RU1818642C - Electrostatic electron lens - Google Patents
Electrostatic electron lensInfo
- Publication number
- RU1818642C RU1818642C SU4779081A RU1818642C RU 1818642 C RU1818642 C RU 1818642C SU 4779081 A SU4779081 A SU 4779081A RU 1818642 C RU1818642 C RU 1818642C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- holes
- planes
- lens
- mutually perpendicular
- electrodes
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
Использование: в электронной технике, BI частности в электронной приборостроительной промышленности при разработке электронно-лучевых приборов. Сущность изобретени : в электронной линзе, состо щей из набора плоскопараллельных электродов , отверсти во всех электродах выполнены в виде щелей, выт нутых в одном направлении и различающихс по форме. 1 ил.Usage: in electronic technology, in particular BI in the electronic instrument industry in the development of electron beam devices. SUMMARY OF THE INVENTION: in an electronic lens consisting of a set of plane-parallel electrodes, holes in all electrodes are made in the form of slots elongated in one direction and different in shape. 1 ill.
Description
Изобретение относитс к технике формировани пучков зар женных частиц и может быть использовано в электронной приборостроительной промышленности при разработке электронно-лучевых приборов .The invention relates to a technique for forming bundles of charged particles and can be used in the electronic instrument industry for the development of electron beam devices.
Целью изобретени вл етс обеспечение существенно различных по величине оптических сил в двух взаимно перпендикул рных плоскост х, а также получение малого уровн аберраций.The aim of the invention is to provide significantly different optical powers in two mutually perpendicular planes, as well as to obtain a low level of aberrations.
На чертеже приведена конструкци линзы, состо щей из трех плоскопараллельных пластин 1,2,3 с соосно расположенными в них отверсти ми 4,5,6 соответственно, имеющими две плоскости симметрии. Размеры отверстий в двух взаимно перпендикул рных направлени х различны. Отверстие 5 в средней пластине 2 и отверсти 4, 6 в крайних пластинах 1,3 различаютс по форме . Все отверсти выполнены выт нутыми в . одном и том же направлении (Y).The drawing shows the construction of a lens consisting of three plane-parallel plates 1,2,3 with holes 4,5,6 coaxially located in them, respectively, having two planes of symmetry. The sizes of the holes in two mutually perpendicular directions are different. The hole 5 in the middle plate 2 and the holes 4, 6 in the end plates 1.3 differ in shape. All holes are made elongated in. the same direction (Y).
Устройство работает следующим образом . На две группы электродов, одна из которых образована четными по ходу луча, а друга - нечетными пластинами, подают напр жение (см. чертеж). Сложное электрическое поле, формируемое в плоскост х X и Y, при указанном включении обеспечивает разные по величине поперечные силы во взаимно перпендикул рных плоскост х. Различие отверстий по форме обуславливает по вление квадрупольной составл ющей пол линзы. Особенно это характерно дл линз, у которых кривизна продольных краев отверстий имеет разный знак кривизны (как показано, например, на чертеже).The device operates as follows. The voltage is applied to two groups of electrodes, one of which is formed even along the beam, and the other by odd plates, (see drawing). A complex electric field generated in the X and Y planes, when turned on, provides different transverse forces in mutually perpendicular planes. The difference in the shape of the holes causes the appearance of a quadrupole component of the lens floor. This is especially true for lenses in which the curvature of the longitudinal edges of the holes has a different sign of curvature (as shown, for example, in the drawing).
Такое поле можно представить как суперпозицию двух полей: одно - поле плоскостной симметрии (поле цилиндрической линзы) и второе - поле с двум плоскост ми симметрии (квадрупольнз компонента). В такой линзе возможно получение различных по величине оптических сил в двух плоскост х .Such a field can be represented as a superposition of two fields: one is a field of plane symmetry (field of a cylindrical lens) and the second is a field with two planes of symmetry (quadrupole component). In such a lens, it is possible to obtain different optical powers in two planes.
(Л(L
СWITH
0000
0000
оabout
44
юYu
Если все отверсти в электродах выт нуты в одном направлении, то получаетс линза, близка к цилиндрической, у которой оптическа сила в одной плоскости будет мала. Аберрации такой линзы приближаютс к уровню аберраций цилиндрических линз.If all the holes in the electrodes are elongated in the same direction, then a lens is obtained that is close to cylindrical, in which the optical power in one plane will be small. The aberrations of such a lens approach the level of aberrations of cylindrical lenses.
При умеренной выт нутости и крутых формах отверстий с кривизной разного знака получаем большой уровень квадруполь- ной составл ющей. Наличие квадрупольной составл ющей пол в предлагаемой линзе делает ее.параметры похожими на параметры скрещенных линз (квадрупольных), отличающихс большой величиной оптических сил при малом уровне аберраций.With moderate elongation and steep forms of holes with curvatures of different signs, we obtain a large level of the quadrupole component. The presence of a quadrupole component of the field in the proposed lens makes it the parameters similar to the parameters of crossed lenses (quadrupole), characterized by a large amount of optical power at a low level of aberrations.
Предлагаема линза вл етс как бы промежуточной между цилиндрической и скрещенной линзами и обеспечивает существенное различие по величине оптическихThe proposed lens is intermediate between a cylindrical and crossed lenses and provides a significant difference in the magnitude of the optical
00
55
00
сил в двух плоскост х при малом уровне аберраций.forces in two planes with a low level of aberrations.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4779081 RU1818642C (en) | 1989-10-16 | 1989-10-16 | Electrostatic electron lens |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4779081 RU1818642C (en) | 1989-10-16 | 1989-10-16 | Electrostatic electron lens |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1818642C true RU1818642C (en) | 1993-05-30 |
Family
ID=21489911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4779081 RU1818642C (en) | 1989-10-16 | 1989-10-16 | Electrostatic electron lens |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1818642C (en) |
-
1989
- 1989-10-16 RU SU4779081 patent/RU1818642C/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР №3666509, кл. H 01J 29/48, 1971. Баранова Л.А., Явор С.Я. Электростатические электронные линзы. СИ.: Наука, 1986. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2919381A (en) | Electron lens | |
US4963748A (en) | Composite multipurpose multipole electrostatic optical structure and a synthesis method for minimizing aberrations | |
CA1187543A (en) | Multiple sextupole system for the correction of third and higher order aberration | |
DE2434443A1 (en) | COUPLING DEVICE OF LIGHT WAVES GUIDED IN DIELECTRIC WAVE GUIDES | |
EP0039688B1 (en) | Sextupole system for the correction of spherical aberration | |
RU1818642C (en) | Electrostatic electron lens | |
DE255981T1 (en) | OPTICAL SYSTEM FOR LOADED PARTICLES WITH DEVICE FOR CORRECTING THE ABERRATION. | |
US5051593A (en) | Electrostatic multipole lens for charged-particle beam | |
CN101073022A (en) | Optical device with fresnel structure | |
KR950027891A (en) | Color cathode ray tube | |
KR100225724B1 (en) | Cathode ray tube | |
KR970030237A (en) | Electron Column Optics for Multibeam Electro Lithographic Systems | |
SU619984A1 (en) | Magnetic focusing system | |
SU1365179A1 (en) | Electrostatic deflection system with aligned deflection centres and method of deflecting charged particle beam in this system | |
JP3707082B2 (en) | Quadrupole mass spectrometer | |
SU670991A1 (en) | Spherical aberration-corrected optronic device | |
SU999124A1 (en) | Electronic astigmatic tubular lens | |
SU1001226A1 (en) | Electronic lens | |
SU1732392A1 (en) | Cathode-ray device | |
SU936087A1 (en) | Optronig device | |
Azuma et al. | Exact disk solution of the Einstein equation | |
US4763003A (en) | Method and apparatus for correcting high-order abberations in particle beams | |
JP2822283B2 (en) | Electron beam reduction transfer device | |
SU654979A1 (en) | Electrostatic lens | |
JPS57176647A (en) | In-line-type three-beam electron gun |