RU2004112867A - Способ получения микрослоистых термостабильных материалов - Google Patents

Способ получения микрослоистых термостабильных материалов Download PDF

Info

Publication number
RU2004112867A
RU2004112867A RU2004112867/02A RU2004112867A RU2004112867A RU 2004112867 A RU2004112867 A RU 2004112867A RU 2004112867/02 A RU2004112867/02 A RU 2004112867/02A RU 2004112867 A RU2004112867 A RU 2004112867A RU 2004112867 A RU2004112867 A RU 2004112867A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrate
materials
layer
distance
equal
Prior art date
Application number
RU2004112867/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2271404C2 (ru
Inventor
Николай Иванович Гречанюк (UA)
Николай Иванович Гречанюк
Original Assignee
Гба С.А. (Ch)
Гба С.А.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Гба С.А. (Ch), Гба С.А. filed Critical Гба С.А. (Ch)
Publication of RU2004112867A publication Critical patent/RU2004112867A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2271404C2 publication Critical patent/RU2271404C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02TCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
    • Y02T50/00Aeronautics or air transport
    • Y02T50/60Efficient propulsion technologies, e.g. for aircraft

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Claims (5)

1. Способ получения микрослоистых термостабильных материалов, включающий последовательное осаждение материалов слоев в вакууме на подогретую подложку, отличающийся тем, что, с целью обеспечения сплошности слоев в диапазоне толщин от 0,1 до 1 мкм при температуре подложки, превышающей или равной 0,3 от температуры плавления (°С) материала наименее тугоплавкого слоя, на границе раздела слоев формируют переходную границу из материалов чередующихся слоев, с толщиной от 0,001 до 0,005 мкм с плавным концентрационным переходом от материала одного слоя к материалу другого слоя.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что расстояние до поверхности, на которую происходит конденсация, должно равняться 0,55-0,8 расстояния между центрами тиглей, из которых осуществляется выпаривание исходных материалов.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что расстояние между центрами тиглей, из которых осуществляется выпаривание исходных материалов, должно равняться 0,55-0,8 диаметра подложки, на которую осуществляется конденсация.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что скорость вращения подложки в относительных единицах должна быть в 3-5 раз больше суммарной скорости осаждения парового потока.
5. Способ по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что уровень шероховатости подложки, на которую осуществляют конденсацию, должен быть не больше 0,63 RА.
RU2004112867/02A 2003-09-23 2004-04-27 Способ получения микрослоистых термостабильных материалов RU2271404C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH01622/03 2003-09-23
CH16222003 2003-09-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2004112867A true RU2004112867A (ru) 2005-10-27
RU2271404C2 RU2271404C2 (ru) 2006-03-10

Family

ID=34280716

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2004112867/02A RU2271404C2 (ru) 2003-09-23 2004-04-27 Способ получения микрослоистых термостабильных материалов

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20050112295A1 (ru)
EP (1) EP1520913A1 (ru)
CN (1) CN1609263A (ru)
CA (1) CA2451675A1 (ru)
RU (1) RU2271404C2 (ru)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3862737B1 (ja) * 2005-10-18 2006-12-27 栄樹 津島 クラッド材およびその製造方法、クラッド材の成型方法、クラッド材を用いた放熱基板
RU2466206C2 (ru) * 2010-10-11 2012-11-10 Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг РФ) Способ получения многослойного износостойкого теплозащитного покрытия
CN102501494A (zh) * 2011-10-11 2012-06-20 常熟市广大电器有限公司 一种耐热材料
RU2548343C2 (ru) * 2013-07-03 2015-04-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "МАТИ"-Российский государственный технологический университет имени К.Э. Циолковского (МАТИ) Способ получения супермногослойных разнородных материалов с наноразмерной структурой слоев
WO2019206979A1 (en) * 2018-04-24 2019-10-31 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Coating comprising mcral-x coating layer
CN112410729B (zh) * 2020-11-09 2022-12-06 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种超薄液态金属薄膜及制备方法和应用

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69527236T2 (de) * 1994-09-16 2003-03-20 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Mehrschichtfilm aus ultrafeinen Partikeln und harter Verbundwerkstoff für Werkzeuge, die diesen Film enthalten
US5722803A (en) * 1995-07-14 1998-03-03 Kennametal Inc. Cutting tool and method of making the cutting tool
US5792521A (en) * 1996-04-18 1998-08-11 General Electric Company Method for forming a multilayer thermal barrier coating
US5998003A (en) * 1998-09-10 1999-12-07 Electric Power Research Institute, Inc. Multilayer nanostructured ceramic thermal barrier coatings
DE10016958A1 (de) * 2000-04-06 2001-10-18 Widia Gmbh Verfahren zur Herstellung von Multilagenschichten auf Substratkörpern und Verbundwerkstoff, bestehend aus einem beschichteten Substratkörper
US7556695B2 (en) * 2002-05-06 2009-07-07 Honeywell International, Inc. Apparatus to make nanolaminate thermal barrier coatings

Also Published As

Publication number Publication date
CA2451675A1 (fr) 2005-03-23
US20050112295A1 (en) 2005-05-26
RU2271404C2 (ru) 2006-03-10
EP1520913A1 (fr) 2005-04-06
CN1609263A (zh) 2005-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002528639A5 (ru)
ATE478172T2 (de) Schneideeinsatz mit keramischer beschichtung
JP2010523351A5 (ru)
RU2010122313A (ru) Изготовление самостоятельных твердотельных слоев термической обработкой подложек с полимером
HRP20141036T1 (hr) Metoda za proizvodnju solarne stanice s površinskim dielektriäśnim dvoslojem koji smanjuje reaktivnost, i odgovarajuä†e solarne stanice
ATE438927T1 (de) Prozess zur herstellung von dünnfilmtransistoren
WO2004077519A3 (en) Dielectric barrier layer films
JP2004535494A5 (ru)
TWI726896B (zh) 用於玻璃成型模具之塗層及包括該等塗層的模具
WO2008096089A3 (fr) Procede de depot de couche mince et produit obtenu
WO2003088340A3 (de) Verfahren zur herstellung strukturierter schichten auf substraten
KR970701920A (ko) 나노 크리스탈의 전구 물질을 사용하여 낮은 온도에서 형성된 iv족 반도체 박막(group iv semiconductor thin films formed at low temperature using nanocrystal precursors)
WO2006069774A3 (de) Vakuumbeschichtungssystem
JP2013101984A5 (ru)
KR830005068A (ko) 주상 입자 세라믹 열 차단 코팅
FR2905707B1 (fr) Procede pour deposer sur un substrat une couche mince d'alliage metallique et alliage metallique sous forme de couche mince.
RU2019130866A (ru) Способ производства подложки на основе карбида кремния и подложка карбида кремния
RU2004112867A (ru) Способ получения микрослоистых термостабильных материалов
JP2013536150A (ja) シリコンインゴットを凝固させるためのるつぼ
JP5419868B2 (ja) 複合フィルムおよびその製造方法
JP2008542082A5 (ru)
JP4286142B2 (ja) 部品の表面上に連続被覆を作る方法
JP2005508448A5 (ru)
JP2015523917A5 (ru)
JP2006503976A (ja) 金属表面を被覆する方法および被覆された金属表面を有する基板

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20070428