причем объектом воздействия является пищевой или органический объект.3. Устройство по любому из пп.1 и 2, входящее в состав устройства для формования бутылок, причем объектом воздействия является заготовка для пластиковой бутылки.4. Устройство по любому из пп.1 и 2, в котором материал, содержащий кубические уголковые отражатели, снабжен по меньшей мере одним окошком, через которое облучение можно направлять сквозь указанный материал на объект воздействия.5. Устройство по любому из пп.1 и 2, в котором материал, содержащий кубические уголковые отражатели, включает в себя часть пространства зоны облучения.6. Устройство по любому из пп.1 и 2, в котором материал, содержащий кубические уголковые отражатели, покрывает по существу всю внутреннюю поверхность зоны облучения за исключением источни�

Claims (15)

1. Устройство для обработки или преобразования объекта воздействия посредством облучения, содержащее:
источник облучения, предназначенный для генерации и направления облучения на объект воздействия, при этом объект воздействия поглощает часть направленного на него облучения;
зону облучения, в которую для облучения помещают указанный объект воздействия, причем границы зоны облучения по меньшей мере частично заданы соседним материалом, содержащим систему кубических уголковых отражателей и обеспечивающим отражение обратно на объект воздействия облучения, представляющего собой по меньшей мере одно из перечисленного: облучение, отраженное объектом воздействия; облучение, рассеянное обратно объектом воздействия; облучение, прошедшее сквозь объект воздействия.
2. Устройство по п.1, представляющее собой печь для приготовления пищи, причем объектом воздействия является пищевой или органический объект.
3. Устройство по любому из пп.1 и 2, входящее в состав устройства для формования бутылок, причем объектом воздействия является заготовка для пластиковой бутылки.
4. Устройство по любому из пп.1 и 2, в котором материал, содержащий кубические уголковые отражатели, снабжен по меньшей мере одним окошком, через которое облучение можно направлять сквозь указанный материал на объект воздействия.
5. Устройство по любому из пп.1 и 2, в котором материал, содержащий кубические уголковые отражатели, включает в себя часть пространства зоны облучения.
6. Устройство по любому из пп.1 и 2, в котором материал, содержащий кубические уголковые отражатели, покрывает по существу всю внутреннюю поверхность зоны облучения за исключением источников облучения.
7. Устройство по любому из пп.1 и 2, в котором материал, содержащий кубические уголковые отражатели, расположен по меньшей мере в некоторых ключевых областях, в которых предположительно потребуется повторное направление рассеянного облучения на объект воздействия.
8. Устройство по п.3, в котором материал, содержащий кубические уголковые отражатели, расположен по окружности вокруг продольной оси заготовки, с обеспечением при этом возможности доступа для подачи заготовок в камеру облучения и возврата заготовок из камеры облучения с целью повышения скорости обработки.
9. Устройство по п.8, в котором доступ предусматривает возможность линейной или дугообразной траектории перемещения по камере облучения.
10. Устройство по п.3, в котором материал, содержащий кубические уголковые отражатели, окружает заготовку, образуя камеру облучения по меньшей мере часть времени, в течение которого осуществляется ее облучение.
11. Устройство по любому из пп.1 и 2, 8-10, в котором материал, содержащий кубические уголковые отражатели, снабжен покрытием по меньшей мере на передней или задней своей поверхности и отражает по меньшей мере 85% длин волн.
12. Устройство по любому из пп.1 и 2, 8-10, в котором угол приема системы кубических уголковых отражателей равен ±45°.
13. Способ обработки или преобразования объекта воздействия посредством облучения, предусматривающий:
облучение объекта воздействия посредством источника облучения в зоне облучения, при котором объект воздействия поглощает по меньшей мере часть облучения;
отражение обратно на объект воздействия облучения, представляющего собой по меньшей мере одно из перечисленного: облучение, отраженное объектом воздействия; облучение, рассеянное обратно объектом воздействия; облучение, прошедшее сквозь объект воздействия, для чего используют соседний материал, содержащий систему кубических уголковых отражателей и задающий, по меньшей мере частично, границы зоны облучения.
14. Способ по п.13, в котором облучение осуществляют с целью по меньшей мере одного из перечисленного: нагрев, сушка, отверждение, дегидратация объекта воздействия.
15. Способ по любому из пп.13 и 14, предусматривающий по меньшей мере одно из перечисленного:
схема облучения реализована внутри печи для приготовления пищи, при этом объектом воздействия является пищевой либо органический продукт;
схема облучения реализована внутри устройства для формования бутылок, при этом объектом воздействия является заготовка для пластиковой бутылки.
RU2012151908/07A 2010-05-07 2011-05-06 Управление облучением посредством кубических уголковых отражателей RU2012151908A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US33251210P 2010-05-07 2010-05-07
US61/332,512 2010-05-07
PCT/US2011/035569 WO2011140472A2 (en) 2010-05-07 2011-05-06 Corner-cube irradiation control

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2012151908A true RU2012151908A (ru) 2014-06-20

Family

ID=44904507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012151908/07A RU2012151908A (ru) 2010-05-07 2011-05-06 Управление облучением посредством кубических уголковых отражателей

Country Status (8)

Country Link
US (2) US11774648B2 (ru)
EP (1) EP2567393B1 (ru)
JP (1) JP2013542549A (ru)
CN (1) CN103430276B (ru)
BR (1) BR112012028574A2 (ru)
CA (1) CA2798454A1 (ru)
RU (1) RU2012151908A (ru)
WO (1) WO2011140472A2 (ru)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8815059B2 (en) * 2010-08-31 2014-08-26 Guardian Industries Corp. System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation
US11774648B2 (en) * 2010-05-07 2023-10-03 Pti Ip Llc Corner-cube irradiation control
US8929724B1 (en) * 2011-02-07 2015-01-06 J.C. Penney Purchasing Corporation, Inc. High efficiency oven and method of use
GB201114048D0 (en) * 2011-08-16 2011-09-28 Intrinsiq Materials Ltd Curing system
FR2982790B1 (fr) * 2011-11-21 2014-03-14 Sidel Participations Unite de traitement thermique d'ebauches de recipients a double paroi rayonnante en quinconce
US9357590B2 (en) 2012-03-14 2016-05-31 Microwave Materials Technologies, Inc. Microwave heating system with enhanced temperature control
US9320201B2 (en) * 2013-12-20 2016-04-26 Elwha Llc Reflective articles and methods for increasing photosynthesis
FR3018724B1 (fr) * 2014-03-19 2016-12-09 Sidel Participations Unite de traitement d'ebauches equipee d'une section de confinement optique a parois convergentes
DE102015224800A1 (de) * 2015-12-10 2017-06-14 BSH Hausgeräte GmbH Muffel und Haushaltsgargerät
SG11201807356VA (en) 2016-03-22 2018-09-27 Lyteloop Technologies Llc Data in motion storage system and method
US11129243B2 (en) 2017-03-15 2021-09-21 915 Labs, Inc. Multi-pass microwave heating system
MX2019011013A (es) 2017-03-15 2019-11-01 915 Labs Llc Elementos de control de energía para calentamiento por microondas mejorado de artículos envasados.
SG11201908588QA (en) 2017-04-17 2019-10-30 915 Labs Llc Microwave-assisted sterilization and pasteurization system using synergistic packaging, carrier and launcher configurations
WO2020028716A1 (en) * 2018-08-02 2020-02-06 Lyteloop Technologies, Llc Apparatus and method for storing wave signals in a cavity
ES2939349T3 (es) 2018-08-10 2023-04-21 Nkb Properties Man Llc Sistema y procedimiento para ampliar la longitud de la trayectoria de una señal de onda mediante multiplexación angular
BR112021004133A8 (pt) 2018-11-05 2023-05-09 Lyteloop Tech Llc Sistemas e métodos para construir, operar e controlar múltiplos amplificadores, regeneradores e transceptores usando os componentes comuns compartilhados
US12280396B2 (en) 2019-04-19 2025-04-22 Photex Inc. Narrowband can manufacturing
KR102922341B1 (ko) 2019-04-19 2026-02-05 포텍스 인코포레이티드 캔 내부 경화 시스템 및 방법
KR20230033704A (ko) * 2020-06-10 2023-03-08 포텍스 인코포레이티드 협대역 캔 제조

Family Cites Families (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2682807A (en) * 1949-12-10 1954-07-06 Gen Motors Corp Signal reflector
US4082414A (en) 1976-03-03 1978-04-04 Pyreflex Corporation Heat recuperation
US4066331A (en) * 1976-06-25 1978-01-03 Beatrice Foods Co. Cube corner type retroreflectors with improved cube corner unit relationships
US4095773A (en) * 1976-11-18 1978-06-20 Beatrice Foods Co. Subassemblies for cube corner type retroreflector molds
US4398587A (en) 1978-06-20 1983-08-16 Boyd Michael D Radiant energy reflector device
EP0018798B1 (en) 1978-11-08 1983-06-08 LUCAS INDUSTRIES public limited company Reflex reflector device
JPS561289A (en) 1979-06-14 1981-01-08 Ricoh Co Ltd Beam reflector
USRE31765E (en) * 1979-11-27 1984-12-11 Sunset Ltd. Counter-top oven
US4344673A (en) * 1980-09-29 1982-08-17 Swedlow, Inc. Focusing reflector
US4586485A (en) * 1983-11-11 1986-05-06 Daikin Kogyo Co., Ltd. Heating drum for radiant heater and method of manufacture thereof
DE69627895T2 (de) * 1995-07-28 2004-05-19 Nippon Carbide Kogyo K.K. Herstellungsverfahren von mikroprismenmatrixen
DE19727527C5 (de) * 1997-06-30 2015-02-19 Hans-Erich Gubela sen. Auf der Retroreflexion eines Laserstrahlers basierende Sensoreinrichtung
US6013900A (en) 1997-09-23 2000-01-11 Quadlux, Inc. High efficiency lightwave oven
DE19927527B4 (de) 1999-06-16 2007-02-08 Siltronic Ag Verfahren zur naßchemischen Behandlung einer Halbleiterscheibe
US6361301B1 (en) 2000-02-21 2002-03-26 Plastipak Packaging, Inc. Heater assembly for blow molding plastic preforms
US7015422B2 (en) 2000-12-21 2006-03-21 Mattson Technology, Inc. System and process for heating semiconductor wafers by optimizing absorption of electromagnetic energy
US6970644B2 (en) 2000-12-21 2005-11-29 Mattson Technology, Inc. Heating configuration for use in thermal processing chambers
CN1241731C (zh) 2001-03-08 2006-02-15 信越半导体株式会社 热射线反射材料和使用热射线反射材料的加热装置
US6531680B2 (en) * 2001-04-06 2003-03-11 W. A. Whitney Co. Cube corner laser beam retroreflector apparatus for a laser equipped machine tool
US6596997B2 (en) * 2001-08-03 2003-07-22 Irvine Sensors Corporation Retro-reflector warm stop for uncooled thermal imaging cameras and method of using the same
DE10141639A1 (de) 2001-08-24 2003-03-06 Sig Pettec Gmbh & Co Kg Vorrichtung zur Temperierung von Vorformlingen
US7004317B2 (en) 2002-04-12 2006-02-28 Wilson Sporting Goods Co. Environmentally controlled sports equipment bag
JP2003315516A (ja) * 2002-04-18 2003-11-06 Three M Innovative Properties Co 反射積層体
JP2004039002A (ja) 2002-06-28 2004-02-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光ディスク装置、並びに、ピックアップ制御装置および方法
US20060091120A1 (en) * 2002-11-06 2006-05-04 Markle David A Recycling optical systems and methods for thermal processing
US7154066B2 (en) 2002-11-06 2006-12-26 Ultratech, Inc. Laser scanning apparatus and methods for thermal processing
US6871966B2 (en) 2002-12-12 2005-03-29 Avery Dennison Corporation Retroreflector with controlled divergence made by the method of localized substrate stress
EP1625775A1 (en) * 2003-05-20 2006-02-15 Biotage AB Microwave heating device
JP4125200B2 (ja) * 2003-08-04 2008-07-30 キヤノン株式会社 座標入力装置
US20050189329A1 (en) * 2003-09-02 2005-09-01 Somit Talwar Laser thermal processing with laser diode radiation
GB0401389D0 (en) * 2004-01-22 2004-02-25 Remtons Ltd Illumination method and apparatus
US7329447B2 (en) * 2004-04-01 2008-02-12 3M Innovative Properties Company Retroreflective sheeting with controlled cap-Y
DE202004010454U1 (de) 2004-07-03 2004-09-30 Krones Ag Heizofen für Vorformlinge
JP2006024860A (ja) 2004-07-09 2006-01-26 Sony Corp レーザ照射装置及びレーザ照射におけるレンズ調整方法
JP2006069094A (ja) 2004-09-03 2006-03-16 Nippon Carbide Ind Co Inc 再帰反射シート
FR2878185B1 (fr) 2004-11-22 2008-11-07 Sidel Sas Procede de fabrication de recipients comprenant une etape de chauffe au moyen d'un faisceau de rayonnement electromagnetique coherent
US7425296B2 (en) * 2004-12-03 2008-09-16 Pressco Technology Inc. Method and system for wavelength specific thermal irradiation and treatment
US10857722B2 (en) * 2004-12-03 2020-12-08 Pressco Ip Llc Method and system for laser-based, wavelength specific infrared irradiation treatment
US7195360B2 (en) * 2004-12-28 2007-03-27 3M Innovative Properties Company Prismatic retroreflective article and method
US7601936B2 (en) * 2005-01-11 2009-10-13 William Thomas Joines Microwave system and method for controling the sterlization and infestation of crop soils
KR100755400B1 (ko) * 2005-04-07 2007-09-04 엘지전자 주식회사 냉장고의 해동유닛 및 해동실
AU2006259705B2 (en) 2005-06-16 2012-05-17 Avery Dennison Corporation Retroreflective sheet structure
JP2007046852A (ja) 2005-08-11 2007-02-22 Mitsubishi Electric Corp 加熱調理器
CN1964584A (zh) 2005-11-09 2007-05-16 刘秋雷 一种微波加热器具
WO2007105204A2 (en) 2006-03-10 2007-09-20 Rami Abraham Kalfon Refrigerator illumination system
JP5138253B2 (ja) * 2006-09-05 2013-02-06 東京エレクトロン株式会社 アニール装置
US7860379B2 (en) * 2007-01-15 2010-12-28 Applied Materials, Inc. Temperature measurement and control of wafer support in thermal processing chamber
FR2915418B1 (fr) 2007-04-25 2012-11-16 Sidel Participations Procede de chauffe d'ebauches pour la fabrication de recipients
CN101702950B (zh) * 2007-05-01 2012-05-30 加拿大马特森技术有限公司 辐照脉冲热处理方法和设备
WO2008154503A2 (en) * 2007-06-08 2008-12-18 Pressco Technology Inc. A method and system for wavelength specific thermal irradiation and treatment
JP2009099925A (ja) * 2007-09-27 2009-05-07 Tokyo Electron Ltd アニール装置
US8375933B2 (en) * 2008-01-23 2013-02-19 Blaine E. Myers System and method for heat energy conservation via corner reflectors
US7922344B2 (en) * 2008-09-02 2011-04-12 Avery Dennison Corporation Metallized retroreflective sheeting with increased daytime brightness
JP4513921B2 (ja) * 2008-12-09 2010-07-28 ソニー株式会社 光学体およびその製造方法、窓材、ブラインド、ロールカーテン、ならびに障子
DE102009008318A1 (de) * 2009-02-10 2010-08-12 Krones Ag Vorrichtung zum Erhitzen von Kunststoffvorformlingen
US9291752B2 (en) * 2013-08-19 2016-03-22 3M Innovative Properties Company Retroreflecting optical construction
WO2010121054A1 (en) * 2009-04-15 2010-10-21 3M Innovative Properties Company Retroreflective sheeting including a low index coating
CN102458819B (zh) * 2009-04-15 2014-09-03 3M创新有限公司 回射光学构造
WO2011060086A1 (en) * 2009-11-12 2011-05-19 3M Innovative Properties Company Irradiation marking of retroreflective sheeting
US8815059B2 (en) * 2010-08-31 2014-08-26 Guardian Industries Corp. System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation
US11774648B2 (en) * 2010-05-07 2023-10-03 Pti Ip Llc Corner-cube irradiation control
US9366790B2 (en) * 2011-05-31 2016-06-14 3M Innovative Properties Company Retroreflective articles having composite cube-corners and methods of making
US9423538B2 (en) * 2013-05-22 2016-08-23 The Boeing Company Retroreflective heater
US10094960B2 (en) * 2013-08-19 2018-10-09 3M Innovative Properties Company Retroreflective sheeting including a low elastic modulus layer
WO2018217519A1 (en) * 2017-05-25 2018-11-29 3M Innovative Properties Company Cube corner retroreflective articles with tailored retroreflectivity and methods of making
US12523803B2 (en) * 2018-03-30 2026-01-13 3M Innovative Properties Company Retroreflective article including a non-reflective conformal wavelength-selective radiation absorbing coating layer, and methods of making same
CN113490594A (zh) * 2019-02-27 2021-10-08 富士胶片株式会社 层叠体
US12287502B2 (en) * 2019-06-12 2025-04-29 3M Innovative Properties Company Coated substrate comprising electrically conductive particles and dried aqueous dispersion of organic polymer

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013542549A (ja) 2013-11-21
US11774648B2 (en) 2023-10-03
US20240027662A1 (en) 2024-01-25
EP2567393B1 (en) 2018-02-14
WO2011140472A2 (en) 2011-11-10
CN103430276B (zh) 2017-03-29
WO2011140472A3 (en) 2014-03-20
EP2567393A4 (en) 2015-03-25
CN103430276A (zh) 2013-12-04
US20120063752A1 (en) 2012-03-15
EP2567393A2 (en) 2013-03-13
CA2798454A1 (en) 2011-11-10
BR112012028574A2 (pt) 2019-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012151908A (ru) Управление облучением посредством кубических уголковых отражателей
KR930002062A (ko) 그릇을 만드는데 쓰이는 플라스틱, 특히 pet로 된 용기를 적외선 방사로 가열하는 방법과 그 장치
US20120294760A1 (en) Method and apparatus for the sterilization of packaging means
MX351436B (es) Un metodo y sistema para preparacion y procesamiento de alimentos, curacion, coccion de longitud de onda especifica de banda estrecha digital.
EA201890356A2 (ru) Массив для обработки материалов
JP6337556B2 (ja) 容器に対する殺菌処理システム
JP2010520084A (ja) 赤外線放射によるプラスチック加熱の改善
WO2008154503A3 (en) A method and system for wavelength specific thermal irradiation and treatment
UA94751C2 (ru) Способ и система для лазерной, специфической длины волны, обработки инфракрасным излучением
WO2006060690A3 (en) A method and system for wavelength specific thermal irradiation and treatment
WO2005024845A3 (en) Detecting special nuclear materials in containers using high-energy gamma rays emitted by fission products
PH12016500266A1 (en) Food waste vacuum-drying diposal system
RU2009103774A (ru) Излучающее устройство, способ и установка для нанесения порошкового покрытия на изделие из древесного материала
JP7169719B2 (ja) 殺菌方法及び殺菌装置
JP6460569B2 (ja) 容器に対する殺菌処理システム
MX2008013261A (es) Material reflector de radiacion infrarroja para coccion.
MX2020007655A (es) Dispositivo de procesamiento de microondas y metodo de produccion de fibra de carbono.
GB2462018A (en) Agile illumination for biometric authentication
MY181056A (en) Microwave irradiating and heating device
WO2004098699A3 (en) Apparatus and method providing substantially uniform irradiation of surfaces of elongated objects with a high-level of irradiance
JP2017118054A5 (ru)
CN203136190U (zh) 一种红外线烘烤装置
KR101866962B1 (ko) 원적외선을 이용한 도장 제품의 열처리 방법
Kim et al. Nonthermal sterilization of pathogenic Escherichia coli by intense pulsed light using a batch system
WO2008102322A3 (en) Method of surface treating particulate material using electromagnetic radiation

Legal Events

Date Code Title Description
FA94 Acknowledgement of application withdrawn (non-payment of fees)

Effective date: 20170208