RU1818642C - Electrostatic electron lens - Google Patents

Electrostatic electron lens

Info

Publication number
RU1818642C
RU1818642C SU4779081A RU1818642C RU 1818642 C RU1818642 C RU 1818642C SU 4779081 A SU4779081 A SU 4779081A RU 1818642 C RU1818642 C RU 1818642C
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
holes
planes
lens
mutually perpendicular
electrodes
Prior art date
Application number
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Вениамин Григорьевич Данилов
Анна Филипповна Еремина
Original Assignee
Новосибирский электротехнический институт
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Новосибирский электротехнический институт filed Critical Новосибирский электротехнический институт
Priority to SU4779081 priority Critical patent/RU1818642C/en
Application granted granted Critical
Publication of RU1818642C publication Critical patent/RU1818642C/en

Links

Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

Использование: в электронной технике, BI частности в электронной приборостроительной промышленности при разработке электронно-лучевых приборов. Сущность изобретени : в электронной линзе, состо щей из набора плоскопараллельных электродов , отверсти  во всех электродах выполнены в виде щелей, выт нутых в одном направлении и различающихс  по форме. 1 ил.Usage: in electronic technology, in particular BI in the electronic instrument industry in the development of electron beam devices. SUMMARY OF THE INVENTION: in an electronic lens consisting of a set of plane-parallel electrodes, holes in all electrodes are made in the form of slots elongated in one direction and different in shape. 1 ill.

Description

Изобретение относитс  к технике формировани  пучков зар женных частиц и может быть использовано в электронной приборостроительной промышленности при разработке электронно-лучевых приборов .The invention relates to a technique for forming bundles of charged particles and can be used in the electronic instrument industry for the development of electron beam devices.

Целью изобретени   вл етс  обеспечение существенно различных по величине оптических сил в двух взаимно перпендикул рных плоскост х, а также получение малого уровн  аберраций.The aim of the invention is to provide significantly different optical powers in two mutually perpendicular planes, as well as to obtain a low level of aberrations.

На чертеже приведена конструкци  линзы, состо щей из трех плоскопараллельных пластин 1,2,3 с соосно расположенными в них отверсти ми 4,5,6 соответственно, имеющими две плоскости симметрии. Размеры отверстий в двух взаимно перпендикул рных направлени х различны. Отверстие 5 в средней пластине 2 и отверсти  4, 6 в крайних пластинах 1,3 различаютс  по форме . Все отверсти  выполнены выт нутыми в . одном и том же направлении (Y).The drawing shows the construction of a lens consisting of three plane-parallel plates 1,2,3 with holes 4,5,6 coaxially located in them, respectively, having two planes of symmetry. The sizes of the holes in two mutually perpendicular directions are different. The hole 5 in the middle plate 2 and the holes 4, 6 in the end plates 1.3 differ in shape. All holes are made elongated in. the same direction (Y).

Устройство работает следующим образом . На две группы электродов, одна из которых образована четными по ходу луча, а друга  - нечетными пластинами, подают напр жение (см. чертеж). Сложное электрическое поле, формируемое в плоскост х X и Y, при указанном включении обеспечивает разные по величине поперечные силы во взаимно перпендикул рных плоскост х. Различие отверстий по форме обуславливает по вление квадрупольной составл ющей пол  линзы. Особенно это характерно дл  линз, у которых кривизна продольных краев отверстий имеет разный знак кривизны (как показано, например, на чертеже).The device operates as follows. The voltage is applied to two groups of electrodes, one of which is formed even along the beam, and the other by odd plates, (see drawing). A complex electric field generated in the X and Y planes, when turned on, provides different transverse forces in mutually perpendicular planes. The difference in the shape of the holes causes the appearance of a quadrupole component of the lens floor. This is especially true for lenses in which the curvature of the longitudinal edges of the holes has a different sign of curvature (as shown, for example, in the drawing).

Такое поле можно представить как суперпозицию двух полей: одно - поле плоскостной симметрии (поле цилиндрической линзы) и второе - поле с двум  плоскост ми симметрии (квадрупольнз  компонента). В такой линзе возможно получение различных по величине оптических сил в двух плоскост х .Such a field can be represented as a superposition of two fields: one is a field of plane symmetry (field of a cylindrical lens) and the second is a field with two planes of symmetry (quadrupole component). In such a lens, it is possible to obtain different optical powers in two planes.

(L

СWITH

0000

0000

оabout

44

юYu

Если все отверсти  в электродах выт нуты в одном направлении, то получаетс  линза, близка  к цилиндрической, у которой оптическа  сила в одной плоскости будет мала. Аберрации такой линзы приближаютс  к уровню аберраций цилиндрических линз.If all the holes in the electrodes are elongated in the same direction, then a lens is obtained that is close to cylindrical, in which the optical power in one plane will be small. The aberrations of such a lens approach the level of aberrations of cylindrical lenses.

При умеренной выт нутости и крутых формах отверстий с кривизной разного знака получаем большой уровень квадруполь- ной составл ющей. Наличие квадрупольной составл ющей пол  в предлагаемой линзе делает ее.параметры похожими на параметры скрещенных линз (квадрупольных), отличающихс  большой величиной оптических сил при малом уровне аберраций.With moderate elongation and steep forms of holes with curvatures of different signs, we obtain a large level of the quadrupole component. The presence of a quadrupole component of the field in the proposed lens makes it the parameters similar to the parameters of crossed lenses (quadrupole), characterized by a large amount of optical power at a low level of aberrations.

Предлагаема  линза  вл етс  как бы промежуточной между цилиндрической и скрещенной линзами и обеспечивает существенное различие по величине оптическихThe proposed lens is intermediate between a cylindrical and crossed lenses and provides a significant difference in the magnitude of the optical

00

55

00

сил в двух плоскост х при малом уровне аберраций.forces in two planes with a low level of aberrations.

Claims (1)

Формула изобретени  Электростатическа  электронна  линза , содержаща  набор плоскопараллельных пластин с соосно расположенными отверсти ми , имеющими две плоскости симметрии , причем размеры отверстий в двух взаимно перпендикул рных направлени х различны, отличающа с  тем, что, с целью получени  существенно различных по величине оптических сил в двух взаимно перпендикул рных плоскост х и снижени  аберраций, отверсти  во всех пластинах выполнены выт нутыми в одном и том же направлении , при этом отверстие у одного из каждых двух соседних электродов выполнено с шириной, возрастающей от центра к периферии отверсти , а у второго - с убывающей .SUMMARY OF THE INVENTION An electrostatic electronic lens comprising a set of plane-parallel plates with coaxially arranged holes having two planes of symmetry, wherein the sizes of the holes in two mutually perpendicular directions are different, characterized in that, in order to obtain substantially different optical forces in two mutually perpendicular planes and reduce aberration, holes in all plates are elongated in the same direction, with a hole in one of every two electrodes are formed with a width increasing from the center to the periphery of the opening, and the second - from decreasing.
SU4779081 1989-10-16 1989-10-16 Electrostatic electron lens RU1818642C (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4779081 RU1818642C (en) 1989-10-16 1989-10-16 Electrostatic electron lens

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4779081 RU1818642C (en) 1989-10-16 1989-10-16 Electrostatic electron lens

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU1818642C true RU1818642C (en) 1993-05-30

Family

ID=21489911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4779081 RU1818642C (en) 1989-10-16 1989-10-16 Electrostatic electron lens

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU1818642C (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР №3666509, кл. H 01J 29/48, 1971. Баранова Л.А., Явор С.Я. Электростатические электронные линзы. СИ.: Наука, 1986. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2919381A (en) Electron lens
US4963748A (en) Composite multipurpose multipole electrostatic optical structure and a synthesis method for minimizing aberrations
CA1187543A (en) Multiple sextupole system for the correction of third and higher order aberration
DE2434443A1 (en) COUPLING DEVICE OF LIGHT WAVES GUIDED IN DIELECTRIC WAVE GUIDES
EP0039688B1 (en) Sextupole system for the correction of spherical aberration
RU1818642C (en) Electrostatic electron lens
DE255981T1 (en) OPTICAL SYSTEM FOR LOADED PARTICLES WITH DEVICE FOR CORRECTING THE ABERRATION.
US5051593A (en) Electrostatic multipole lens for charged-particle beam
CN101073022A (en) Optical device with fresnel structure
KR950027891A (en) Color cathode ray tube
KR100225724B1 (en) Cathode ray tube
KR970030237A (en) Electron Column Optics for Multibeam Electro Lithographic Systems
SU619984A1 (en) Magnetic focusing system
SU1365179A1 (en) Electrostatic deflection system with aligned deflection centres and method of deflecting charged particle beam in this system
JP3707082B2 (en) Quadrupole mass spectrometer
SU670991A1 (en) Spherical aberration-corrected optronic device
SU999124A1 (en) Electronic astigmatic tubular lens
SU1001226A1 (en) Electronic lens
SU1732392A1 (en) Cathode-ray device
SU936087A1 (en) Optronig device
Azuma et al. Exact disk solution of the Einstein equation
US4763003A (en) Method and apparatus for correcting high-order abberations in particle beams
JP2822283B2 (en) Electron beam reduction transfer device
SU654979A1 (en) Electrostatic lens
JPS57176647A (en) In-line-type three-beam electron gun