RU2010144173A - Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения - Google Patents

Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения Download PDF

Info

Publication number
RU2010144173A
RU2010144173A RU2010144173/02A RU2010144173A RU2010144173A RU 2010144173 A RU2010144173 A RU 2010144173A RU 2010144173/02 A RU2010144173/02 A RU 2010144173/02A RU 2010144173 A RU2010144173 A RU 2010144173A RU 2010144173 A RU2010144173 A RU 2010144173A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
alloy
ingot
tape
smelting
workpiece
Prior art date
Application number
RU2010144173/02A
Other languages
English (en)
Inventor
Александр Олегович Титов (RU)
Александр Олегович Титов
Игорь Иванович Акимов (RU)
Игорь Иванович Акимов
Дмитрий Александрович Крюков (RU)
Дмитрий Александрович Крюков
Сергей Анатольевич Школин (RU)
Сергей Анатольевич Школин
Павел Николаевич Тараторкин (RU)
Павел Николаевич Тараторкин
Михаил Юрьевич Корниенко (RU)
Михаил Юрьевич Корниенко
Александр Николаевич Гаркавенко (RU)
Александр Николаевич Гаркавенко
Дмитрий Алексеевич Комарков (RU)
Дмитрий Алексеевич Комарков
Александр Владимирович Кацай (RU)
Александр Владимирович Кацай
Александр Андреевич Авдиенко (RU)
Александр Андреевич Авдиенко
Original Assignee
Александр Владимирович Кацай (RU)
Александр Владимирович Кацай
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Александр Владимирович Кацай (RU), Александр Владимирович Кацай filed Critical Александр Владимирович Кацай (RU)
Priority to RU2010144173/02A priority Critical patent/RU2010144173A/ru
Publication of RU2010144173A publication Critical patent/RU2010144173A/ru

Links

Landscapes

  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

1. Способ получения биаксиально текстурированных ленточных подложек из никелевых сплавов, содержащий этапы, на которых: ! - выплавляют сплав, ! - проводят термическую обработку слитка, ! - проводят механическую обработку заготовки резанием, ! - проводят термомеханическую обработку заготовки и холодную прокатку заготовки в ленту, ! - проводят финишный текстурирующий отжиг и последующую полировку ленты, отличающийся тем, что для получения сплавов повышенной чистоты при выплавке сплава с одновременным рафинированием используется метод электронно-лучевой плавки; для формирования в ленточных подложках мелкозернистой структуры при выплавке в сплав добавляют иттрий; для получения однородной структуры слитка после выплавки проводят гомогенизирующий отжиг; для получения заготовок из слитка проводят термомеханическую обработку в диапазоне температур 300-600°С. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что для измельчения зерна и повышения остроты текстуры на этапе выплавки сплава используют микролегирование. ! 3. Способ по п.1, отличающийся тем, что для получения более острой биаксиальной текстуры на этапе термомеханической обработки используют экструдирование слитка. ! 4. Способ по п.1, отличающийся тем, что для получения более острой биаксиальной текстуры на этапе термомеханической обработки используют осаживание слитка. ! 5. Биаксиально текстурированная металлическая ленточная подложка из сплава никель - 14% вольфрама, характеризующаяся тем, что ! - указанный сплав содержит в качестве легирующего элемента иттрий в количестве 0,01-0,1%; ! - указанный сплав содержит элементы: ! Al - 0-5·10-3%, Со - 0-5-10-3%, Cr - 0-5-10-3%, Fe - 0-9·10-3%, Mg - 0-2·10-3%, Si -

Claims (6)

1. Способ получения биаксиально текстурированных ленточных подложек из никелевых сплавов, содержащий этапы, на которых:
- выплавляют сплав,
- проводят термическую обработку слитка,
- проводят механическую обработку заготовки резанием,
- проводят термомеханическую обработку заготовки и холодную прокатку заготовки в ленту,
- проводят финишный текстурирующий отжиг и последующую полировку ленты, отличающийся тем, что для получения сплавов повышенной чистоты при выплавке сплава с одновременным рафинированием используется метод электронно-лучевой плавки; для формирования в ленточных подложках мелкозернистой структуры при выплавке в сплав добавляют иттрий; для получения однородной структуры слитка после выплавки проводят гомогенизирующий отжиг; для получения заготовок из слитка проводят термомеханическую обработку в диапазоне температур 300-600°С.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что для измельчения зерна и повышения остроты текстуры на этапе выплавки сплава используют микролегирование.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что для получения более острой биаксиальной текстуры на этапе термомеханической обработки используют экструдирование слитка.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что для получения более острой биаксиальной текстуры на этапе термомеханической обработки используют осаживание слитка.
5. Биаксиально текстурированная металлическая ленточная подложка из сплава никель - 14% вольфрама, характеризующаяся тем, что
- указанный сплав содержит в качестве легирующего элемента иттрий в количестве 0,01-0,1%;
- указанный сплав содержит элементы:
Al - 0-5·10-3%, Со - 0-5-10-3%, Cr - 0-5-10-3%, Fe - 0-9·10-3%, Mg - 0-2·10-3%, Si - 0-5·10-3%, Nb - 0-1·10-3%, Ti - 0-1,5-10-3%, Та - 0-1·10-3%, Zr - 0-1·10-3%, Cu - 0-1·10-3%, Mn - 0-1·10-3%, Mo - 0-1-10-3%, V - 0-1·10-3%;
- указанная ленточная подложка обладает однородной мелкозернистой структурой, которая достигается за счет рафинирования сплава при электронно-лучевой плавке, создания эффекта направленной кристаллизации и уменьшения дефектов усадочного характера в сплаве, снятия при токарной обработке с заготовки слоя, который может быть обеднен по легирующему компоненту;
- указанная ленточная подложка имеет биаксиальную текстуру типа {100}<100>;
- шероховатость поверхности указанной ленточной подложки Ra=2-3 нм;
- средний размер зерна указанной ленточной подложки не более 15 мкм, что достигается за счет торможения роста зерна сплава при проведении текстурирующих отжигов ленты пленкой обогащенного иттрием соединения, которая образуется по границам зерен.
6. Биаксиально текстурированная металлическая ленточная подложка по п.5, отличающаяся тем, что биаксиальная текстура типа {100}<100> характеризуется шириной пика на половине высоты не более 6,0° в направлении прокатки и 4,6° в поперечном направлении.
RU2010144173/02A 2010-10-29 2010-10-29 Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения RU2010144173A (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2010144173/02A RU2010144173A (ru) 2010-10-29 2010-10-29 Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2010144173/02A RU2010144173A (ru) 2010-10-29 2010-10-29 Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2010144173A true RU2010144173A (ru) 2012-05-10

Family

ID=46311802

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2010144173/02A RU2010144173A (ru) 2010-10-29 2010-10-29 Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2010144173A (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2624564C2 (ru) * 2015-11-06 2017-07-04 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) Способ изготовления биаксиально текстурированной подложки из тройного сплава на медно-никелевой основе
RU2635982C1 (ru) * 2016-10-28 2017-11-17 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) Способ изготовления ленты из железоникелевого сплава Fe-(49-50,5) мас. % Ni, имеющей острую кубическую текстуру

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2624564C2 (ru) * 2015-11-06 2017-07-04 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) Способ изготовления биаксиально текстурированной подложки из тройного сплава на медно-никелевой основе
RU2635982C1 (ru) * 2016-10-28 2017-11-17 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) Способ изготовления ленты из железоникелевого сплава Fe-(49-50,5) мас. % Ni, имеющей острую кубическую текстуру

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4869415B2 (ja) 純銅板の製造方法及び純銅板
JP5325472B2 (ja) 磁気ディスク用アルミニウム合金基板およびその製造方法
TWI546401B (zh) Cu-Ga alloy sputtering target and its manufacturing method
TWI553135B (zh) Tantalum sputtering target and its manufacturing method
KR101882606B1 (ko) 탄탈 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법 그리고 동 타깃을 사용하여 형성한 반도체 배선용 배리어막
KR20120062802A (ko) 스퍼터링 타겟용 구리재료 및 그 제조방법
WO2012117579A1 (ja) インジウムターゲット及びその製造方法
US10276356B2 (en) Copper alloy sputtering target
JP2008081794A (ja) アルミニウム合金および薄膜系太陽電池基板
WO2011099426A1 (ja) 純銅板の製造方法及び純銅板
KR20180133796A (ko) 무산소동판 및 세라믹스 배선기판
JP5524877B2 (ja) アルミニウム合金板およびその製造方法
JP2012193423A (ja) Cu−Ga合金材およびその製造方法
JP5571196B2 (ja) スパッタリング用チタンターゲット
RU2010144173A (ru) Биаксиально текстурированные ленточные подложки из никелевых сплавов и способ их получения
TWI570252B (zh) Cu-Ga alloy sputtering target and its manufacturing method
WO2015087788A1 (ja) In又はIn合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
JP5871106B2 (ja) In合金スパッタリングターゲット、その製造方法及びIn合金膜
JP2013079411A (ja) Cu−Ga合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
JP5904869B2 (ja) 超電導膜形成用圧延銅箔の製造方法
JP6217295B2 (ja) Inスパッタリングターゲット
US20230082193A1 (en) Substrate for epitaxial growth and method for producing same
TW201638348A (zh) 銅-鎵合金濺射靶材
JP2016166390A (ja) Cu−Ga合金円筒型鋳塊
TWI417161B (zh) 塊體非晶合金之脈衝雷射切割方法

Legal Events

Date Code Title Description
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20120504