SU1001226A1 - Electronic lens - Google Patents
Electronic lens Download PDFInfo
- Publication number
- SU1001226A1 SU1001226A1 SU813294745A SU3294745A SU1001226A1 SU 1001226 A1 SU1001226 A1 SU 1001226A1 SU 813294745 A SU813294745 A SU 813294745A SU 3294745 A SU3294745 A SU 3294745A SU 1001226 A1 SU1001226 A1 SU 1001226A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- holes
- lens
- diaphragms
- deflection
- electron
- Prior art date
Links
Landscapes
- Lenses (AREA)
Description
Изобретение относитс к электронной технике, в частности к конструкци м электронно-оптических систем, состо щих из наборов диафрагмы.The invention relates to electronic engineering, in particular, to designs of electron-optical systems consisting of sets of diaphragm.
Известно устройство, при сборке . которого используют центрирующие стержни, nponycKaei-ttJe через отверсти диафрагм lA device is known during assembly. which use the centering rods, nponycKaei-ttJe through the holes of the diaphragms l
Однако из-за сложности центрирующих элементов и большого числа операций точность собранной системы относительно мала.However, due to the complexity of the centering elements and the large number of operations, the accuracy of the assembled system is relatively low.
Наиболее близкой к предлагаемой по технической сущности вл етс электронна линза, включающа , набор диафрагм, отверсти в которых выт нуты вдоль одной из взаимно перпендикул рных осей сикметрии и взаимно перпендикул рно ориентированы дл соседних диафрагм. Дл обеспечени точности сборки этой линзы используют несколько стержней, паргшлельных электронно-оптической оси и проход щих через дополнительные соосные технологические отверсти в диафрагмах , образующих линзу 2.Closest to the proposed technical entity is an electron lens, comprising a set of diaphragms, the holes in which are extended along one of the mutually perpendicular axes of the symmetry and mutually perpendicular to the adjacent diaphragms. To ensure the accuracy of the assembly of this lens, several rods are used, a pair of electron-optical axis and passing through additional coaxial processing holes in the diaphragms forming lens 2.
Однако в этом устройстве технологические отверсти выполн ют вне зоны основных рабочих отверстий, поэтому размеры последних ограниченыHowever, in this device, the technological holes are made outside the area of the main working holes, therefore the sizes of the latter
в направлении выт нутости, в то врем как с целью уменьшени аберраций рабочие отверсти должны иметь максимсшьно возможные размеры, что особенно важно, например, дл неосесимметричных линз усилени отключени , где отклоненный луч проходит на значительном удалении от оси системы in the direction of elongation, while in order to reduce aberrations, the working holes should have the largest possible dimensions, which is especially important, for example, for nonaxisymmetric disconnecting amplification lenses, where the deflected beam passes at a considerable distance from the system axis
10 дл обеспечени большей рабочей площади экрана.10 to provide a larger screen area.
Цель изобретени - увеличение рабочей площади экрана при сохранении габаритов линзы.The purpose of the invention is to increase the working area of the screen while maintaining the dimensions of the lens.
Указанна цель достигаетс тем, This goal is achieved by
15 что в электронной линзе, включающей набор диафрагм, отверсти в которых выт нуты вдоль одной из взаимно перпендикул рных осей симметрии и взаимно перпендикул рно ориентированы 15 that in an electron lens, including a set of diaphragms, the holes in which are extended along one of the mutually perpendicular axes of symmetry and mutually perpendicularly oriented
20 дл двух соседних диафрагм, а часть диафрагм с одинаковой ориентацией отверстий снабжена дополнительными соосными технологическими отверсти ми , отверсти другой части диафрагм 20 for two adjacent diaphragms, and part of the diaphragms with the same orientation of the holes are provided with additional coaxial technological holes, holes of the other part of the diaphragms
25 с противоположной ориентацией на сторонах, наиболее удаленных от электронко-оптической оси, выполнены с выемками, проекци контура которых на соседнюю диафрагму совпадает с 25 with the opposite orientation on the sides furthest from the electron-optical axis are made with grooves, the projection of which contour onto the next diaphragm coincides with
30 контуром технологических отверстий.30 contour technological holes.
На чертеже изображена электронна линза.The drawing shows an electronic lens.
Электронна линза состоит из набора диафрагм 1 с выт нутыми- отверсти ми , в каждой диафрагме по ос м симметрии отверстий выполнены технологические отверсти 2 (по оси симметрии, перпендикул рной направлению выт нутости) и выемки 3 (по другой оси симметрии). При сборке линзы через технологические отверсти 2 и выемки 3 пропускают вспомогательные стержни 4. Диафрагмы снабжены также лапками 5. Отверсти 2 и выемки 3, которые изготавливают одновременно , имеют одинаковые контурыThe electron lens consists of a set of diaphragms 1 with elongated holes, in each diaphragm technological holes 2 (along the axis of symmetry perpendicular to the direction of elongation) and notch 3 (along the other axis of symmetry) are made in the axes of symmetry of the holes. When assembling the lens through the technological holes 2 and the notches 3 pass the auxiliary rods 4. The diaphragms are also provided with tabs 5. The holes 2 and the notches 3, which are made at the same time, have the same contours
Така конструкци характерна дл линз усилени отклонени .Such a design is characteristic of deflection enhancement lenses.
Линзу устанавливают между системами отклонени и люменисцентным экраном. Сфокусированный электронный луч отклон етс пластинами систем вертикального и горизонтального отклонени , проходит сквозь линзу усилени отклонени и попадает на люминесцентный экран. В зависимости от поданного на диафрагмы линзы усилени отклонени потенциала угол отклонени и удаление электронного луча измен ютс . Причем в плоскости отклонени , в которой выступы отверстий диафрагм отрицательны, происходит Бозвращение луча к оси, но с углом большим, чем угол на входе в линзу, В этой плоскости коэффициент усилени отклонени , равный отношению положений отклоненного луча на экране при включенной и вык;1юченной линзе усилени отклонени , имеет отрицательную величину, большую единицы по абсолютной величине.A lens is installed between the deflection systems and the luminescent screen. The focused electron beam is deflected by the plates of the vertical and horizontal deflection systems, passes through the deflection enhancement lens and hits the fluorescent screen. Depending on the amplification of the potential deviation applied to the diaphragm of the potential, the angle of deflection and the removal of the electron beam change. Moreover, in the deflection plane, in which the protrusions of the apertures of the diaphragms are negative, the beam returns to the axis, but with an angle greater than the angle at the lens entrance. In this plane, the deflection gain is equal to the ratio of the positions of the deflected beam on the screen with the power on and off; the deflection enhancement lens has a negative magnitude greater than one in absolute value.
В другой плоскости угол отклонени электронного луча от оси увеличиваетс , коэффициент усилени отклонени положительный и больше единицы . Величина удалени электронного луча в линзе в этой плоскости сравнима с размерами, отверстий в диафрагмах . In the other plane, the deviation angle of the electron beam from the axis increases, the deviation gain factor is positive, and greater than one. The magnitude of the electron beam removal in the lens in this plane is comparable to the size of the holes in the diaphragms.
величина нелинейны : искажений определ етс в данном случае сферической аберрацией линзы усилени отклонени , а коэффициент сферической аберрации обратно пропорционален апертуре линзы (т.е. размеру центральных отверстий в диафрагмах).the magnitude is non-linear: the distortion is determined in this case by the spherical aberration of the lens of the amplification of the deflection, and the coefficient of the spherical aberration is inversely proportional to the aperture of the lens (i.e., the size of the central holes in the diaphragms).
Чем больше размеры центральных отверстий в диафрагмах линзы усилени отклонени , тем меньшие нелинейные искажени она вносит и тем больший размер рабочей части экрана можно получить. Дополнительные боковые выемки, которые расположены на сторонах отверстий,наиболее удаленныхThe larger the central holes in the diaphragm of the deflection enhancement lens, the less non-linear distortion it introduces and the larger the size of the working part of the screen can be obtained. Additional side grooves that are located on the sides of the holes most distant
от оси, облегчгиот центрирование диафрагм линзы усилени отклонени , имеющих увеличенные размеры отверстий , с остальной частью электроннооптической системы, дл чего используют металлические стержни, которые ввод т вдоль оси системы в дополнительные бокоЁые выемки одних и технологические отверсти других диафрагм . Кроме того, сами выемки уменьшают вли ние паразитного пол боковых сторон отверстий, наиболее удаленных от оси системы, и тем самым увеличивают квадрупольный эффект, снижа нелинейность усилени отклонени .away from the axis, making it easier to center the diaphragms of the deflection enhancement lens, which have increased hole sizes, with the rest of the electron-optical system, for which metal rods are used, which are inserted along the axis of the system into additional side grooves of some and other diaphragms. In addition, the grooves themselves reduce the influence of the parasitic field on the sides of the holes furthest from the axis of the system, and thereby increase the quadrupole effect, reducing the nonlinearity of the deflection gain.
Предлагаема конструкци линзы н сочетании с описанным выше способом сборки обеспечивает-высокую точность и упрощение изготовлени , а также увеличение размеров центральных отверстий в диафрагмах при сохранении минимальньгх габаритных размеров всей электронно-оптической систеглы, что позвол ет повысить качество изображени и размеры рабочего пол экрана при минимальных затратах дефицитных материалов.The proposed lens design combined with the assembly method described above ensures high accuracy and simplified manufacturing, as well as an increase in the size of the central holes in the diaphragms while maintaining the minimum overall dimensions of the entire electron-optical system, which improves the image quality and the dimensions of the working screen floor at minimum costs of scarce materials.
Величина нелинейности отклонени на поле экрана мм при длине трубки менее 400 мм не превышает 1% Это достигаетс тем, что увеличиваютс точность центровки и в 1,5 рза размеры основных отверстий в диафрагмах линзы.The magnitude of the nonlinearity of the deviation in the screen field, mm, with a tube length of less than 400 mm does not exceed 1%. This is achieved by increasing the centering accuracy and by 1.5 times the dimensions of the main holes in the lens diaphragms.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813294745A SU1001226A1 (en) | 1981-03-16 | 1981-03-16 | Electronic lens |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813294745A SU1001226A1 (en) | 1981-03-16 | 1981-03-16 | Electronic lens |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1001226A1 true SU1001226A1 (en) | 1983-02-28 |
Family
ID=20960535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU813294745A SU1001226A1 (en) | 1981-03-16 | 1981-03-16 | Electronic lens |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1001226A1 (en) |
-
1981
- 1981-03-16 SU SU813294745A patent/SU1001226A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6290839A (en) | Ion microbeam device | |
GB1523305A (en) | Athode ray tube electron gun | |
JPS60195847A (en) | Color picture tube | |
JPH0640471B2 (en) | Color display tube | |
JPS6329376B2 (en) | ||
SU1001226A1 (en) | Electronic lens | |
JPS5868848A (en) | Structure of electron gun | |
JPH1074467A (en) | Inline electron gun for color cathode-ray tube | |
JPS63894B2 (en) | ||
US4498026A (en) | Electron gun for color picture tube | |
SU1613004A3 (en) | Color tv tube | |
KR100266620B1 (en) | In-line symmetrical outer beam electron gun | |
KR890001140B1 (en) | Electron-gun for a color t.v. | |
SU1048532A1 (en) | Optronic device with aberration correction | |
JPS6134835A (en) | Electron gun for color cathode-ray tube | |
JPS58209039A (en) | Electron gun frame for color cathode-ray tube | |
US5256933A (en) | Electron gun for a cathode ray tube | |
JP3058222B2 (en) | Color cathode ray tube with in-line type electron gun | |
KR830000206B1 (en) | In-line color water tube device | |
JPH05266822A (en) | Color picture tube device | |
SU1014066A1 (en) | Cr-tube with post acceleration and ampilification of deflection | |
KR910007656Y1 (en) | Electrode assembly of electron gun | |
KR920005867Y1 (en) | Electron gun for color crt | |
US20040232858A1 (en) | High definition electron gun for cathode ray tube | |
JPH0472344B2 (en) |