RU2010144173A - Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения - Google Patents
Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения Download PDFInfo
- Publication number
- RU2010144173A RU2010144173A RU2010144173/02A RU2010144173A RU2010144173A RU 2010144173 A RU2010144173 A RU 2010144173A RU 2010144173/02 A RU2010144173/02 A RU 2010144173/02A RU 2010144173 A RU2010144173 A RU 2010144173A RU 2010144173 A RU2010144173 A RU 2010144173A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- alloy
- ingot
- tape
- smelting
- workpiece
- Prior art date
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
1. Способ получения биаксиально текстурированных ленточных подложек из никелевых сплавов, содержащий этапы, на которых: ! - выплавляют сплав, ! - проводят термическую обработку слитка, ! - проводят механическую обработку заготовки резанием, ! - проводят термомеханическую обработку заготовки и холодную прокатку заготовки в ленту, ! - проводят финишный текстурирующий отжиг и последующую полировку ленты, отличающийся тем, что для получения сплавов повышенной чистоты при выплавке сплава с одновременным рафинированием используется метод электронно-лучевой плавки; для формирования в ленточных подложках мелкозернистой структуры при выплавке в сплав добавляют иттрий; для получения однородной структуры слитка после выплавки проводят гомогенизирующий отжиг; для получения заготовок из слитка проводят термомеханическую обработку в диапазоне температур 300-600°С. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что для измельчения зерна и повышения остроты текстуры на этапе выплавки сплава используют микролегирование. ! 3. Способ по п.1, отличающийся тем, что для получения более острой биаксиальной текстуры на этапе термомеханической обработки используют экструдирование слитка. ! 4. Способ по п.1, отличающийся тем, что для получения более острой биаксиальной текстуры на этапе термомеханической обработки используют осаживание слитка. ! 5. Биаксиально текстурированная металлическая ленточная подложка из сплава никель - 14% вольфрама, характеризующаяся тем, что ! - указанный сплав содержит в качестве легирующего элемента иттрий в количестве 0,01-0,1%; ! - указанный сплав содержит элементы: ! Al - 0-5·10-3%, Со - 0-5-10-3%, Cr - 0-5-10-3%, Fe - 0-9·10-3%, Mg - 0-2·10-3%, Si -
Claims (6)
1. Способ получения биаксиально текстурированных ленточных подложек из никелевых сплавов, содержащий этапы, на которых:
- выплавляют сплав,
- проводят термическую обработку слитка,
- проводят механическую обработку заготовки резанием,
- проводят термомеханическую обработку заготовки и холодную прокатку заготовки в ленту,
- проводят финишный текстурирующий отжиг и последующую полировку ленты, отличающийся тем, что для получения сплавов повышенной чистоты при выплавке сплава с одновременным рафинированием используется метод электронно-лучевой плавки; для формирования в ленточных подложках мелкозернистой структуры при выплавке в сплав добавляют иттрий; для получения однородной структуры слитка после выплавки проводят гомогенизирующий отжиг; для получения заготовок из слитка проводят термомеханическую обработку в диапазоне температур 300-600°С.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что для измельчения зерна и повышения остроты текстуры на этапе выплавки сплава используют микролегирование.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что для получения более острой биаксиальной текстуры на этапе термомеханической обработки используют экструдирование слитка.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что для получения более острой биаксиальной текстуры на этапе термомеханической обработки используют осаживание слитка.
5. Биаксиально текстурированная металлическая ленточная подложка из сплава никель - 14% вольфрама, характеризующаяся тем, что
- указанный сплав содержит в качестве легирующего элемента иттрий в количестве 0,01-0,1%;
- указанный сплав содержит элементы:
Al - 0-5·10-3%, Со - 0-5-10-3%, Cr - 0-5-10-3%, Fe - 0-9·10-3%, Mg - 0-2·10-3%, Si - 0-5·10-3%, Nb - 0-1·10-3%, Ti - 0-1,5-10-3%, Та - 0-1·10-3%, Zr - 0-1·10-3%, Cu - 0-1·10-3%, Mn - 0-1·10-3%, Mo - 0-1-10-3%, V - 0-1·10-3%;
- указанная ленточная подложка обладает однородной мелкозернистой структурой, которая достигается за счет рафинирования сплава при электронно-лучевой плавке, создания эффекта направленной кристаллизации и уменьшения дефектов усадочного характера в сплаве, снятия при токарной обработке с заготовки слоя, который может быть обеднен по легирующему компоненту;
- указанная ленточная подложка имеет биаксиальную текстуру типа {100}<100>;
- шероховатость поверхности указанной ленточной подложки Ra=2-3 нм;
- средний размер зерна указанной ленточной подложки не более 15 мкм, что достигается за счет торможения роста зерна сплава при проведении текстурирующих отжигов ленты пленкой обогащенного иттрием соединения, которая образуется по границам зерен.
6. Биаксиально текстурированная металлическая ленточная подложка по п.5, отличающаяся тем, что биаксиальная текстура типа {100}<100> характеризуется шириной пика на половине высоты не более 6,0° в направлении прокатки и 4,6° в поперечном направлении.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2010144173/02A RU2010144173A (ru) | 2010-10-29 | 2010-10-29 | Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2010144173/02A RU2010144173A (ru) | 2010-10-29 | 2010-10-29 | Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2010144173A true RU2010144173A (ru) | 2012-05-10 |
Family
ID=46311802
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2010144173/02A RU2010144173A (ru) | 2010-10-29 | 2010-10-29 | Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2010144173A (ru) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2624564C2 (ru) * | 2015-11-06 | 2017-07-04 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) | Способ изготовления биаксиально текстурированной подложки из тройного сплава на медно-никелевой основе |
RU2635982C1 (ru) * | 2016-10-28 | 2017-11-17 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) | Способ изготовления ленты из железоникелевого сплава Fe-(49-50,5) мас. % Ni, имеющей острую кубическую текстуру |
-
2010
- 2010-10-29 RU RU2010144173/02A patent/RU2010144173A/ru not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2624564C2 (ru) * | 2015-11-06 | 2017-07-04 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) | Способ изготовления биаксиально текстурированной подложки из тройного сплава на медно-никелевой основе |
RU2635982C1 (ru) * | 2016-10-28 | 2017-11-17 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) | Способ изготовления ленты из железоникелевого сплава Fe-(49-50,5) мас. % Ni, имеющей острую кубическую текстуру |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4869415B2 (ja) | 純銅板の製造方法及び純銅板 | |
JP5325472B2 (ja) | 磁気ディスク用アルミニウム合金基板およびその製造方法 | |
TWI546401B (zh) | Cu-Ga alloy sputtering target and its manufacturing method | |
TWI553135B (zh) | Tantalum sputtering target and its manufacturing method | |
KR101882606B1 (ko) | 탄탈 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법 그리고 동 타깃을 사용하여 형성한 반도체 배선용 배리어막 | |
KR20120062802A (ko) | 스퍼터링 타겟용 구리재료 및 그 제조방법 | |
WO2012117579A1 (ja) | インジウムターゲット及びその製造方法 | |
US10276356B2 (en) | Copper alloy sputtering target | |
JP2008081794A (ja) | アルミニウム合金および薄膜系太陽電池基板 | |
WO2011099426A1 (ja) | 純銅板の製造方法及び純銅板 | |
KR20180133796A (ko) | 무산소동판 및 세라믹스 배선기판 | |
JP5524877B2 (ja) | アルミニウム合金板およびその製造方法 | |
JP2012193423A (ja) | Cu−Ga合金材およびその製造方法 | |
JP5571196B2 (ja) | スパッタリング用チタンターゲット | |
RU2010144173A (ru) | Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения | |
TWI570252B (zh) | Cu-Ga alloy sputtering target and its manufacturing method | |
WO2015087788A1 (ja) | In又はIn合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
JP5871106B2 (ja) | In合金スパッタリングターゲット、その製造方法及びIn合金膜 | |
JP2013079411A (ja) | Cu−Ga合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
JP5904869B2 (ja) | 超電導膜形成用圧延銅箔の製造方法 | |
JP6217295B2 (ja) | Inスパッタリングターゲット | |
US20230082193A1 (en) | Substrate for epitaxial growth and method for producing same | |
TW201638348A (zh) | 銅-鎵合金濺射靶材 | |
JP2016166390A (ja) | Cu−Ga合金円筒型鋳塊 | |
TWI417161B (zh) | 塊體非晶合金之脈衝雷射切割方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FA92 | Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted) |
Effective date: 20120504 |