RU2011119609A - Система и полимер для быстрого макетирования - Google Patents
Система и полимер для быстрого макетирования Download PDFInfo
- Publication number
- RU2011119609A RU2011119609A RU2011119609/05A RU2011119609A RU2011119609A RU 2011119609 A RU2011119609 A RU 2011119609A RU 2011119609/05 A RU2011119609/05 A RU 2011119609/05A RU 2011119609 A RU2011119609 A RU 2011119609A RU 2011119609 A RU2011119609 A RU 2011119609A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- weight
- specified
- slm
- light
- optics
- Prior art date
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 claims 6
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims 4
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims 3
- -1 aliphatic urethane methacrylates Chemical class 0.000 claims 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical group C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCOC(N)=O.CC(=C)C(O)=O MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- NFMHSPWHNQRFNR-UHFFFAOYSA-N hyponitrous acid Chemical compound ON=NO NFMHSPWHNQRFNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical group [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0037—Production of three-dimensional images
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C67/00—Shaping techniques not covered by groups B29C39/00 - B29C65/00, B29C70/00 or B29C73/00
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
- B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y30/00—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y70/00—Materials specially adapted for additive manufacturing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
1. Система для макетирования, включающая:(а) устройство для получения трехмерного объекта из светочувствительного материала, причем указанное устройство включает:систему (ES) экспонирования с источником излучения,устройство (CU) управления,где указанная система (ES) экспонирования включает:по меньшей мере один пространственный модулятор (SLM) света с многочисленными индивидуально регулируемыми модуляторами (LM) света,входную оптику (IO), оптически связанную с указанным по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,выходную оптику (OO), оптически связанную с указанным по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,причем указанные входная оптика (IO) и выходная оптика (OO) облегчают пропускание света, испускаемого указанным источником излучения, через указанные индивидуально регулируемые модуляторы (LM) света указанного пространственного модулятора (SLM) света к облучаемой области (IA),причем указанный пространственный модулятор (SLM) света обеспечивает возможность создания картинки из света, пропущенного через указанную входную оптику (IO), согласно управляющим сигналам, выдаваемым указанным устройством (CU) управления,причем указанная выходная оптика (OO) позволяет фокусировать картинку из света от указанного по меньшей мере одного пространственного модулятора (SLM) света на облучаемой области (IA); и(b) полимерную композицию, включающую:(A) по меньшей мере один акрилатный компонент,(B) по меньшей мере один метакрилатный компонент,(C) фотоинициатор.2. Система по п.1, в которой устройство включает сканирующую линейку, на которой смонтирована система (ES) экспонирования, и/или в которой расстояние d межд�
Claims (16)
1. Система для макетирования, включающая:
(а) устройство для получения трехмерного объекта из светочувствительного материала, причем указанное устройство включает:
систему (ES) экспонирования с источником излучения,
устройство (CU) управления,
где указанная система (ES) экспонирования включает:
по меньшей мере один пространственный модулятор (SLM) света с многочисленными индивидуально регулируемыми модуляторами (LM) света,
входную оптику (IO), оптически связанную с указанным по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,
выходную оптику (OO), оптически связанную с указанным по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,
причем указанные входная оптика (IO) и выходная оптика (OO) облегчают пропускание света, испускаемого указанным источником излучения, через указанные индивидуально регулируемые модуляторы (LM) света указанного пространственного модулятора (SLM) света к облучаемой области (IA),
причем указанный пространственный модулятор (SLM) света обеспечивает возможность создания картинки из света, пропущенного через указанную входную оптику (IO), согласно управляющим сигналам, выдаваемым указанным устройством (CU) управления,
причем указанная выходная оптика (OO) позволяет фокусировать картинку из света от указанного по меньшей мере одного пространственного модулятора (SLM) света на облучаемой области (IA); и
(b) полимерную композицию, включающую:
(A) по меньшей мере один акрилатный компонент,
(B) по меньшей мере один метакрилатный компонент,
(C) фотоинициатор.
2. Система по п.1, в которой устройство включает сканирующую линейку, на которой смонтирована система (ES) экспонирования, и/или в которой расстояние d между выходной оптикой (OO) и облучаемой областью (IA) составляет между 0,5 и 20 мм, и/или в которой источник излучения генерирует некогерентный свет.
3. Система по п.1, в которой полимерная композиция включает:
(A) 15-40% по весу по меньшей мере двух различных акрилатных компонентов,
(B) 50-80% по весу по меньшей мере двух различных метакрилатных компонентов,
(C) 0,1-7% по весу фотоинициатора
в расчете на общий вес полимерной композиции.
4. Система по п.1, в которой акрилатный компонент представляет собой алифатический или циклоалифатический акрилат, предпочтительно циклоалифатический диакрилат, или любую их смесь.
5. Система по п.4, в которой акрилатный компонент представляет собой акрилат полиэтиленгликоля, предпочтительно диакрилат полиэтиленгликоля.
6. Система по п.1, в которой метакрилатный компонент представляет собой алифатический уретановый метакрилат.
7. Система по п.6, в которой метакрилатный компонент представляет собой этоксилированный метакрилат бисфенола, предпочтительно этоксилированный диметакрилат бисфенола.
8. Система по п.1, в которой полимерная композиция дополнительно включает один или более полифункциональных тиолов, предпочтительно в количестве 0,1-10% по весу, более предпочтительно в количестве 1-8% по весу, в расчете на общий вес композиции.
9. Система по п.1, в которой полимерная композиция дополнительно включает стабилизатор, предпочтительно N-нитрозогидроксиламинный комплекс со структурой:
где R представляет углеводородный ароматический остаток, и S+ представляет соль.
10. Система по п.9, в которой N-нитрозогидроксиламинный комплекс представляет собой комплекс соли алюминия.
11. Полимерная композиция для макетирования, включающая:
(A) 5-60% по весу по меньшей мере одного акрилатного компонента, предпочтительно диакрилата полиэтиленгликоля или циклоалифатического диакрилата, или любой их смеси,
(B) 20-50% по весу по меньшей мере одного алифатического уретанового метакрилатного компонента,
(C) 0,5-5% по весу фотоинициатора,
(D) полифункциональный тиол
в расчете на общий вес композиции.
12. Полимерная композиция по п.11, включающая по меньшей мере:
(А1) 5-15% по весу одного или более диакрилатов полиэтиленгликоля,
(А2) 5-15% по весу одного или более алифатических или циклоалифатических диакрилатов,
(B1) 20-50% по весу одного или более алифатических уретановых метакрилатов,
(B2) 20-50% по весу одного или более этоксилированных метакрилатов бисфенола,
(C) 0,5-5% по весу фотоинициатора,
(D) 0,1-10% по весу одного или более полифункциональных тиолов,
(Е) от 0,01 до 0,5% по весу одного или более стабилизаторов
в расчете на общий вес композиции.
13. Способ получения трехмерного объекта (OB) с помощью системы по любому из пп.1-10 и/или с использованием полимера по любому из пп.11-12, включающий стадии, в которых:
a) формируют первый слой из жидкого светочувствительного материала;
b) экспонируют указанный первый слой ультрафиолетовым излучением, чтобы провести отверждение указанного первого слоя согласно предварительно заданной картинке;
c) наносят второй слой из жидкого светочувствительного материала на первый отвержденный слой;
d) экспонируют указанный второй слой ультрафиолетовым излучением, чтобы провести отверждение указанного второго слоя согласно предварительно заданной картинке;
e) повторяют стадии a)-d) до формирования предварительно заданного трехмерного объекта (OB).
14. Отвержденное изделие, полученное способом по п.13.
15. Система по любому из пп.1-10,
в которой устройство для получения трехмерного объекта из светочувствительного материала включает по меньшей мере одно сменяемое защитное окошко (PW) между указанной выходной оптикой (OO) и указанной облучаемой областью (IA).
16. Система по п.15,
в которой устройство для получения трехмерного объекта из светочувствительного материала включает по меньшей мере одну систему (LBa, LBb, HSa, HSb) детектирования для предотвращения столкновения между облучаемой областью (IA) и выходной оптикой (OO).
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP08018228 | 2008-10-17 | ||
| EP08018228.0 | 2008-10-17 | ||
| PCT/EP2008/066634 WO2010043274A1 (en) | 2008-10-17 | 2008-12-02 | Improvements for rapid prototyping apparatus |
| EPPCT/EP2008/066634 | 2008-12-02 | ||
| PCT/EP2009/061958 WO2010043463A1 (en) | 2008-10-17 | 2009-09-15 | System and resin for rapid prototyping |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2011119609A true RU2011119609A (ru) | 2012-11-27 |
Family
ID=41040579
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2011119609/05A RU2011119609A (ru) | 2008-10-17 | 2009-09-15 | Система и полимер для быстрого макетирования |
| RU2011119605/05A RU2011119605A (ru) | 2008-10-17 | 2009-10-09 | Усовершенствования для устройства быстрого изготовления опытных образцов |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2011119605/05A RU2011119605A (ru) | 2008-10-17 | 2009-10-09 | Усовершенствования для устройства быстрого изготовления опытных образцов |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20110195237A1 (ru) |
| EP (2) | EP2346672A1 (ru) |
| JP (2) | JP2012505775A (ru) |
| KR (2) | KR20110084494A (ru) |
| CN (2) | CN102186650A (ru) |
| AU (2) | AU2009304209A1 (ru) |
| BR (2) | BRPI0919776A2 (ru) |
| CA (2) | CA2740922A1 (ru) |
| MX (2) | MX2011003895A (ru) |
| RU (2) | RU2011119609A (ru) |
| WO (3) | WO2010043274A1 (ru) |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010043274A1 (en) * | 2008-10-17 | 2010-04-22 | Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh | Improvements for rapid prototyping apparatus |
| DE102008060046A1 (de) * | 2008-12-02 | 2010-06-10 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verfahren zum Bereitstellen einer identifizierbaren Pulvermenge und Verfahren zur Herstellung eines Objekts |
| EP2436510A1 (en) * | 2010-10-04 | 2012-04-04 | 3D Systems, Inc. | System and resin for rapid prototyping |
| US9157007B2 (en) * | 2011-03-09 | 2015-10-13 | 3D Systems, Incorporated | Build material and applications thereof |
| WO2012126695A1 (en) | 2011-03-23 | 2012-09-27 | Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh | Stable curable thiol-ene composition |
| EP2537665A1 (en) * | 2011-06-22 | 2012-12-26 | 3D Systems, Inc. | Improvements for rapid prototyping apparatus and method |
| WO2015081756A1 (zh) * | 2013-12-03 | 2015-06-11 | 上海普利生机电科技有限公司 | 光固化型3d打印设备及其成像系统 |
| JP2017507814A (ja) * | 2014-02-28 | 2017-03-23 | コスタベバー，エットーレ，マウリツィオ | 改良されたステレオリソグラフィ機械 |
| DE102014203710B3 (de) * | 2014-02-28 | 2015-05-28 | MTU Aero Engines AG | Vorrichtung und Verfahren zum generativen Herstellen eines Bauteils |
| CN106553339A (zh) * | 2015-09-18 | 2017-04-05 | 广东汉邦激光科技有限公司 | 3d打印基板智能调平系统及3d打印机 |
| DE102015221623A1 (de) | 2015-11-04 | 2017-05-04 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Belichteroptik und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
| KR102047545B1 (ko) * | 2015-12-30 | 2019-11-21 | 듀얼리타스 리미티드 | 동적 홀로그래피 포커스트-뎁스 인쇄장치 |
| EP3344443B1 (en) | 2016-01-20 | 2022-03-02 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Printing device and process |
| CA3016532C (en) | 2016-03-15 | 2023-08-22 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Thiourethane polymers, method of synthesis thereof and use in additive manufacturing technologies |
| US10457033B2 (en) | 2016-11-07 | 2019-10-29 | The Boeing Company | Systems and methods for additively manufacturing composite parts |
| US11440261B2 (en) | 2016-11-08 | 2022-09-13 | The Boeing Company | Systems and methods for thermal control of additive manufacturing |
| US10766241B2 (en) | 2016-11-18 | 2020-09-08 | The Boeing Company | Systems and methods for additive manufacturing |
| US10843452B2 (en) * | 2016-12-01 | 2020-11-24 | The Boeing Company | Systems and methods for cure control of additive manufacturing |
| DE102017223223A1 (de) * | 2017-12-19 | 2019-06-19 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren für den additiven Aufbau einer Struktur und Computerprogrammprodukt |
| WO2019169211A1 (en) * | 2018-03-02 | 2019-09-06 | Formlabs, Inc. | Latent cure resins and related methods |
| JP7492947B2 (ja) * | 2018-03-28 | 2024-05-30 | ルンド、ベンジャミン | チオール－アクリレートポリマー、その合成方法、および積層造形技術での使用 |
| JP7048723B2 (ja) * | 2018-03-29 | 2022-04-05 | 富士フイルム株式会社 | 感光性転写材料、電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、及び、タッチパネルの製造方法 |
| WO2019199274A1 (en) | 2018-04-10 | 2019-10-17 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Preheat build materials with preheating sources |
| US11739177B2 (en) | 2018-04-20 | 2023-08-29 | Adaptive 3D Technologies | Sealed isocyanates |
| US11697706B2 (en) | 2018-04-20 | 2023-07-11 | Adaptive 3D Technologies | Sealed isocyanates |
| CN110539481A (zh) * | 2018-05-28 | 2019-12-06 | 三纬国际立体列印科技股份有限公司 | 立体打印方法 |
| US11426818B2 (en) | 2018-08-10 | 2022-08-30 | The Research Foundation for the State University | Additive manufacturing processes and additively manufactured products |
| JP2022505404A (ja) * | 2018-10-19 | 2022-01-14 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア | 光硬化性樹脂組成物、光硬化性樹脂物品、及び斯かる物品を作製する方法 |
| US11911956B2 (en) | 2018-11-21 | 2024-02-27 | Adaptive 3D Technologies | Using occluding fluids to augment additive manufacturing processes |
| CN111902258B (zh) * | 2019-01-04 | 2022-07-15 | 卡本有限公司 | 具有哑光饰面的增材制造的产品 |
| CN109795105B (zh) * | 2019-02-27 | 2022-11-18 | 深圳摩方新材科技有限公司 | 三维打印装置及打印方法 |
| EP3953177B1 (en) * | 2019-04-12 | 2024-01-10 | 3D Systems, Inc. | Large array stereolithography with efficient optical path |
| US11666988B2 (en) * | 2019-07-22 | 2023-06-06 | Hamilton Sundstrand Corporation | Additive manufacturing machine condensate monitoring |
| CN110658071B (zh) * | 2019-10-09 | 2020-06-26 | 北京化工大学 | 一种动态测试光聚合模塑成型收缩演化的装置及方法 |
| WO2021187056A1 (ja) * | 2020-03-17 | 2021-09-23 | 株式会社トクヤマデンタル | 有床義歯の製造方法、光造形用硬化性組成物、及び有床義歯製造用キット |
| JP7425640B2 (ja) | 2020-03-25 | 2024-01-31 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | ３次元造形装置 |
| EP4237181A1 (en) * | 2020-10-29 | 2023-09-06 | Seurat Technologies, Inc. | Distributed flux array |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3445419A (en) * | 1966-01-21 | 1969-05-20 | Dow Corning | Room temperature vulcanizable silicones |
| US3661744A (en) * | 1966-07-26 | 1972-05-09 | Grace W R & Co | Photocurable liquid polyene-polythiol polymer compositions |
| JPS5314800A (en) * | 1976-07-28 | 1978-02-09 | Showa Highpolymer Co Ltd | Curable resin composition |
| US5143817A (en) * | 1989-12-22 | 1992-09-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solid imaging system |
| EP0646580B1 (de) * | 1993-09-16 | 2000-05-31 | Ciba SC Holding AG | Vinyletherverbindungen mit zusätzlichen von Vinylethergruppen verschiedenen funktionellen Gruppen und deren Verwendung zur Formulierung härtbarer Zusammensetzungen |
| EP0831127B1 (en) * | 1995-05-12 | 2003-09-03 | Asahi Denka Kogyo Kabushiki Kaisha | Stereolithographic resin composition and stereolithographic method |
| US6529265B1 (en) * | 1997-04-14 | 2003-03-04 | Dicon A/S | Illumination unit and a method for point illumination of a medium |
| US6136497A (en) * | 1998-03-30 | 2000-10-24 | Vantico, Inc. | Liquid, radiation-curable composition, especially for producing flexible cured articles by stereolithography |
| WO2000021735A1 (en) * | 1998-10-12 | 2000-04-20 | Dicon A/S | Rapid prototyping apparatus and method of rapid prototyping |
| US6500378B1 (en) * | 2000-07-13 | 2002-12-31 | Eom Technologies, L.L.C. | Method and apparatus for creating three-dimensional objects by cross-sectional lithography |
| DE20106887U1 (de) * | 2001-04-20 | 2001-09-06 | Envision Technologies Gmbh | Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
| WO2004076103A1 (ja) * | 2003-02-25 | 2004-09-10 | Matsushita Electric Works Ltd. | 三次元形状造形物の製造方法及び製造装置 |
| KR20070005638A (ko) * | 2004-03-22 | 2007-01-10 | 훈츠만 어드밴스트 머티리얼스(스위처랜드) 게엠베하 | 광경화성 조성물 |
| US7585450B2 (en) * | 2005-09-30 | 2009-09-08 | 3D Systems, Inc. | Rapid prototyping and manufacturing system and method |
| US20070077323A1 (en) * | 2005-09-30 | 2007-04-05 | 3D Systems, Inc. | Rapid prototyping and manufacturing system and method |
| US7690909B2 (en) * | 2005-09-30 | 2010-04-06 | 3D Systems, Inc. | Rapid prototyping and manufacturing system and method |
| WO2010043275A1 (en) * | 2008-10-17 | 2010-04-22 | Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh | Improvements for rapid prototyping apparatus |
| WO2010043274A1 (en) * | 2008-10-17 | 2010-04-22 | Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh | Improvements for rapid prototyping apparatus |
-
2008
- 2008-12-02 WO PCT/EP2008/066634 patent/WO2010043274A1/en active Application Filing
-
2009
- 2009-09-15 BR BRPI0919776A patent/BRPI0919776A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2009-09-15 CA CA2740922A patent/CA2740922A1/en not_active Abandoned
- 2009-09-15 KR KR1020117005123A patent/KR20110084494A/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-09-15 US US13/123,650 patent/US20110195237A1/en not_active Abandoned
- 2009-09-15 RU RU2011119609/05A patent/RU2011119609A/ru unknown
- 2009-09-15 WO PCT/EP2009/061958 patent/WO2010043463A1/en active Application Filing
- 2009-09-15 AU AU2009304209A patent/AU2009304209A1/en not_active Abandoned
- 2009-09-15 MX MX2011003895A patent/MX2011003895A/es not_active Application Discontinuation
- 2009-09-15 JP JP2011531424A patent/JP2012505775A/ja not_active Withdrawn
- 2009-09-15 EP EP09783039A patent/EP2346672A1/en not_active Withdrawn
- 2009-09-15 CN CN2009801410250A patent/CN102186650A/zh active Pending
- 2009-10-09 EP EP09783885A patent/EP2346671A1/en not_active Withdrawn
- 2009-10-09 BR BRPI0920292A patent/BRPI0920292A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2009-10-09 CN CN2009801410000A patent/CN102186649A/zh active Pending
- 2009-10-09 WO PCT/EP2009/063163 patent/WO2010043559A1/en active Application Filing
- 2009-10-09 JP JP2011531454A patent/JP2012505776A/ja active Pending
- 2009-10-09 KR KR1020117004336A patent/KR20110085967A/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-10-09 US US13/124,191 patent/US20120298886A1/en not_active Abandoned
- 2009-10-09 CA CA2734969A patent/CA2734969A1/en not_active Abandoned
- 2009-10-09 MX MX2011004035A patent/MX2011004035A/es not_active Application Discontinuation
- 2009-10-09 AU AU2009305465A patent/AU2009305465A1/en not_active Abandoned
- 2009-10-09 RU RU2011119605/05A patent/RU2011119605A/ru unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BRPI0919776A2 (pt) | 2015-12-08 |
| CA2740922A1 (en) | 2010-04-22 |
| KR20110084494A (ko) | 2011-07-25 |
| WO2010043274A1 (en) | 2010-04-22 |
| WO2010043559A1 (en) | 2010-04-22 |
| US20120298886A1 (en) | 2012-11-29 |
| CN102186649A (zh) | 2011-09-14 |
| MX2011004035A (es) | 2011-05-19 |
| MX2011003895A (es) | 2011-05-25 |
| AU2009305465A1 (en) | 2010-04-22 |
| CN102186650A (zh) | 2011-09-14 |
| RU2011119605A (ru) | 2012-11-27 |
| EP2346671A1 (en) | 2011-07-27 |
| EP2346672A1 (en) | 2011-07-27 |
| CA2734969A1 (en) | 2010-04-22 |
| KR20110085967A (ko) | 2011-07-27 |
| US20110195237A1 (en) | 2011-08-11 |
| AU2009304209A1 (en) | 2010-04-22 |
| JP2012505776A (ja) | 2012-03-08 |
| JP2012505775A (ja) | 2012-03-08 |
| BRPI0920292A2 (pt) | 2016-02-16 |
| WO2010043463A1 (en) | 2010-04-22 |
| AU2009304209A2 (en) | 2011-03-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2011119609A (ru) | Система и полимер для быстрого макетирования | |
| CA2966812C (en) | Method and device for producing a three-dimensional, multi-cell object | |
| US20120251841A1 (en) | Liquid radiation curable resins for additive fabrication comprising a triaryl sulfonium borate cationic photoinitiator | |
| US10935891B2 (en) | Multi wavelength stereolithography hardware configurations | |
| US20170157862A1 (en) | Method for producing three-dimensional objects by rapid prototyping with increased efficiency | |
| CN110087863A (zh) | 混合光源 | |
| US11851511B2 (en) | Polymerization photoinhibitor | |
| RU2010129528A (ru) | Способ получения изображений в кристаллических коллоидных структурах | |
| CN107175823B (zh) | 多分辨率飞秒激光3d打印装置和打印方法 | |
| Lambert et al. | Design considerations for mask projection microstereolithography systems | |
| WO2009140270A3 (en) | System and method for light source employing laser-produced plasma | |
| JP7340099B2 (ja) | ３ｄプリントのための光学活性造形材料 | |
| CN109130174A (zh) | 光学系统、控制方法及系统、3d打印设备 | |
| Bongiovanni et al. | Vat Photopolymerization | |
| Onanuga et al. | Simulation flow and model verification for laser direct-write lithography | |
| JPWO2019155933A5 (ru) | ||
| Whyte et al. | Volumetric additive manufacturing: A new frontier in layer-less 3D printing | |
| Bertana et al. | Volumetric 3D Printing | |
| Mulder et al. | Rapid micro-prototyping by single-photon two-wavelength volumetric lithography | |
| Lambert | Design and Fabrication of a Mask Projection Microstereolithography System for the Characterization and Processing of Novel Photopolymer Resins | |
| Jeng et al. | Projection stereolithography of biocompatible polymer structures | |
| KR20180066916A (ko) | 3d 프린터의 광경화 교육용 교구 | |
| US20240157642A1 (en) | Additive manufacturing apparatus including two light engines and a light altering structure and a method of additive manufacturing a three-dimensional object | |
| Vorzobova et al. | Formation of 3D structures in a volumetric photocurable material via a holographic method | |
| Unlu et al. | Single-photon-assisted two-photon polymerization |