RU2009137422A - Комбинированная подложка для светодиодов - Google Patents

Комбинированная подложка для светодиодов Download PDF

Info

Publication number
RU2009137422A
RU2009137422A RU2009137422/28A RU2009137422A RU2009137422A RU 2009137422 A RU2009137422 A RU 2009137422A RU 2009137422/28 A RU2009137422/28 A RU 2009137422/28A RU 2009137422 A RU2009137422 A RU 2009137422A RU 2009137422 A RU2009137422 A RU 2009137422A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
epitaxial layer
carbon
textured surface
led
free material
Prior art date
Application number
RU2009137422/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Татьяна Юрьевна Чемекова (RU)
Татьяна Юрьевна Чемекова
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "УФ Нанодиод" (RU)
Общество с ограниченной ответственностью "УФ Нанодиод"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "УФ Нанодиод" (RU), Общество с ограниченной ответственностью "УФ Нанодиод" filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "УФ Нанодиод" (RU)
Priority to RU2009137422/28A priority Critical patent/RU2009137422A/ru
Publication of RU2009137422A publication Critical patent/RU2009137422A/ru

Links

Landscapes

  • Led Devices (AREA)

Abstract

1. Комбинированная подложка для светодиодов, включающая сапфировое основание с текстурированной поверхностью, на которой расположен, по крайней мере, один эпитаксиальный слой, выполненный из, по крайней мере, одного металла третьей группы, отличающаяся тем, что эпитаксиальный слой выполнен из безуглеродного материала и прилегает непосредственно к текстурированной поверхности сапфирового основания, при этом толщина слоя, выполненного из безуглеродного материала, составляет не менее 100 мкм. ! 2. Комбинированная подложка по п.1, отличающаяся тем, что эпитаксиальный слой выполнен из нитрида галлия.

Claims (2)

1. Комбинированная подложка для светодиодов, включающая сапфировое основание с текстурированной поверхностью, на которой расположен, по крайней мере, один эпитаксиальный слой, выполненный из, по крайней мере, одного металла третьей группы, отличающаяся тем, что эпитаксиальный слой выполнен из безуглеродного материала и прилегает непосредственно к текстурированной поверхности сапфирового основания, при этом толщина слоя, выполненного из безуглеродного материала, составляет не менее 100 мкм.
2. Комбинированная подложка по п.1, отличающаяся тем, что эпитаксиальный слой выполнен из нитрида галлия.
RU2009137422/28A 2009-09-30 2009-09-30 Комбинированная подложка для светодиодов RU2009137422A (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2009137422/28A RU2009137422A (ru) 2009-09-30 2009-09-30 Комбинированная подложка для светодиодов

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2009137422/28A RU2009137422A (ru) 2009-09-30 2009-09-30 Комбинированная подложка для светодиодов

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2009137422A true RU2009137422A (ru) 2011-04-10

Family

ID=44051949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009137422/28A RU2009137422A (ru) 2009-09-30 2009-09-30 Комбинированная подложка для светодиодов

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2009137422A (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2702948C1 (ru) * 2017-05-26 2019-10-14 Соко Кагаку Ко., Лтд. Основание, нитридный полупроводниковый излучающий ультрафиолетовое излучение элемент и способ производства основания

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2702948C1 (ru) * 2017-05-26 2019-10-14 Соко Кагаку Ко., Лтд. Основание, нитридный полупроводниковый излучающий ультрафиолетовое излучение элемент и способ производства основания
US11049999B2 (en) 2017-05-26 2021-06-29 Soko Kagaku Co., Ltd. Template, nitride semiconductor ultraviolet light-emitting element, and method of manufacturing template

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200733419A (en) Light emitting diode bonded with metal diffusion and manufacturing method thereof
TW200746455A (en) Group III nitride semiconductor light-emitting device
TW200627675A (en) Growth of Ⅲ-nitride light-emitting devices on textured substrates
EP2882267A3 (en) Wiring substrate, light emitting device, and manufacturing method of wiring substrate
EP2295844A3 (en) Light-emitting device and illumination device
TW200739949A (en) Gallium nitride type compound semiconductor light-emitting device and process for producing the same
EP2669947A3 (en) Sapphire substrate configured to form light emitting diode chip providing light in multi-directions, light emitting diode chip, and illumination device
JP2006286910A5 (ru)
RU2009128751A (ru) Сапфировые подложки и способы их изготовления
TW200610192A (en) Group III nitride semiconductor crystal and manufacturing method of the same, group III nitride semiconductor device and manufacturing method of the same, and light emitting device
TW200644269A (en) Light emitting diode and method of fabricating thereof
TW200717863A (en) Gallium nitride-based compound semiconductor light-emitting device
RU2014142050A (ru) Светоизлучающее устройство, выращенное на кремниевой подложке
RU2012147484A (ru) Светоизлучающий прибор и способ его изготовления
TW200623464A (en) High efficiency group III nitride led with lenticular surface
SG144121A1 (en) Nitride semiconductor substrate and manufacturing method thereof
ATE535027T1 (de) Lichtemittierende iii-nitrid-vorrichtung mit spannungsreduzierter lichtemittierender schicht
GB2483388A (en) Light emitting diodes
EP2530746A3 (en) Growth substrate and light emitting device
TW200729543A (en) Light emitting device and method of forming the same
WO2009001596A1 (ja) 発光素子及び照明装置
WO2011071922A3 (en) Epitaxial formation support structures and associated methods
CN106374020B (zh) 一种薄膜芯片的制作方法及其薄膜芯片
WO2011065723A3 (ko) 수직구조 반도체 발광소자 및 그 제조방법
TW200705721A (en) Method for manufacturing gallium nitride light emitting diode devices

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20121001