RU2008131574A - Способ изготовления тензорезисторов для измерения деформаций поверхности - Google Patents

Способ изготовления тензорезисторов для измерения деформаций поверхности Download PDF

Info

Publication number
RU2008131574A
RU2008131574A RU2008131574/28A RU2008131574A RU2008131574A RU 2008131574 A RU2008131574 A RU 2008131574A RU 2008131574/28 A RU2008131574/28 A RU 2008131574/28A RU 2008131574 A RU2008131574 A RU 2008131574A RU 2008131574 A RU2008131574 A RU 2008131574A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
strain gauge
layer
metal
vacuum
nichrome
Prior art date
Application number
RU2008131574/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2389973C2 (ru
Inventor
Леонид Александрович Борыняк (RU)
Леонид Александрович Борыняк
Юрий Кондратьевич Непочатов (RU)
Юрий Кондратьевич Непочатов
Original Assignee
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Новосибирский государственный технический универ
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Новосибирский государственный технический университет"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Новосибирский государственный технический универ, Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Новосибирский государственный технический университет" filed Critical Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Новосибирский государственный технический универ
Priority to RU2008131574/28A priority Critical patent/RU2389973C2/ru
Publication of RU2008131574A publication Critical patent/RU2008131574A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2389973C2 publication Critical patent/RU2389973C2/ru

Links

Landscapes

  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Measurement Of Force In General (AREA)

Abstract

Способ изготовления тензорезисторов для измерения деформаций поверхности, заключающийся в том, что на поверхность наносят слой керамики на основе окисла алюминия, который затем шлифуют, на него осаждают металлическую пасту, которая сплавляется при высокой температуре, на которой формируют рисунок тензорезистора, отличающийся тем, что металлическую поверхность окисляют методом глубокого пористого анодирования до формирования пленки окисла толщиной, обеспечивающей надежную электрическую изоляцию тензорезистора от поверхности металла, упрочняют пленку окисла обжигом в азотной атмосфере, наносят в вакууме слои SiO2 или Ta2O5, полируют его до 14 класса чистоты, наносят на него слой нихрома с необходимым удельным сопротивлением посредством термического испарения нихрома из тигля в вакууме, напыляют в вакууме слои алюминия и меди, изготавливают по тонкопленочной фотолитографии рисунок тензорезистора с контактными площадками, приваривают к ним токопроводящие проводники и готовый тензорезистор изолируют сверху слоем SiO2.

Claims (1)

  1. Способ изготовления тензорезисторов для измерения деформаций поверхности, заключающийся в том, что на поверхность наносят слой керамики на основе окисла алюминия, который затем шлифуют, на него осаждают металлическую пасту, которая сплавляется при высокой температуре, на которой формируют рисунок тензорезистора, отличающийся тем, что металлическую поверхность окисляют методом глубокого пористого анодирования до формирования пленки окисла толщиной, обеспечивающей надежную электрическую изоляцию тензорезистора от поверхности металла, упрочняют пленку окисла обжигом в азотной атмосфере, наносят в вакууме слои SiO2 или Ta2O5, полируют его до 14 класса чистоты, наносят на него слой нихрома с необходимым удельным сопротивлением посредством термического испарения нихрома из тигля в вакууме, напыляют в вакууме слои алюминия и меди, изготавливают по тонкопленочной фотолитографии рисунок тензорезистора с контактными площадками, приваривают к ним токопроводящие проводники и готовый тензорезистор изолируют сверху слоем SiO2.
RU2008131574/28A 2008-07-30 2008-07-30 Способ изготовления тензорезисторов для измерения деформаций поверхности RU2389973C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008131574/28A RU2389973C2 (ru) 2008-07-30 2008-07-30 Способ изготовления тензорезисторов для измерения деформаций поверхности

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008131574/28A RU2389973C2 (ru) 2008-07-30 2008-07-30 Способ изготовления тензорезисторов для измерения деформаций поверхности

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008131574A true RU2008131574A (ru) 2010-02-10
RU2389973C2 RU2389973C2 (ru) 2010-05-20

Family

ID=42123388

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008131574/28A RU2389973C2 (ru) 2008-07-30 2008-07-30 Способ изготовления тензорезисторов для измерения деформаций поверхности

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2389973C2 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105220198A (zh) * 2015-10-22 2016-01-06 桂林电子科技大学 一种耐酸碱腐蚀轻金属材料弹性体及其制造工艺
CN114322740A (zh) * 2021-12-03 2022-04-12 电子科技大学长三角研究院(湖州) 一种基于磁控溅射的复合薄膜应变计及其制备方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2658089C1 (ru) * 2016-12-16 2018-06-19 Общество С Ограниченной Ответственностью "Тонкопленочные Технологии" Датчик деформации
RU2685405C1 (ru) * 2018-03-06 2019-04-17 Акционерное общество "Информационные спутниковые системы" имени академика М.Ф. Решетнёва" Способ регулировки значения потребляемого тока инициирующих устройств
RU2698554C1 (ru) * 2018-12-18 2019-08-28 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Балтийский государственный технический университет "ВОЕНМЕХ" им. Д.Ф. Устинова (БГТУ "ВОЕНМЕХ") Способ установки тензорезисторов
RU2736233C1 (ru) * 2020-02-10 2020-11-12 Открытое акционерное общество "Авангард" Тонкопленочный титановый терморезистор на гибкой полиимидной подложке и способ его изготовления

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105220198A (zh) * 2015-10-22 2016-01-06 桂林电子科技大学 一种耐酸碱腐蚀轻金属材料弹性体及其制造工艺
CN105220198B (zh) * 2015-10-22 2017-12-19 桂林电子科技大学 一种耐酸碱腐蚀轻金属材料弹性体及其制造工艺
CN114322740A (zh) * 2021-12-03 2022-04-12 电子科技大学长三角研究院(湖州) 一种基于磁控溅射的复合薄膜应变计及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
RU2389973C2 (ru) 2010-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008131574A (ru) Способ изготовления тензорезисторов для измерения деформаций поверхности
JP5884110B2 (ja) 歪抵抗素子およびそれを用いた歪検出装置
JP2016535930A5 (ru)
JP2017507484A5 (ru)
JP2014078558A5 (ru)
JP3493343B2 (ja) プラチナ温度センサおよびその製造方法
CN103021605B (zh) 片式铂热敏电阻器制作方法
CN104155035B (zh) 压力传感器的形成方法
JP2015534082A (ja) 温度プローブおよび温度プローブの製造方法
KR102237782B1 (ko) 센서 제조 방법, 센서 및 센서 사용방법
RU2367062C1 (ru) Полупроводниковый резистор
Díez-Sierra et al. Manufacturing smart surfaces with embedded sensors via magnetron sputtering and laser scribing
JP2007535145A (ja) 電解コンデンサ用の一体型セパレータ
KR20220042224A (ko) 가요성 수동 전자 컴포넌트 및 그 생산 방법
CN103680787B (zh) 一种柔性精密电阻器及其制备方法
JP2017168749A (ja) チップ抵抗器およびその製造方法
CN108893740B (zh) 一种液气相交替沉积制备高温绝缘薄膜的方法
CN108807211B (zh) 一种用于测量二维半导体材料的磁阻的装置及其制作方法
RU2583952C1 (ru) Способ изготовления тонкопленочного резистора
JP2020521975A (ja) ひずみゲージならびにこうしたひずみゲージを有する金属帯
CN207663866U (zh) 一种低电阻温度系数的复合薄膜电阻
WO2015166770A1 (ja) 熱式空気流量センサ
CN205248317U (zh) 一种具有延伸电极的磁敏器件
JPH0765937B2 (ja) センサ素子およびその製造方法
CN104409622A (zh) 一种高频薄膜热电变换器的结构及制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20130731