RU1700954C - Способ выращивани монокристаллов германата висмута - Google Patents

Способ выращивани монокристаллов германата висмута

Info

Publication number
RU1700954C
RU1700954C SU4771117A RU1700954C RU 1700954 C RU1700954 C RU 1700954C SU 4771117 A SU4771117 A SU 4771117A RU 1700954 C RU1700954 C RU 1700954C
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
crystal
melt
crystals
bismuth
growing
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
С.Ф. Бурачас
Б.Л. Тиман
Е.Н. Пирогов
С.К. Бондаренко
В.Г. Бондарь
В.И. Кривошеин
Б.В. Загвоздкин
Original Assignee
Научно-Производственное Объединение "Монокристаллреактив"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Научно-Производственное Объединение "Монокристаллреактив" filed Critical Научно-Производственное Объединение "Монокристаллреактив"
Priority to SU4771117 priority Critical patent/RU1700954C/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU1700954C publication Critical patent/RU1700954C/ru

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к способу выращивани  монокристаллов германэта висмута и позвол ет улучшить КЛЧРСТ- во кристаллов и повысить выход годных . Кристалл выращивают из расплава на затравку. После выращивани  верхнего конуса и цилиндрической части кристалла скорость вращени  плавно снижают до нул  в течение 5-10 с и продолжают выт гивание при уменьшении температуры расплава от 1090-1050°С на 30-40°С в течение 3-10 ч. 1 табл.

Description

Изобретение относитс  к технологии получени  монокристаллов германата висмута со структурой эвлитина н может бить использовано при промышленном производстве этих сциитшш цион- ных кристаллов, наход щих все Полее широкое применение в  дерной физике, физике высоких энергий, позитронной h технической томографии и других област х науки и техники при быстро растущем на них спросе на мировом рынке. Изобретение может быть использовано н -при выращивании других кристаллов методом Чохральского.
Монокристаллы германата висмута выраьгивают методом Чохральского (выт гивание из расплаВсО, который включает следующие операции. После получени  расплава в тигле кристаллизационного узла производ т затравленно, погружа  вращающуюс  затравку в расплав . Затем провод т разращивание верхнего конуса, выт гивал вращающуюс  затравку вверх с одновременным понижением температуры. Далее ведут
рост при посто нном диаметре, чыт ги- ва  кристалл и измен   температуру р соответствии со свойствами конкретных кристаллов и конструкцией кристаллизационного узла (в основном с помощью АСУТП). После получени  кристалла заданной длины провод т отделение кристалла от расплава И, наконец , провод т охлаждение кристалла но заданной программе АСУТЛ.
В способе вырацивани  высокотемпературных оксидных кристаллов методом выт гивани  из расплава по Чох- ральскому отделение кристалла от расплава ПРОИЗВОДЯТ путем увеличени  скорости выт гивани . Однако при таком отделении кристалла гермлната висмута от расплава происходит термический удар в нижней части криг rmuja в момент отрыва его от поверхности расплава. Термический v/дар (редкое понинение температуры) в нпжт i чнс- ти кристалла происходит нглеиг тип быстрого отвода тепла от нлхо нтщего- с  там фронта крнс тл млн н.ч ччч , fun $
С
lv«t vl
О О СО W1 4
дар  высокой теплопроводности герма- ната висмута и значительного уменьшени  подвода тепла к кристаллу после его отрыва от расплава. Такой термический удар вызывает мощные термоупругие напр жени , зачастую превышающие предел прочности, что и приводит к растрескиванию кристалла германата висмута.
В другом известном -способе выращивани  кристаллов отделение от расплава осуществл ют путем увеличени  температуры расплава. Дл  монокристаллов германата висмута это не только не устран ет термический удар, а даже усиливает его и, кроме того, дополнительно приводит к некоторому оплавлению поверхности кристалла. Эти факторы значительно (до ) снижают выход годных кристаллов и ухудшают их качество.
Известен также способ выращивани  (кристаллов методом Чохральского, где 25 перед окончанием роста диаметр кристалла уменьшают на 50-70S, отключают вращение и ведут охлаждение. При этом кристалл вмораживаетс  нижним конусом в затвердевающий расплав. Такой прием позвол ет существенно уменьшить деформацию тигл  и продлить срок его стужбы, однако кристаллы германата -  исмута при таком способе растрески30
,
0
5
0
ваютс  при их отделении от эатперде- вающего расплава, что снижает выход годных кристаллов в 2-3 раза (.по массе ) и не позвол ет получить крупногабаритные кристаллы длиной более 100 мм (при диаметре более 40-50 мм).
Наиболее близким к предлагаемому техническому решению по технической сущности и достигаемому эффекту  вл етс  способ выращивани  монокристаллов германата висмута . в котором вращающуюс  со скоррстью 60 об./мин кристаллическую затравку ввод т в . контакт с расплавом в платиновом тигле при температуре расплава /ИОбСгС и начинают выт гивать со скоростью 1 мм/ч. Кристалл разращивают с диаметра 3 мм до 40 мм, поддержива  тем-, пературу расплава 1050 С, когда длина основного кристалла достигает 148 мм, скорость вращени  снижают до 55 об /мин, а при длине 150 мм кристалл выт гивают со скоростью в , 400 раз выше ростовой скорости дл  отрыва кристалла от расплава. Затем кристалл медленно охлаждают до /20°С. Снипение скорости вращени  в конце роста и ре им отрыва кристалла от расплава позвол ют предотвратить растрескивание кристалла.,
Этот способ вырацивани  монокристаллов включает в себ  следующие операции:
1.Затравление
2.Разращивакие верхнего конуса
3.Рост при посто нном диаметре
4.формирование нижнего конуса
5.Отделение кристалла от расплава
6.Охла денне кристалла
В данном способе формирование нижнего конуса над расплавом осуществл в етс  за счет увеличени  скорости выт гивани . Увеличение скорости выт гивани  приводит к уменьшению диаметра растущего кристалла (т.е. образуетс  нижний конус) с последующим отрывом от кристалла. Образование нижнего конуса позвол ет несколько см гчить термический удар и значительно снизить или даже предотвратить растрескивание кристаллов германата висмута диаметром до 40 мм и длиной до 150 мм.
Однако дл  крупногабаритных монокристаллов (диаметр более 45-60 мм,
кристалл вращаетс  и выт гиваетс  из расплава
j
длина более 1 50 NM), а именно такие кристаллы пользуютс  наибольшим спросом и имеют лучше технико-экономические параметры , избежать растрескивани  зачастую не удаетс .
Растрескивание кристаллов св зано с описанным выше  влением термического удара и большой величиной радиального градиента в нижней части крупногабаритного кристалла вследствие особенностей теплового пол  при низком уровне расплава. Следует отметить, что сформировать нижний конус у крупногабаритного кристалла известными способами практически невозможно (из- за неустойчивого роста при значительном понижении уропн  расплава с увеличением скорости выт гивани  происходит самопроизвольный отрыв кристалла ) .
Эти факторы уменьшают выход годных крупногабаритных кристаллов на 30-40Z и снижают их качество, что в конечном счете вли ет на технико-экономические показатели производства кристаллов и затрудн ет удовлетворение потребности в них.
Целью насто щего изобретени   вл етс  улучшение качества кристаллов и повышение выхода годных. Поставленна  цель достигаетс  тем, что в способе выращивани  монокристаллов германата висмута, включающем  атравление на вращающуюс  и выт гиваемую затравку, раэраоивание верхнего конуса, выт ги- ванне цилиндрич ской части кристалла заданной длины, изменение после этого скорости вращени , отделение крис.тал- ла от расплава и его охлаждение, согласно изобретению, перед отделением кристалла от расплава скорость вращени  кристалла снижают до нул  в течение 5-10 с и продолжают выт гнвачне кристалла со снижением температуры расплава от 1090-1050йС на 30-40°С в течение 3-10 ч.
При обеспечении необходимого дл  устойчивого роста кристалла германата висмута распределени  температуры в кристаллизационном уэле во врем  вращени  кристалла характер вынужденной конвекции в расплаве таков, что его нижние холодные слои поднимаютс  к фронту кристаллизации в области , прилегающей к оси тигл . Если вращение прекращаетс , то и уменьшаетс  приток холодного расплава со дна тигл  к фронту кристаллизации (при посто нной мощности нагревател ) . Температура расплава вблизи фронта кристаллизации при этом увеличиваетс , и кристалл начинает под- плавл тьс . Поэтому в этом случае дл  сохранени  прежнего поперечного сечени  необходимо понизить температуру расплава за счет уменьшени  мощности нагревател  с помощью АСУГП. При этом происходит быстра  кристаллизаци  в центре фронта кристаллизации внизу кристалла. В результате в течение некоторого времени в расплаве формируетс  нижний конус кристалла, содержащий большое количество дефектов (пузырей и включений). Така  де
5
ю
5 ро 25 30
,, .Q хе
0
.фектна  структура имеет и/ачнтельно меньыую теплопроводность, так как поглощает и рассеивает излучение, идущее от расплава, что уменьшает передачу .тепла от расплава к кристаллу. Вследствие этого при отделении кристалла (со сформированным таким образом нижним конусом) от расплава термический удар в значительной степени см гчаетс  (перепад температуры меньше и более раст нут во времени). Поэтому растрескивани , кристалла не t происходит.
Поскольку в за вл емом способе {нижний конус формируетс  в услови х понижени , а не повышени  температуры , то и подплавлени  боковой поверхности кристалла практически не происходит , при этом также исключаетс  самопроизвольный отрыв кристалла от расплава.
Экспериментально установлено, что при выраортвании- крупногабаритных кристаллов германата висмута начальна  температура расплава непосредст- ,венно перед снижением вращени  составл ет Ю90-Ю50°С в зависимости от размеров кристалла и тигл , а также от величины осевого градиента температуры над расплавом. Снижение температуры расплава осуществл етс  АСУТП, обеспсбивающей прежнее поперечное сечение кристалла и после остановки его вращени .
При этом услови м роста с осевым градиентом менее 5 град/см соответствует снижение температуры АСУТП на 30°С, а с градиентом более 5 град/см на () С. Именно при указанных режи- мах снижени  температуры, обеспечиваемых ЛСУТП с датчиком массы, и достигаетс  положительный эффект.
Прем  формировани  нижнего конуса должно быть не менее 3 ч, так как иначе объем нижнего конуса с дефектной структурой будет невелик, не обеспечит см гчение термоудара и не позволит предупредить растрескивание.
При времени выт гивани  3-5 ч растрескивание хот  иногда и наблюдаетс , но в меньшем объеме, чем у прототипа и аналогов.
Свыше 10 ч увеличивать врем  формировани  нижнего конуса нецелесообразно , так как дальнейшее увеличение конуса уже не увеличивает положительный эффект, а лишь неопрлн. ыннг увеличивает объем дефектно п м-, г.рша.
Который ПГЬЧ Л U 1 (HI ilpn меха- 1ЧГМ fT КОИ обр. Г О K Г( Г -
неопра пч UIHPO ynenici : ii лродгш ИT f;i ) 1ШТЯ1НН Ч НЧ fM 4 ГфаШОНИЯd
приводит г умены К ни) годной части кристалла (от оГчпгп массы m,t- р.пчеит ы.х крпгталпоп) .
Таким обратом, п ре у;п-т,что формировани  пикнет конуса по режиму,JQ согласно за вл емому техническому
I . Г1.)ТР.ЧН1 Р1ГНР
2.Ртраг(иранн верхнего конуса
3.Гиг т при пог-то нном дилметре
4.Очрчнрсныине нижнего конуса
5.(т кристалла от р с- пчл РЛ
6.Ox. bDMtf t Mp кристалла
Формнропапнг нижнего конуса .осу- щсстплчотг  за счет припсчгни  р да ирномоп, а именно: перед игде- лснигк скорость нращспн  непьшают ло нуп  ()no, от НРЛИЧПИЫ, соот- Н тстную г-й участку роста при г осто-  нном днагютрс) и продонжшг гзмтмги- илнне кристалла со сн) м т ом тгмиора- , обес счнвам1 1нм гюпсреч- моо сечение кристалла (над расплаиом, а п расплаи при этом прорастает нижний конус по описанному i imir КРХЛНИЗ- MV) и течение 3-Ю ч, Т.Р, л нижней части кристалла образуетс  область с попышопнон канцентра1р1ей дефектен и нижнпГ конус, благодар  наличию кото- рпх и достигаетс  положительный эффект . Отличие эти/: ноппх ирнелоп су- IUPCTDLIIHO, так формиронсЗние кпж- него конуса с дефектной частью дн  крутп от аОлр тпьк ьрнст.ылои германата писггута крайне затрудни гельпо и iic обеспгчпгктет поло. лтлаыюгс1 - ффгкта. Таким образом, .за  л сипл способ со- отнетстпует критсрши суцостпенные отличи .
Глепуст отметить, что уменьшать скорость вращени  следует достаточно нлапно (п течение с), иначе позмоуен обрып крпстачла ич-ча инерционного скручипани  затралки.
Прим ер. Тигель с нзжтой германата нисмута помещают п крпсташтн- з.погонный узел устлнош и Кристалл- f)07 (5). DbiXTy расплавл ют и плачн- ;(MHOM Tiirjie диаметром I/O М1) ц m.ico- 1 ок 120 мм окнс 11 Tf и nidi,) атмосфере, сгугклют и раснлап ир.ь. мцумс-ч со
|,i i4 4 Uio рп  ко ш.пс приемки) , pp.iru1 ICH рескнранне (чего не удлрт   mfV - cai ь по прототипу и аналогам ) и значительно уменьшаетс  он- ла чепие к)истал л, что потпол ет улучшить качегтно кристаллоп и повысить тгход годном части крнсталлоп с до ( 5% состапл ет дрфектна  масть - нижний и перхнии конусы).
За пмнемый способ лключает следую ШИР операшш:,
Кристалл пращлетг  и пыт гиваетс  из расплава.. Кристалл не вращаете ,но продолжает иыт гнватьс 
5
0 5 0 45
jn
ее
скоростью 40 об /мин затравку и вы- т гипают ее со скоростью 1,5 мм/ч. Понижа  температуру по заданной Программе АСУТП, разращивают верхний конус . Посто нную скорость кристаллизации (посто нство поперечного сечени  кристалла) также поддерживают с помощью АСУТП (на основе датчика массы ) . Параметры АСУТП обеспечивают диаметр растущего кристалла 5(Н1 мм.
По достижении длины кристалла 200 мм плавно снижают скорость вращени  от 40 об /мин до нул  в течение 8 с л продолжают его выт гивать с прежней скоростью 1,5 мм/ч в течение времени t. При этом АСУТП понижает температуру дл  сохранени  прежнего поперечного сечени  кристалла.
После выт гивани  в таком режиме через врем  t производ т отделение кристалла от расплава увели еннсм скорости выт гивани  до 200 мм/ч. После отрыва его от расплава (подъем на высоту 50 мм) выт гивание прекращают и начинают охлаждение по заданной программе АСУТП ( 100-150 град /ч). После охла денн  кристалла его извлекают нз кристаллизационного узла и оценивают его качество.
По результатам испытаний при ч положительный эффект не про вл етс  (кристалл растрескиваетс ). При 3 1 t 5 ч растрескивание уменьшаетс . При ч растрескивани  не наблюдаетс . Дальнейшее увеличение t ведет к увеличению объема дефектной кристалла, хот  выход годного кристалла и превышает его значени  у
прототипа и аналогов. Поэтому увеличение t более 10 ч нецелесообразно и
30
35
40
лон и оплавленную боконую повер ность.
Формула if D о б п с т а Способ впрапутанп  монокрнста германата висмута, нклмчаю ччи вь ванпе из расплава па вращлмгдуюг чатрапку и ра:фа1цивапиг до члд.и го диаметра порхнем конусной час кристалла, ш рагцнваппе цилиндрич части крнстапла заданной гт.п.-м, уменьшение скороеш вращени , П1 нанче нижнего конуса, о-; дt та-пла от распнапа п crt охча мчп
тгм,
В лаборатории были проведены сра ннтельпые испытани  за вл емого технического решени . Всего Пмло проведено 12 опытов в соотпстстпин (. формулой и 50 - по аналогам и прототипу . Получено 62 монокристалла гер- маната висмута диаметром 50-60 им и длиной 180-220 мм. Все кристаллы, полученные по за вл емому способу, либо не имели трещин (в оптимальном режиме - при tЈ 5 ч), либо объем- трещиноватой или дефектной части составл л менее 20% (т.е. меньше, чем у прототипа и аналогов дл  этого кристалла ), оплавление боковой поверхности незначительно. Дл  перагтрегкав- шнхсл кристаллов выход годных (по массе) составил 45% ( составл ют дефектные верхний и нижний конусы ). В то же врем  кристаллы, полученные по аналогам и прототипу, имели трещины в 30-507, объема кристал-50 чсние 3-10 ч.
Состашп ень II.Пономарева Редактор С.ОкннаТехред Л .КравчукКорректор С.Ь екплр
Заказ 1968ТиражПодписное
ВНИИПИ Государственного комитета по изобретени м и открыти м при СССР 113035, Москва, Ж-35, Раушска  наб., д. А/5
Производственно-издательский комбинат Патент, г.Ужгород, ул. Глглри,..,, П
1
45
о т .и и ч а ю г( и п с   целью улучшени  качеств. кристал и повышени  вьп-содл голшг:;, гкг. вращени  платчю h п.чи чение 5-10 с п переч от/;елс iini м п должают нптлгнвапио iipncr.vnii г о npcMcnins- снижением тсгпюрч : VJM.I j плана от 1090-1050°С на 10-. в
неоправданно . Гечул;,та ты испытании приведены в таблице.
лон и оплавленную боконую поверхность .
Формула if D о б п с т а п и   Способ впрапутанп  монокрнстачлоп германата висмута, нклмчаю ччи вьп ги- ванпе из расплава па вращлмгдуюгн -, чатрапку и ра:фа1цивапиг до члд.итого диаметра порхнем конусной части кристалла, ш рагцнваппе цилиндрической части крнстапла заданной гт.п.-м, уменьшение скороеш вращени , П1т а;чи- нанче нижнего конуса, о-; дt крис- та-пла от распнапа п crt охча мчпю,
чсние 3-10 ч.
тгм,
чсние 3-10 ч.
1 О
5
о т .и и ч а ю г( и п с   целью улучшени  качеств. кристаллов и повышени  вьп-содл голшг:;, гкг. вращени  платчю h п.чи в течение 5-10 с п переч от/;елс iini м продолжают нптлгнвапио iipncr.vnii г одно- npcMcnins- снижением тсгпюрч : VJM.I jiac - плана от 1090-1050°С на 10-. в те
SU4771117 1989-12-15 1989-12-15 Способ выращивани монокристаллов германата висмута RU1700954C (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4771117 RU1700954C (ru) 1989-12-15 1989-12-15 Способ выращивани монокристаллов германата висмута

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4771117 RU1700954C (ru) 1989-12-15 1989-12-15 Способ выращивани монокристаллов германата висмута

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU1700954C true RU1700954C (ru) 1993-04-15

Family

ID=21485646

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4771117 RU1700954C (ru) 1989-12-15 1989-12-15 Способ выращивани монокристаллов германата висмута

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU1700954C (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
За вка JP 59-8693, кл. С 30 В 15/00, 1984. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5909276B2 (ja) 最初のチャージだけをドーピングすることによる、均一にドーピングされたシリコンインゴットの成長
US5795382A (en) Oxygen precipitation control in Czochralski-grown silicon crystals
JPH0453840B2 (ru)
US5730800A (en) Fused silica glass crucible
US8721787B2 (en) Method for manufacturing silicon single crystal
JP3552278B2 (ja) シリコン単結晶の製造方法
US8163083B2 (en) Silica glass crucible and method for pulling up silicon single crystal using the same
JP2003313089A (ja) 単結晶シリコンの製造方法、単結晶シリコンウェーハの製造方法、単結晶シリコン製造用種結晶、単結晶シリコンインゴットおよび単結晶シリコンウェーハ
JPH05194083A (ja) シリコン棒の製造方法
US6607594B2 (en) Method for producing silicon single crystal
TW201002876A (en) Method for growing silicon single crystal
RU1700954C (ru) Способ выращивани монокристаллов германата висмута
JPH09249482A (ja) 単結晶引き上げ方法
KR101266701B1 (ko) 단결정 냉각장치 및 이를 포함하는 단결정 성장장치
JP5167942B2 (ja) シリコン単結晶の製造方法
JP4899608B2 (ja) 半導体単結晶の製造装置及び製造方法
JPH04139092A (ja) シリコン単結晶の製造方法と種結晶
US7083677B2 (en) Silicon seed crystal and method for manufacturing silicon single crystal
CN114808106B (zh) 一种GaAs单晶生长工艺
CN1178844A (zh) 切克劳斯基法生长硅的温度和时间关系的控制方法
JP4082213B2 (ja) 単結晶の成長方法及び単結晶製造装置並びにこの方法によって製造されたシリコン単結晶
CN111101194A (zh) 一种单晶硅晶棒的长晶方法
US6030450A (en) Method of fabricating a silicon single crystal
JP4146835B2 (ja) 結晶成長方法
JP2009137781A (ja) 結晶成長方法およびその装置