RU158855U1 - Силовая коммутационная плата - Google Patents

Силовая коммутационная плата Download PDF

Info

Publication number
RU158855U1
RU158855U1 RU2015129220/28U RU2015129220U RU158855U1 RU 158855 U1 RU158855 U1 RU 158855U1 RU 2015129220/28 U RU2015129220/28 U RU 2015129220/28U RU 2015129220 U RU2015129220 U RU 2015129220U RU 158855 U1 RU158855 U1 RU 158855U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
recess
topological
semiconductor element
metallization
pattern
Prior art date
Application number
RU2015129220/28U
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Владимирович Савенков
Андрей Михайлович Новиков
Original Assignee
Закрытое акционерное общество "Орбита"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Закрытое акционерное общество "Орбита" filed Critical Закрытое акционерное общество "Орбита"
Priority to RU2015129220/28U priority Critical patent/RU158855U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU158855U1 publication Critical patent/RU158855U1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

1. Силовая коммутационная плата, содержащая твердую подложку, на поверхность которой нанесен топологический рисунок металлизации, соединенный с посадочной площадкой, на которой расположен полупроводниковый элемент, и через проводник соединенный с контактной площадкой полупроводникового элемента, на поверхности подложки выполнено углубление, на дне которого расположена указанная посадочная площадка, соединение которой с частью топологического рисунка металлизации, примыкающего к углублению, осуществлено через металлизацию боковой поверхности углубления, глубина которого выбрана такой, что поверхность контактной площадки полупроводникового элемента находится в одной плоскости с поверхностью топологического рисунка металлизации, отличающаяся тем, что твердая подложка платы выполнена по алюмооксидной технологии и включает слой алюминия, слой оксида алюминия и металлические проводники, образующие указанный топологический рисунок.2. Силовая коммутационная плата по п. 1, отличающаяся тем, что углубление с установленным полупроводниковым элементом заполнено диэлектрическим теплопроводящим веществом.

Description

Силовая коммутационная плата относится к электротехнике и может быть использована в качестве печатной платы для монтажа электрорадиоизделий в электронной, электротехнической и радиотехнической аппаратуре, в т.ч. в силовых полупроводниковых преобразователях, предназначенных для работы в условиях жестких внешних воздействующих факторов.
Повышение надежности электронных устройств связано с улучшением эффективности отвода тепла от тепловыделяющих элементов (ТВЭ) электрической схемы и обеспечивается применением материалов с улучшенными теплоотводящими свойствами.
Известно техническое решение изготовления схемы, содержащей твердую диэлектрическую плату с топологическим рисунком металлизации на лицевой стороне и экранную заземляющую металлизацию на обратной стороне платы, кристалл бескорпусного полупроводникового прибора, проводники, соединяющие контактные площадки кристалла полупроводникового прибора с топологическим рисунком металлизации платы и металлические теплопроводящее основание, соединенное с платой, в которой с целью улучшения электрических и массогабаритных характеристик и улучшения условий теплоотвода, посадочная площадка расположена в углублении, выполненном на лицевой поверхности платы, поверхности контактных площадок кристалла полупроводникового прибора и поверхности топологического рисунка металлизации платы расположены в одной плоскости. (Патент на изобретение RU 2004036, 21/00, опубл. 30.11.1993).
Недостатком указанного технического решения является низкая теплоотдача от ТВЭ за счет невысокой теплопроводности диэлектрической платы, а также из-за дополнительного теплового сопротивления, обусловленного наличием зазора, заполненного теплопроводящим веществом, между диэлектрической платой и металлическим теплопроводящим основанием, что снижает устойчивость модуля к внешним воздействующим факторам, его надежность и ресурс.
Известна также электрохимическая алюмооксидная технология изготовления печатных плат на алюминиевом основании, основанная на сочетании процесса анодного окисления (анодирования) алюминия с базовыми операциями микроэлектроники (вакуумного нанесения металлов и фотолитографии), предназначенная для использования в электротехнической, электронной и полупроводниковой промышленности.
Основу технологии составляет процесс селективного ступенчатого оксидирования алюминия, заключающегося в получении диэлектрика на поверхности металла и в его глубине [http://rusalox.ru].
Наиболее близким к заявляемому является гибридная интегральная схема сверхвысокочастотного и крайневысокочастотного диапазонов, содержащая твердую диэлектрическую подложку, на лицевую поверхность которой нанесен топологический рисунок металлизации, соединенный с по крайней мере одной посадочной площадкой, на которой расположен навесной элемент, и через проволочный проводник - с контактной площадкой навесного элемента, в которой с целью улучшения электрических и массогабаритных характеристик, на лицевой стороне подложки выполнено углубление, на дне которого расположена посадочная площадка, соединение которой с частью топологического рисунка металлизации, примыкающего к углублению, осуществлено через металлизацию боковой поверхности углубления, а глубина углубления выбрана такой, что поверхность контактной площадки навесного элемента находится в одной плоскости с поверхностью топологического рисунка металлизации (Авторское свидетельство SU 1812580, H01L 23/00, опубл. 30.04.1993).
Недостатком этого технического решения также является низкая теплоотдача от ТВЭ за счет невысокой теплопроводности диэлектрической платы.
Задачей настоящей полезной модели является повышение надежности устройства за счет улучшения теплоотдачи от ТВЭ, осуществляемой непосредственно на металлическое основание и далее на внешний радиатор и (или) в окружающую среду.
Поставленная задача решается тем, что у силовой коммутационной платы, содержащей твердую подложку, на поверхность которой нанесен топологический рисунок металлизации, соединенный с посадочной площадкой, на которой расположен полупроводниковый элемент, и через проводник соединенный с контактной площадкой полупроводникового элемента, на поверхности подложки выполнено углубление, на дне которого расположена указанная посадочная площадка, соединение которой с частью топологического рисунка металлизации, примыкающего к углублению, осуществлено через металлизацию боковой поверхности углубления, глубина которого выбрана такой, что поверхность контактной площадки полупроводникового элемента находится в одной плоскости с поверхностью топологического рисунка металлизации, указанная твердая подложка платы выполнена по алюмооксидной технологии и включает слой алюминия, слой оксида алюминия и металлические проводники, образующие указанный топологический рисунок.
Предусмотрено, что углубление с установленным полупроводниковым элементом может быть заполнено диэлектрическим теплопроводящим веществом.
Полезная модель проиллюстрирована чертежами на фиг. 1, фиг. 2, на которых представлены в разрезе варианты исполнения силовой коммутационной платы, где:
1 - алюминиевая подложка,
2 - топологический рисунок металлизации,
3 - посадочная площадка,
4 - полупроводниковый элемент,
5 - проводник,
6 - контактная площадка полупроводникового элемента,
7 - углубление,
8 - слой оксида алюминия,
9 - диэлектрическое теплопроводящее вещество.
При работе устройства на основе предлагаемого технического решения изготовления силовой коммутационной платы, тепло, выделяемое полупроводниковым элементом 4, установленным на посадочную площадку 3, передается через металлические проводники 2 непосредственно на алюминиевую подложку 1, имеющую высокую теплопроводность, и рассеивается конвекцией, излучением или передается на внешний теплоотвод (радиатор).
При этом, электрическая изоляция металлических проводников 2 топологического рисунка между собой и относительно алюминиевой подложки 1 обеспечивается за счет слоя оксида алюминия 8, обладающего высокими диэлектрическими свойствами.
Заполнение углубления диэлектрическим теплопроводящим веществом 9 позволяет повысить теплоотдачу от полупроводникового элемента 4 к алюминиевой подложке 1 за счет дополнительного отвода тепла от поверхности полупроводникового элемента 4, контактирующей с диэлектрическим теплопроводящим веществом 9, к боковой поверхности углубления 7 алюминиевой подложки 1.
Технический результат заявляемого устройства состоит в повышении эффективности отвода тепла от полупроводникового элемента, обусловленном выполнением силовой коммутационной платы из теплопроводящего металла, за счет передачи тепла от платы далее конвекцией и (или) излучением в окружающую среду. Такое техническое решение также обеспечивает механическую прочность конструкции и высокую электрической изоляцию между элементами монтажа и алюминиевой подложкой.
Испытания макетного образца силового полупроводникового выпрямителя на основе силовой коммутационной платы, изготовленного в ЗАО «Орбита» на основе предлагаемого технического решения, показали высокую эффективность отвода тепла от ТВЭ одновременно с обеспечением прочности изоляции токоведущих частей конструкции относительно металлического основания.

Claims (2)

1. Силовая коммутационная плата, содержащая твердую подложку, на поверхность которой нанесен топологический рисунок металлизации, соединенный с посадочной площадкой, на которой расположен полупроводниковый элемент, и через проводник соединенный с контактной площадкой полупроводникового элемента, на поверхности подложки выполнено углубление, на дне которого расположена указанная посадочная площадка, соединение которой с частью топологического рисунка металлизации, примыкающего к углублению, осуществлено через металлизацию боковой поверхности углубления, глубина которого выбрана такой, что поверхность контактной площадки полупроводникового элемента находится в одной плоскости с поверхностью топологического рисунка металлизации, отличающаяся тем, что твердая подложка платы выполнена по алюмооксидной технологии и включает слой алюминия, слой оксида алюминия и металлические проводники, образующие указанный топологический рисунок.
2. Силовая коммутационная плата по п. 1, отличающаяся тем, что углубление с установленным полупроводниковым элементом заполнено диэлектрическим теплопроводящим веществом.
Figure 00000001
RU2015129220/28U 2015-07-16 2015-07-16 Силовая коммутационная плата RU158855U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015129220/28U RU158855U1 (ru) 2015-07-16 2015-07-16 Силовая коммутационная плата

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015129220/28U RU158855U1 (ru) 2015-07-16 2015-07-16 Силовая коммутационная плата

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU158855U1 true RU158855U1 (ru) 2016-01-20

Family

ID=55087522

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015129220/28U RU158855U1 (ru) 2015-07-16 2015-07-16 Силовая коммутационная плата

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU158855U1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110828407A (zh) * 2019-11-19 2020-02-21 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 一种SiP封装结构及其制备方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110828407A (zh) * 2019-11-19 2020-02-21 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 一种SiP封装结构及其制备方法
CN110828407B (zh) * 2019-11-19 2021-08-24 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 一种SiP封装结构及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108133915B (zh) 功率器件内置且双面散热的功率模组及其制备方法
EP1796444A2 (en) Thermal conductive substrate and electronic assembly
EP2779230A3 (en) Power overlay structure and method of making same
CN107078110A (zh) Igbt模组及其制造方法
EP1662568A3 (en) Power module, phase leg, and three-phase inverter
US20160276242A1 (en) Thermal spreader having inter-metal diffusion barrier layer
KR20130139011A (ko) Dbc 기판 및 전력 반도체 모듈
CN110098153B (zh) 电力电子模块及制造电力电子模块的方法
US9089072B2 (en) Heat radiating substrate and method for manufacturing the same
RU158855U1 (ru) Силовая коммутационная плата
KR20180014081A (ko) 개방-세공 콘택 피스의 갈바닉 연결에 의하여 컴포넌트를 전기적으로 콘택팅하기 위한 방법, 및 대응하는 컴포넌트 모듈
TWI522032B (zh) 散熱模組
RU153627U1 (ru) Силовой модуль
CN113748503A (zh) 具有增大的冷却面的紧凑的功率电子模块
RU2011154696A (ru) Гибридная интегральная схема свч
CN112823416A (zh) 表面安装式热缓冲器
JP2013214783A (ja) 半導体装置および電極用部材の製造方法
RU153466U1 (ru) Силовой модуль
CN105914283A (zh) 散热基板、功率模块及制备散热基板的方法
CN207573703U (zh) 一种单面电路板
JP2011192762A (ja) パワーモジュール
JP2004087927A (ja) セラミック回路基板
JP5485833B2 (ja) 半導体装置、電極用部材および電極用部材の製造方法
RU2617559C2 (ru) Сборный корпус микросхемы и способ его использования
CN214672591U (zh) 一种功率器件封装结构