RU2004112867A - Способ получения микрослоистых термостабильных материалов - Google Patents
Способ получения микрослоистых термостабильных материалов Download PDFInfo
- Publication number
- RU2004112867A RU2004112867A RU2004112867/02A RU2004112867A RU2004112867A RU 2004112867 A RU2004112867 A RU 2004112867A RU 2004112867/02 A RU2004112867/02 A RU 2004112867/02A RU 2004112867 A RU2004112867 A RU 2004112867A RU 2004112867 A RU2004112867 A RU 2004112867A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- substrate
- materials
- layer
- distance
- equal
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T50/00—Aeronautics or air transport
- Y02T50/60—Efficient propulsion technologies, e.g. for aircraft
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Claims (5)
1. Способ получения микрослоистых термостабильных материалов, включающий последовательное осаждение материалов слоев в вакууме на подогретую подложку, отличающийся тем, что, с целью обеспечения сплошности слоев в диапазоне толщин от 0,1 до 1 мкм при температуре подложки, превышающей или равной 0,3 от температуры плавления (°С) материала наименее тугоплавкого слоя, на границе раздела слоев формируют переходную границу из материалов чередующихся слоев, с толщиной от 0,001 до 0,005 мкм с плавным концентрационным переходом от материала одного слоя к материалу другого слоя.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что расстояние до поверхности, на которую происходит конденсация, должно равняться 0,55-0,8 расстояния между центрами тиглей, из которых осуществляется выпаривание исходных материалов.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что расстояние между центрами тиглей, из которых осуществляется выпаривание исходных материалов, должно равняться 0,55-0,8 диаметра подложки, на которую осуществляется конденсация.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что скорость вращения подложки в относительных единицах должна быть в 3-5 раз больше суммарной скорости осаждения парового потока.
5. Способ по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что уровень шероховатости подложки, на которую осуществляют конденсацию, должен быть не больше 0,63 RА.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH01622/03 | 2003-09-23 | ||
CH16222003 | 2003-09-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2004112867A true RU2004112867A (ru) | 2005-10-27 |
RU2271404C2 RU2271404C2 (ru) | 2006-03-10 |
Family
ID=34280716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2004112867/02A RU2271404C2 (ru) | 2003-09-23 | 2004-04-27 | Способ получения микрослоистых термостабильных материалов |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050112295A1 (ru) |
EP (1) | EP1520913A1 (ru) |
CN (1) | CN1609263A (ru) |
CA (1) | CA2451675A1 (ru) |
RU (1) | RU2271404C2 (ru) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3862737B1 (ja) * | 2005-10-18 | 2006-12-27 | 栄樹 津島 | クラッド材およびその製造方法、クラッド材の成型方法、クラッド材を用いた放熱基板 |
RU2466206C2 (ru) * | 2010-10-11 | 2012-11-10 | Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг РФ) | Способ получения многослойного износостойкого теплозащитного покрытия |
CN102501494A (zh) * | 2011-10-11 | 2012-06-20 | 常熟市广大电器有限公司 | 一种耐热材料 |
RU2548343C2 (ru) * | 2013-07-03 | 2015-04-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "МАТИ"-Российский государственный технологический университет имени К.Э. Циолковского (МАТИ) | Способ получения супермногослойных разнородных материалов с наноразмерной структурой слоев |
WO2019206979A1 (en) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Coating comprising mcral-x coating layer |
CN112410729B (zh) * | 2020-11-09 | 2022-12-06 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种超薄液态金属薄膜及制备方法和应用 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69527236T2 (de) * | 1994-09-16 | 2003-03-20 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Mehrschichtfilm aus ultrafeinen Partikeln und harter Verbundwerkstoff für Werkzeuge, die diesen Film enthalten |
US5722803A (en) * | 1995-07-14 | 1998-03-03 | Kennametal Inc. | Cutting tool and method of making the cutting tool |
US5792521A (en) * | 1996-04-18 | 1998-08-11 | General Electric Company | Method for forming a multilayer thermal barrier coating |
US5998003A (en) * | 1998-09-10 | 1999-12-07 | Electric Power Research Institute, Inc. | Multilayer nanostructured ceramic thermal barrier coatings |
DE10016958A1 (de) * | 2000-04-06 | 2001-10-18 | Widia Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Multilagenschichten auf Substratkörpern und Verbundwerkstoff, bestehend aus einem beschichteten Substratkörper |
US7556695B2 (en) * | 2002-05-06 | 2009-07-07 | Honeywell International, Inc. | Apparatus to make nanolaminate thermal barrier coatings |
-
2003
- 2003-12-23 US US10/744,344 patent/US20050112295A1/en not_active Abandoned
- 2003-12-29 EP EP03293347A patent/EP1520913A1/fr not_active Withdrawn
- 2003-12-31 CA CA002451675A patent/CA2451675A1/fr not_active Abandoned
-
2004
- 2004-04-27 RU RU2004112867/02A patent/RU2271404C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2004-08-24 CN CNA200410064401XA patent/CN1609263A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2451675A1 (fr) | 2005-03-23 |
US20050112295A1 (en) | 2005-05-26 |
RU2271404C2 (ru) | 2006-03-10 |
EP1520913A1 (fr) | 2005-04-06 |
CN1609263A (zh) | 2005-04-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002528639A5 (ru) | ||
ATE478172T2 (de) | Schneideeinsatz mit keramischer beschichtung | |
JP2010523351A5 (ru) | ||
RU2010122313A (ru) | Изготовление самостоятельных твердотельных слоев термической обработкой подложек с полимером | |
HRP20141036T1 (hr) | Metoda za proizvodnju solarne stanice s površinskim dielektriäśnim dvoslojem koji smanjuje reaktivnost, i odgovarajuä†e solarne stanice | |
ATE438927T1 (de) | Prozess zur herstellung von dünnfilmtransistoren | |
WO2004077519A3 (en) | Dielectric barrier layer films | |
JP2004535494A5 (ru) | ||
TWI726896B (zh) | 用於玻璃成型模具之塗層及包括該等塗層的模具 | |
WO2008096089A3 (fr) | Procede de depot de couche mince et produit obtenu | |
WO2003088340A3 (de) | Verfahren zur herstellung strukturierter schichten auf substraten | |
KR970701920A (ko) | 나노 크리스탈의 전구 물질을 사용하여 낮은 온도에서 형성된 iv족 반도체 박막(group iv semiconductor thin films formed at low temperature using nanocrystal precursors) | |
WO2006069774A3 (de) | Vakuumbeschichtungssystem | |
JP2013101984A5 (ru) | ||
KR830005068A (ko) | 주상 입자 세라믹 열 차단 코팅 | |
FR2905707B1 (fr) | Procede pour deposer sur un substrat une couche mince d'alliage metallique et alliage metallique sous forme de couche mince. | |
RU2019130866A (ru) | Способ производства подложки на основе карбида кремния и подложка карбида кремния | |
RU2004112867A (ru) | Способ получения микрослоистых термостабильных материалов | |
JP2013536150A (ja) | シリコンインゴットを凝固させるためのるつぼ | |
JP5419868B2 (ja) | 複合フィルムおよびその製造方法 | |
JP2008542082A5 (ru) | ||
JP4286142B2 (ja) | 部品の表面上に連続被覆を作る方法 | |
JP2005508448A5 (ru) | ||
JP2015523917A5 (ru) | ||
JP2006503976A (ja) | 金属表面を被覆する方法および被覆された金属表面を有する基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20070428 |