RU132614U1 - Пучково-плазменное устройство для формирования поверхностных сплавов - Google Patents
Пучково-плазменное устройство для формирования поверхностных сплавов Download PDFInfo
- Publication number
- RU132614U1 RU132614U1 RU2013121192/07U RU2013121192U RU132614U1 RU 132614 U1 RU132614 U1 RU 132614U1 RU 2013121192/07 U RU2013121192/07 U RU 2013121192/07U RU 2013121192 U RU2013121192 U RU 2013121192U RU 132614 U1 RU132614 U1 RU 132614U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- electron gun
- forming surface
- anode
- plasma
- magnetron
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Пучково-плазменное устройство для формирования поверхностных сплавов на изделиях, содержащее импульсную электронную пушку, включающую катод, анод, корпус, и устройство для нанесения покрытий ионно-плазменным способом, отличающееся тем, что устройство для нанесения покрытий расположено внутри корпуса электронной пушки за ее анодом и имеет кольцеобразную конструкцию, при этом отверстие в этой кольцеобразной конструкции служит для прохода электронного пучка к обрабатываемому изделию.
Description
Предлагаемая полезная модель относится к области модификации поверхностных слоев материалов и может быть использована для улучшения их физико-химических свойств (коррозионной стойкости, антифрикционных свойств и др.) с конечной целью повышения эксплуатационных характеристик различных изделий, например, высоковольтных вакуумных выключателей, металлических зубных протезов и имплантатов, пар трения.
Известно устройство для формирования поверхностных сплавов в едином вакуумном цикле, включающее импульсную электронную пушку и одно или более устройств для нанесения покрытий ионно-плазменным способом на обрабатываемые изделия, смонтированные на общей вакуумной камере, снабженной манипулятором, перемещающим обрабатываемые изделия от электронной пушки к устройствам для нанесения покрытий и обратно [1]. В данном устройстве рабочий стол, на котором располагаются обрабатываемые изделия, периодически перемещается из зоны нанесения покрытия в зону облучения импульсным электронным пучком и обратно.
Недостатком данного устройства является необходимость этого перемещения, что усложняет конструкцию вакуумной камеры, конструкцию манипулятора и систему управления им, следовательно, усложняет конструкцию всего устройства и его системы управления.
Задача, решаемая в заявляемой полезной модели - упрощение конструкции устройства и его системы управления.
Техническим результатом заявляемой полезной модели является отсутствие необходимости перемещения рабочего стола с изделием из зоны нанесения покрытия в зону облучения импульсным электронным пучком, что упрощает конструкцию вакуумной камеры, уменьшает ее объем (а значит, сокращает время достижения необходимого вакуума), упрощает конструкцию манипулятора и систему управления им.
Указанный технический результат достигается тем, что в устройстве для формирования поверхностных сплавов на изделиях, содержащем импульсную электронную пушку и устройство для нанесения покрытий ионно-плазменным способом, согласно полезной модели, устройство для нанесения покрытий размещено внутри корпуса электронной пушки за ее анодом, выполнено в виде кольцеобразной конструкции.
При этом отверстие в этой кольцеобразной конструкции служит для прохода электронного пучка к обрабатываемому изделию.
На Фиг.1 приведена принципиальная конструктивная схема устройства. Устройство 1 для нанесения покрытий на основе магнетронного разряда [2], являющееся магнетроном, имеет кольцеобразную конструкцию и расположено внутри корпуса 2 сильноточной электронной пушки 3, включающей также взрывоэмиссионный катод 4 и кольцевой анод 5, служащий для формирования столба плазмы (плазменного анода) путем зажигания сильноточного отражательного разряда [3]. На стадии зажигания и горения отражательного разряда его катодами являются рабочий стол 6 с расположенным на нем изделием 7 и собственно взрывоэмиссионный катод 4. При необходимости плазменный анод может быть создан и иным способом. Электронная пушка закреплена на присоединительном фланце вакуумной камеры 8. Для улучшения однородности наносимого покрытия поверхность катода магнетрона 1 выполнена в виде образующей усеченного конуса, угол наклона которой к оси системы составляет 60-70 градусов. Магнитное поле, создаваемое соленоидом 9 и служащее для транспортировки электронного пучка, формируется импульсно (на 10-15 мс) и во время работы магнетрона 1 отсутствует (в принципе, формирование и транспортировка пучка могут быть осуществлены и без ведущего магнитного поля). В свою очередь, поле постоянных магнитов магнетрона 1 сосредоточено, в основном, между ними и практически не искажает магнитное поле, служащее для транспортировки пучка. В предлагаемой конструкции отсутствует отдельный патрубок для установки магнетрона, что упрощает конструкцию вакуумной камеры и позволяет уменьшить ее объем.
Формирование поверхностных сплавов на изделиях в заявляемом устройстве производится следующим образом. Обрабатываемое изделие 7 помещается в рабочую камеру и закрепляется на рабочем столе 6. В камере создается вакуум, а затем в нее напускается рабочий газ (обычно аргон) до необходимого давления с помощью регулятора расхода газа. Включается электронная пушка 3 и производится облучение изделия с целью предварительной очистки. Затем электронная пушка выключается, включается магнетрон 1 и на изделие 7 наносится пленка материала катода магнетрона 1. После этого магнетрон 1 выключается, и снова включается электронная пушка 3. Под действием импульсного электронного пучка большой плотности, эмитируемого катодом 4 электронной пушки 3, предварительно нанесенная пленка вплавляется в поверхностный слой изделия 7. Цикл «нанесение пленки + вплавление» может осуществляться многократно. Операция нанесения пленки и облучения пучком обрабатываемого изделия 7 проводится на одном рабочем столе 6. Поскольку электронная пушка 3 и магнетрон 1 работают обычно при различных давлениях рабочего газа, то перед их включением устанавливается то давление, которое необходимо для работы пушки или магнетрона, соответственно.
Таким образом, предлагаемое устройство позволяет упростить конструкцию вакуумной камеры, уменьшить ее объем, тем самым сократить время достижения необходимого вакуума, упростить конструкцию манипулятора и систему управления им.
Источники информации, принятые во внимание при составлении заявки на полезную модель:
1. Озур Г.Е., Марков А.Б., Падей А.Г. Устройство для формирования поверхностных сплавов. Патент на полезную модель. RU 97005 U1 от 23.04.2010. Опубликовано 20.08.2010 г. Бюл. №23.
2. Кузьмичев А.И. Магнетронные распылительные системы. Книга 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления. Киев, Аверс, 2008, 244 с.
3. Озур Г.Е., Проскуровский Д.К, Карлик К.В. Источник широкоапертурных низкоэнергетических сильноточных электронных пучков с плазменным анодом на основе отражательного разряда. ПТЭ, 2005, №6, с.58-65.
Claims (1)
- Пучково-плазменное устройство для формирования поверхностных сплавов на изделиях, содержащее импульсную электронную пушку, включающую катод, анод, корпус, и устройство для нанесения покрытий ионно-плазменным способом, отличающееся тем, что устройство для нанесения покрытий расположено внутри корпуса электронной пушки за ее анодом и имеет кольцеобразную конструкцию, при этом отверстие в этой кольцеобразной конструкции служит для прохода электронного пучка к обрабатываемому изделию.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2013121192/07U RU132614U1 (ru) | 2013-05-07 | 2013-05-07 | Пучково-плазменное устройство для формирования поверхностных сплавов |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2013121192/07U RU132614U1 (ru) | 2013-05-07 | 2013-05-07 | Пучково-плазменное устройство для формирования поверхностных сплавов |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU132614U1 true RU132614U1 (ru) | 2013-09-20 |
Family
ID=49183896
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2013121192/07U RU132614U1 (ru) | 2013-05-07 | 2013-05-07 | Пучково-плазменное устройство для формирования поверхностных сплавов |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU132614U1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2688190C1 (ru) * | 2018-01-10 | 2019-05-21 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук, (ИСЭ СО РАН) | Устройство для поверхностной обработки массивных металлических изделий |
-
2013
- 2013-05-07 RU RU2013121192/07U patent/RU132614U1/ru active IP Right Revival
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2688190C1 (ru) * | 2018-01-10 | 2019-05-21 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук, (ИСЭ СО РАН) | Устройство для поверхностной обработки массивных металлических изделий |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2017025407A5 (ru) | ||
TW200710244A (en) | Coating process for manufacture or reprocessing of sputter targets or X-ray anodes | |
EP1650324A3 (en) | Sputter coating system and method of sputter coating | |
JP6438657B2 (ja) | 円筒形の蒸着源 | |
JP2014231644A (ja) | 基体を被覆するための被覆装置及び基体を被覆する方法 | |
US10378095B2 (en) | TiB2 layers and manufacture thereof | |
WO2005089272B1 (en) | Pulsed cathodic arc plasma source | |
RU132614U1 (ru) | Пучково-плазменное устройство для формирования поверхностных сплавов | |
Yakovin et al. | Integral cluster set-up for complex compound composites syntesis | |
CN204497191U (zh) | 一种带防静电涂层的考夫曼电源 | |
RU2620845C1 (ru) | Устройство для синтеза и осаждения покрытий | |
US20090020415A1 (en) | "Iontron" ion beam deposition source and a method for sputter deposition of different layers using this source | |
JP2008280579A (ja) | 電子ビームスパッタリング装置 | |
CN105734511B (zh) | 降低磁控溅射设备沉积速率的方法及磁控溅射设备 | |
RU2726223C1 (ru) | Магнетронное распылительное устройство | |
Kiziridi et al. | High-current electron gun with a planar magnetron integrated with an explosive-emission cathode | |
CN110144560B (zh) | 一种复合了脉冲磁控溅射和离子注入的复合表面改性方法及装置 | |
JP2012164677A (ja) | イオンガン、及び成膜装置 | |
RU2688190C1 (ru) | Устройство для поверхностной обработки массивных металлических изделий | |
CN108368599A (zh) | 一种对用于涂覆的表面进行预处理的方法 | |
RU97005U1 (ru) | Устройство для формирования поверхностных сплавов | |
US20150101924A1 (en) | Assembly and method of coating an interior surface of an object | |
JP2009114482A (ja) | 電子ビームによる金属表面の処理方法及び装置 | |
US10128091B2 (en) | Filter apparatus for arc ion evaporator used in cathodic arc plasma deposition system | |
CN103966556A (zh) | 一种实现离子镀沉积MCrAlX防护涂层的方法和装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM1K | Utility model has become invalid (non-payment of fees) |
Effective date: 20150508 |
|
NF1K | Reinstatement of utility model |
Effective date: 20170208 |