RU2007133604A - Способ изготовления многослойной подложки и многослойная подложка - Google Patents

Способ изготовления многослойной подложки и многослойная подложка Download PDF

Info

Publication number
RU2007133604A
RU2007133604A RU2007133604/11A RU2007133604A RU2007133604A RU 2007133604 A RU2007133604 A RU 2007133604A RU 2007133604/11 A RU2007133604/11 A RU 2007133604/11A RU 2007133604 A RU2007133604 A RU 2007133604A RU 2007133604 A RU2007133604 A RU 2007133604A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
layer
region
multilayer substrate
substrate according
forms
Prior art date
Application number
RU2007133604/11A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2374082C2 (ru
Inventor
Рене ШТАУБ (CH)
Рене ШТАУБ
Уэйн Роберт ТОМПКИН (CH)
Уэйн Роберт ТОМПКИН
Андреас ШИЛЛИНГ (CH)
Андреас ШИЛЛИНГ
Original Assignee
Овд Кинеграм Аг (Ch)
Овд Кинеграм Аг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Овд Кинеграм Аг (Ch), Овд Кинеграм Аг filed Critical Овд Кинеграм Аг (Ch)
Publication of RU2007133604A publication Critical patent/RU2007133604A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2374082C2 publication Critical patent/RU2374082C2/ru

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/40—Manufacture
    • B42D25/405—Marking
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/328—Diffraction gratings; Holograms
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00—Optical: systems and elements
    • Y10S359/90—Methods

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Blow-Moulding Or Thermoforming Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)

Claims (42)

1. Способ изготовления многослойной подложки (100, 100'), имеющей по частям сформированный первый слой (3m),
отличающийся тем, что
формируют дифракционную первую рельефную структуру (4) с отношением глубины к ширине отдельных структурных элементов больше 0,3 в первой области (5) мультиплицирующего слоя (3) многослойной подложки (100, 100'), а первый слой (3m) наносят на мультиплицирующий слой (3) в первой области (5) и во второй области (4, 6), в которой первую рельефную структуру не формируют в мультиплицирующем слое (3), с постоянной поверхностной плотностью относительно плоскости, задаваемой мультиплицирующим слоем (3), и первый слой (3m) частично удаляют до степени, определяемой первой рельефной структурой, так, чтобы первый слой (3m) был удален в первой области (5), но не во второй области (4, 6), или во второй области (4, 6), но не в первой области (5).
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что первый слой (3m) подвергают воздействию травителя, в частности кислоты или щелочного раствора, в процессе травления в первой области и также во второй области, а продолжительность действия травителя выбирают так, чтобы первый слой (3m) подлежал удалению в первой области, но не во второй области.
3. Способ по одному из п.1 и 2, отличающийся тем, что первый слой (3m) наносят на мультиплицирующий слой (3) с поверхностной плотностью, тем, что пропускание и в особенности прозрачность первого слоя (3m) в первой области повышают с помощью первой рельефной структуры по отношению к пропусканию и в особенности прозрачности первого слоя (3m) во второй области.
4. Способ по п.3, отличающийся тем, что мультиплицирующий слой (3) представлен в виде фотоактивной смываемой маски, тем, что смываемую маску экспонируют через первый слой (3) и активируют в первой области, в которой пропускание, в особенности прозрачность, первого слоя (3m) повышают с помощью первой рельефной структуры, и тем, что активированные области смываемой маски и области первого слоя (3m), которые расположены на нем, удаляют в процессе промывки.
5. Способ по п.3, отличающийся тем, что фотоактивируемый слой наносят на первый слой (3m), фотоактивируемый слой экспонируют через первый слой (3m) и активируют в первой области, в которой пропускание, в особенности прозрачность, первого слоя (3m) повышают с помощью первой рельефной структуры, и при этом активированный фотоактивируемый слой образует травитель для первого слоя (3m).
6. Способ по п.3, отличающийся тем, что фоточувствительный слой (8) наносят на первый слой (3m), фоточувствительный слой (8) экспонируют через первый слой (3m) и активируют в первой области, в которой пропускание, в особенности прозрачность, первого слоя (3m) повышают с помощью первой рельефной структуры, фоточувствительный слой (8) проявляют так, чтобы проявленный светочувствительный слой (8) образовывал маску для травления для первого слоя (3m), и в процессе травления удаляют области первого слоя (3m), которые не покрыты маской для травления.
7. Способ по п.6, отличающийся тем, что фоточувствительный слой (8) образуют из фоторезиста.
8. Способ по п.7, отличающийся тем, что фоторезист представлен в виде позитивного фоторезиста.
9. Способ по п.7, отличающийся тем, что фоторезист представлен в виде негативного фоторезиста.
10. Способ по п.6, отличающийся тем, что фоточувствительный слой (8) представлен в виде фотополимера.
11. Способ по п.3, отличающийся тем, что поглощающий слой наносят на первый слой (3m), поглощающий слой облучают лазерным светом через первый слой (3m) и термически удаляют в первой области (5) первого слоя (3m), в которой пропускание, в особенности прозрачность, первого слоя (3m) повышают с помощью первой рельефной структуры, и при этом частично удаленный поглощающий слой образует маску для травления для первого слоя (3m).
12. Способ по п. 6, отличающийся тем, что остатки масок для травления удаляют.
13. Способ по п. 11, отличающийся тем, что остатки масок для травления удаляют.
14. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что второй слой (3р) вводят в области, в которых первый слой (3m) удален.
15. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что второй слой (3р) вводят в области, в которых первый слой (3m) удален и по частям сформированный первый слой (3m) удаляют и заменяют по частям сформированным третьим слоем (3р').
16. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что первый слой (3m) гальванически усиливают.
17. Способ по п.14, отличающийся тем, что первый слой (3m)и/или второй слой(3р) гальванически усиливают.
18. Способ по п.15, отличающийся тем, что второй слой (3р) и /или третий слой(3р'')гальванически усиливают.
19. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что четвертый слой наносят на слои, расположенные на мультиплицирующем слое (3), с поверхностной плотностью относительно плоскости, задаваемой мультиплицирующим слоем (3), тем, что пропускание и в особенности прозрачность четвертого слоя в первой области повышают с помощью первой рельефной структуры относительно пропускания и в особенности прозрачности четвертого слоя во второй области, четвертый слой частично удаляют до степени, определяемой первой рельефной структурой, так, чтобы четвертый слой подлежал удалению в первой области, но не во второй области, или во второй области, но не в первой области.
20. Многослойная подложка, имеющая мультиплицирующий слой (3) и по меньшей мере один первый слой (3m), по частям расположенный на мультиплицирующем слое (3),
отличающаяся тем, что
дифракционная первая рельефная структура с отношением глубины к ширине отдельных структурных элементов больше 0,3 сформирована в первой области (5) мультиплицирующего слоя (3), первая рельефная структура не сформирована в мультиплицирующем слое (3) во второй области (4, 6) мультиплицирующего слоя (3), а частичная компоновка первого слоя (3m) определяется первой рельефной структурой так, что первый слой (3m) удален в первой области (5), но не во второй области (4, 6), или во второй области (4, 6), но не в первой области. (5).
21. Многослойная подложка по п.20, отличающаяся тем, что второй слой (3р) расположен в областях мультиплицирующего слоя (3), в которых первый слой (3m) не присутствует.
22. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m, 3р') и/или второй слой (3р) образован/образованы из металла или металлического сплава.
23. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) образован/образованы из диэлектрика, например TiO2 или ZnS.
24. Многослойная подложка по п.23, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и второй слой (3р) имеют различные показатели преломления.
25. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) образован/образованы из полимера.
26. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) содержит/содержат жидкокристаллический материал, в частности холестерический жидкокристаллический материал.
27. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) представлен/представлены в виде окрашенного слоя.
28. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) образован/образованы из множества отдельных слоев.
29. Многослойная подложка по п.28, отличающаяся тем, что отдельные слои образуют тонкопленочную слоистую систему.
30. Многослойная подложка по п.28, отличающаяся тем, что отдельные слои образованы из различных материалов.
31. Многослойная подложка по п.30, отличающаяся тем, что отдельные слои образованы из различных металлов и/или различных металлических сплавов.
32. Многослойная подложка по п.28, отличающаяся тем, что по меньшей мере один из отдельных слоев удален локально в области.
33. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) образует/образуют оптический рисунок.
34. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) образует/образуют фотошаблон.
35. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) образует/образуют маску для формирования изображения.
36. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) образует/образуют растровое изображение.
37. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что рельефная структура с небольшим отношением глубины к ширине создана во второй области, предпочтительно в виде дифракционной структуры, например в виде голограммы, кинеграммы (Kinegram®) или дифракционной решетки.
38. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) образует/образуют электронный компонент, в частности антенну, конденсатор, катушку индуктивности или компонент из органического полупроводника.
39. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) образует/образуют предпочтительно частично прозрачную, экранирующую пленку для электромагнитного излучения.
40. Многослойная подложка по одному из пп.20 и 21, отличающаяся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3р) образует/образуют кристалл или часть его для анализа жидкости и/или газа.
41. Многослойная подложка по п.21, отличающаяся тем, что мультиплицирующий слой (3) и/или первый слой (3m) образует/образуют ориентирующий слой для ориентации жидких кристаллов, а второй слой образован слоем жидкокристаллического материала.
42. Многослойная подложка по п.41, отличающаяся тем, что ориентирующий слой имеет дифракционные структуры для ориентации жидких кристаллов, которые локально ориентированы различным образом, так что рассматриваемые при поляризованном свете жидкие кристаллы отображают элемент информации, такой, как например логотип.
RU2007133604/11A 2005-02-10 2006-02-09 Способ изготовления многослойной подложки и многослойная подложка RU2374082C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005006231.8 2005-02-10
DE102005006231A DE102005006231B4 (de) 2005-02-10 2005-02-10 Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2007133604A true RU2007133604A (ru) 2009-03-20
RU2374082C2 RU2374082C2 (ru) 2009-11-27

Family

ID=36522198

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007133604/11A RU2374082C2 (ru) 2005-02-10 2006-02-09 Способ изготовления многослойной подложки и многослойная подложка

Country Status (14)

Country Link
US (1) US7821716B2 (ru)
EP (1) EP1846253B1 (ru)
JP (1) JP5068182B2 (ru)
CN (1) CN100491134C (ru)
AT (1) ATE408524T1 (ru)
CA (1) CA2596996C (ru)
DE (2) DE102005006231B4 (ru)
DK (1) DK1846253T3 (ru)
ES (1) ES2314876T3 (ru)
PL (1) PL1846253T3 (ru)
PT (1) PT1846253E (ru)
RU (1) RU2374082C2 (ru)
SI (1) SI1846253T1 (ru)
WO (1) WO2006084685A2 (ru)

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005006277B4 (de) * 2005-02-10 2007-09-20 Ovd Kinegram Ag Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers
DE102006037431A1 (de) * 2006-08-09 2008-04-17 Ovd Kinegram Ag Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers sowie Mehrschichtkörper
TW200813898A (en) * 2006-09-12 2008-03-16 Nanogate Advanced Materials Gmbh Security device
DE102007039996B4 (de) 2007-02-07 2020-09-24 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Sicherheitselement für ein Sicherheitsdokument und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102007062089A1 (de) 2007-12-21 2009-07-02 Giesecke & Devrient Gmbh Verfahren zum Erzeugen einer Mikrostruktur
DE102008008685A1 (de) 2008-02-12 2009-08-13 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102008013073B4 (de) 2008-03-06 2011-02-03 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines Folienelements und Folienelement
DE102008024147B4 (de) * 2008-05-19 2020-12-03 Ovd Kinegram Ag Optisches Sicherheitselement
JP2010271653A (ja) * 2009-05-25 2010-12-02 Toppan Printing Co Ltd 表示体、粘着ラベル、転写箔及び表示体付き物品
JP2011002491A (ja) * 2009-06-16 2011-01-06 Toppan Printing Co Ltd 表示体及びラベル付き物品
EP2444826B1 (en) * 2009-06-18 2019-05-22 Toppan Printing Co., Ltd. Optical device and method of manufacturing the same
DE102009033762A1 (de) * 2009-07-17 2011-01-27 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers sowie Mehrschichtkörper
DE102010050031A1 (de) 2010-11-02 2012-05-03 Ovd Kinegram Ag Sicherheitselement und Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements
DE102011102999A1 (de) 2011-05-24 2012-11-29 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Folie und deren Herstellungsverfahren
RU2480550C1 (ru) * 2011-12-23 2013-04-27 Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Гознак" (Фгуп "Гознак") Полимерный многослойный комбинированный защитный элемент и способ его изготовления
JP6201288B2 (ja) * 2012-09-25 2017-09-27 凸版印刷株式会社 表示体および表示体の製造プロセス
WO2014077329A1 (ja) 2012-11-19 2014-05-22 凸版印刷株式会社 偽造防止構造体及びその製造方法
DE102013106827A1 (de) 2013-06-28 2014-12-31 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers sowie Mehrschichtkörper
CN104647934B (zh) * 2013-11-21 2016-10-05 中钞特种防伪科技有限公司 一种光学防伪元件及其制作方法
CN104057747B (zh) * 2013-11-22 2016-03-23 中钞特种防伪科技有限公司 一种制备光学防伪元件的方法
DE102013113283A1 (de) 2013-11-29 2015-06-03 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Mehrschichtkörper und Verfahren zu dessen Herstellung
JP6314476B2 (ja) * 2013-12-25 2018-04-25 凸版印刷株式会社 転写用積層媒体および印刷物
CN105015216B (zh) * 2014-04-29 2017-06-16 中钞特种防伪科技有限公司 一种光学防伪元件及制备光学防伪元件的方法
DE102014016051A1 (de) 2014-05-06 2015-11-12 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement
DE102015100520A1 (de) 2015-01-14 2016-07-28 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Mehrschichtkörper und Verfahren zu dessen Herstellung
JP2018508048A (ja) * 2015-03-12 2018-03-22 レイヴ リミテッド ライアビリティ カンパニー 間接的表面清浄化装置および方法
DE102015105285A1 (de) 2015-04-08 2016-10-13 Kurz Typofol Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Dokuments sowie ein Dokument
DE102015106800B4 (de) * 2015-04-30 2021-12-30 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers
US20180181061A1 (en) * 2015-06-26 2018-06-28 Fedrigoni Spa Security element with pattern and double-sided holographic effect
TWI726090B (zh) * 2016-04-14 2021-05-01 日商凸版印刷股份有限公司 積層體、個人認證媒體、及積層體的製造方法
CN110234517A (zh) * 2017-02-02 2019-09-13 费德欧尼公司 具有透明图案的双金属安全元件
AT520011B1 (de) 2017-05-16 2019-10-15 Hueck Folien Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements sowie nach diesem Verfahren hergestelltes Sicherheitselement und dessen Verwendung
WO2019090328A1 (en) * 2017-11-06 2019-05-09 Magic Leap, Inc. Method and system for tunable gradient patterning using a shadow mask
DE102018113862A1 (de) * 2018-06-11 2019-12-12 Jenoptik Optical Systems Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen einer Mehrschicht-Komponente
DE102018008041A1 (de) 2018-10-11 2020-04-16 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Ziffernblatt für eine Uhr
JP6915648B2 (ja) * 2019-07-01 2021-08-04 凸版印刷株式会社 転写箔の製造方法
FR3111843A1 (fr) 2020-06-30 2021-12-31 Surys Procédés de fabrication de composants optiques de sécurité, composants optiques de sécurité et objets sécurisés équipés de tels composants
DE102021000879A1 (de) 2021-02-19 2022-08-25 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements mit Mikroabbildungselementen

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2136352B (en) 1982-12-03 1986-09-10 Hollusions Limited Hologram devices and methods of manufacture
US4906315A (en) * 1983-06-20 1990-03-06 Mcgrew Stephen P Surface relief holograms and holographic hot-stamping foils, and method of fabricating same
EP0216947B1 (de) 1985-10-01 1991-01-02 Maurer Electronics Gmbh Kartenförmiger Datenträger und Verfahren zu seiner Herstellung
JPS63149771U (ru) * 1987-03-24 1988-10-03
DE3840729C2 (de) 1988-12-02 1997-07-17 Gao Ges Automation Org Mehrschichtiger Aufzeichnungsträger und Verfahren zum Beschriften eines mehrschichtigen Aufzeichnungsträgers
CH678835A5 (ru) 1991-01-18 1991-11-15 Landis & Gyr Betriebs Ag
EP0537439B2 (de) 1991-10-14 2003-07-09 OVD Kinegram AG Sicherheitselement
WO1993011510A1 (en) 1991-12-04 1993-06-10 Cardlok Pty. Ltd. Profiled card security system
US6495231B2 (en) * 1994-06-27 2002-12-17 Exxonmobil Oil Corporation Epoxy coated multilayer structure for use in the production of security documents
US6294267B1 (en) * 1994-06-27 2001-09-25 Exxonmobil Oil Corporation Core printed security documents
CH690067A5 (de) 1995-08-10 2000-04-14 Ovd Kinegram Ag Verfahren zur Herstellung teilmetallisierter Gitterstrukturen.
CN1130572A (zh) * 1995-12-28 1996-09-11 惠守斌 一种金属名片的制造方法
GB9813205D0 (en) 1998-06-18 1998-08-19 Rue De Int Ltd Methods of providing images on substrates
TW484101B (en) * 1998-12-17 2002-04-21 Hitachi Ltd Semiconductor device and its manufacturing method
US6761959B1 (en) 1999-07-08 2004-07-13 Flex Products, Inc. Diffractive surfaces with color shifting backgrounds
US7101644B2 (en) * 2000-06-23 2006-09-05 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Hologram transfer foil
US6507441B1 (en) * 2000-10-16 2003-01-14 Optid, Optical Identification Technologies Ltd. Directed reflectors and systems utilizing same
DE10054503B4 (de) * 2000-11-03 2005-02-03 Ovd Kinegram Ag Lichtbeugende binäre Gitterstruktur und Sicherheitselement mit einer solchen Gitterstruktur
DE10139719A1 (de) * 2000-11-04 2002-05-08 Kurz Leonhard Fa Mehrschichtkörper, insbesondere Mehrschichtenfolie sowie Verfahren zur Erhöhung der Fälschungssicherheit eines Mehrschichtenkörpers
EP1413456B1 (de) * 2000-11-04 2006-01-04 Leonhard Kurz GmbH & Co. KG Kunststoffkörper als Folie, z.B. Transferfolie oder Laminierfolie ausgebildet oder mit einer solchen Folie versehen sowie Verfahren zur Herstellung eines Mehrfarbenbildes auf oder in einem solchen Kunststoffkörper
KR20040083078A (ko) * 2002-01-18 2004-09-30 오우브이디이 키네그램 악티엔개젤샤프트 광학 도파관을 구비한 회절 보안 부재
DE10216562C1 (de) * 2002-04-05 2003-12-11 Ovd Kinegram Ag Zug Sicherheitselement mit Mikro- und Makrostrukturen
JP3676784B2 (ja) * 2003-01-28 2005-07-27 Ｎｅｃエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法
DE10318157A1 (de) * 2003-04-17 2004-11-11 Leonhard Kurz Gmbh & Co. Kg Folie und optisches Sicherungselement
DE10328760B4 (de) * 2003-06-25 2007-05-24 Ovd Kinegram Ag Optisches Sicherheitselement
US20050063027A1 (en) * 2003-07-17 2005-03-24 Durst Robert T. Uniquely linking security elements in identification documents
DE10333704B4 (de) * 2003-07-23 2009-12-17 Ovd Kinegram Ag Sicherheitselement zur RF-Identifikation
US7338893B2 (en) * 2005-11-23 2008-03-04 Texas Instruments Incorporated Integration of pore sealing liner into dual-damascene methods and devices
JP4321570B2 (ja) * 2006-09-06 2009-08-26 ソニー株式会社 半導体装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
ES2314876T3 (es) 2009-03-16
CN101166633A (zh) 2008-04-23
DE102005006231A1 (de) 2006-08-24
EP1846253A2 (de) 2007-10-24
CN100491134C (zh) 2009-05-27
EP1846253B1 (de) 2008-09-17
JP5068182B2 (ja) 2012-11-07
DK1846253T3 (da) 2009-01-19
US20080310025A1 (en) 2008-12-18
PT1846253E (pt) 2008-11-18
US7821716B2 (en) 2010-10-26
CA2596996A1 (en) 2006-08-17
WO2006084685A2 (de) 2006-08-17
SI1846253T1 (sl) 2009-02-28
DE502006001597D1 (de) 2008-10-30
ATE408524T1 (de) 2008-10-15
RU2374082C2 (ru) 2009-11-27
WO2006084685A3 (de) 2006-09-28
DE102005006231B4 (de) 2007-09-20
JP2008530600A (ja) 2008-08-07
PL1846253T3 (pl) 2009-03-31
CA2596996C (en) 2013-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2007133604A (ru) Способ изготовления многослойной подложки и многослойная подложка
RU2007133613A (ru) Многослойное тело и способ изготовления многослойного тела
KR101333899B1 (ko) 다계조 포토마스크, 다계조 포토마스크의 제조 방법, 패턴 전사 방법 및 박막 트랜지스터의 제조 방법
US20140004320A1 (en) Photopatterning
JPH04136854A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2010500606A (ja) 少なくとも一つの多層体の製造プロセスと多層体
JP3248526B2 (ja) 回折光学素子及びそれを有した光学系
CN108267927A (zh) 大型相移掩膜
KR101266880B1 (ko) 편광판의 제조방법 및 레이저 가공장치
JP4005622B1 (ja) フォトマスク用基板及びフォトマスク並びにその製造方法
US6368775B1 (en) 3-D photo-patterning of refractive index structures in photosensitive thin film materials
JP2011154080A (ja) 透明基材両面へのパターン形成方法
JP2002099071A5 (ru)
JP2009531734A (ja) ナノパターン形成方法およびこれによって形成されたパターンを有する基板
US20180239235A1 (en) Extreme ultraviolet mask
KR101860987B1 (ko) 감광성 유리를 이용한 euv 리소그래피용 펠리클 제조방법
US6824932B2 (en) Self-aligned alternating phase shift mask patterning process
WO2016114455A1 (ko) 포토리소그래피 방법
US20070269722A1 (en) Hybrid phase-shift mask and manufacturing method thereof
JP2010026205A (ja) 多階調フォトマスク及び多階調フォトマスクの製造方法
JPS5672445A (en) Production of photomask
JPH10263871A (ja) レーザー加工用誘電体マスクの製造方法
CN101685253A (zh) 制作光掩模的方法
JP2008176095A5 (ru)
JP2019168584A5 (ru)