RU2003101785A

RU2003101785A - Способ формирования микрорельефа поверхности изделий и устройство для его осуществления

Info

Publication number: RU2003101785A
Application number: RU2003101785/02A
Authority: RU
Inventors: Николай Иванович Каргин; Валерий Михайлович Якушев; Александр Валерьевич Якушев
Original assignee: Северо-Кавказский государственный технический университет
Filing date: 2003-01-22
Publication date: 2004-07-27

Claims

1. Способ формирования микрорельефа поверхности изделий при котором сконцентрированный поток излучения модулируют по времени, направляют на обрабатываемую поверхность заготовки, осуществляют перемещение по обрабатываемой поверхности для получения заданного контура, формируют требуемый профиль элемента рисунка путем повторения процедуры перемещения сконцентрированного потока излучения, управление процессом обработки осуществляют с помощью ЭВМ, отличающийся тем, что обработку поверхности изделия проводят, формируя концентрированным источником тепла в заданном месте образца зоны расплава заданных размеров и конфигурации, управляя параметрами термовоздействия перемещают зону расплава в заданную точку образца и подвергают ее затвердеванию прекращая действие источника тепла.

2. Способ формирования микрорельефа поверхности изделий по п.1, отличающийся тем, что, с целью повышения качества обработки изделия, перед электронно-лучевым воздействием его подвергаются подогреву до температуры равной 0,7...0,9 от температуры плавления материала изделия, а после обработки производят отжиг.

3. Способ формирования микрорельефа поверхности изделий по п.1 или 2, отличающийся тем, что в качестве концентрированного источника тепла используют поток лазерного излучения.

4. Способ формирования микрорельефа поверхности изделий по п.1 или 2, отличающийся тем, что в качестве концентрированного источника тепла используют сфокусированный поток электронов.

5. Способ формирования микрорельефа поверхности изделий по п.4, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности обработки изделий из диэлектрических материалов, обработка изделия осуществляется в эквипотенциальном пространстве, а само изделие располагается на изоляторах.

6. Устройство электронно-лучевой обработки для формирования микрорельефа поверхности изделий содержащее электронно-лучевую пушку, пирометр, блок управления, в котором обрабатываются данные поступающие от пирометра, сравниваются с заданной величиной и формируется управляющее воздействие, усилитель, через который управляющее воздействие от блока управления передается на управляющий электрод электронной пушки вследствие чего происходит управление мощностью электронного луча, отличающееся тем, что устройство дополнительно содержит систему формирования перемещения электронного луча по поверхности изделия и управляющую ЭВМ, которая формирует алгоритм управления процессом обработки и реализует его через блок управления устанавливая заданный режим термовоздействия и через систему перемещения электронного луча.

7. Устройство электронно-лучевой обработки для формирования микрорельефа поверхности изделий по п.6, отличающееся тем, что оно дополнительно содержит печь подогрева изделий с соответствующим блоком питания, блок питания печи подогрева получает управляющее воздействие от блока управления в результате чего реализуется заданный режим тепловой обработки изделий.

8. Устройство электронно-лучевой обработки для формирования микрорельефа поверхности изделий по п.6 или 7, отличающееся тем, что с целью обработки диэлектрических материалов, оно дополнительно содержит изоляторы, через которые обрабатываемое изделие крепится к основанию, а вся технологическая оснастка вакуумного объема, включая корпус электронной пушки, находятся под нулевым потенциалом формируя в зоне обработки эквипотенциальное пространство.