RU110088U1 - Устройство для нанесения покрытий в вакууме - Google Patents

Устройство для нанесения покрытий в вакууме Download PDF

Info

Publication number
RU110088U1
RU110088U1 RU2011113754/02U RU2011113754U RU110088U1 RU 110088 U1 RU110088 U1 RU 110088U1 RU 2011113754/02 U RU2011113754/02 U RU 2011113754/02U RU 2011113754 U RU2011113754 U RU 2011113754U RU 110088 U1 RU110088 U1 RU 110088U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
cathode
coating
diameter
droplet eliminator
droplet
Prior art date
Application number
RU2011113754/02U
Other languages
English (en)
Inventor
Ильдар Шаукатович Абдуллин
Михаил Михайлович Миронов
Евгения Александровна Панкова
Марина Михайловна Гребенщикова
Ильгам Ильич Васильев
Виталий Александрович Усенко
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский национальный исследовательский технологический университет"(ФГБОУ ВПО "КНИТУ")
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский национальный исследовательский технологический университет"(ФГБОУ ВПО "КНИТУ") filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский национальный исследовательский технологический университет"(ФГБОУ ВПО "КНИТУ")
Priority to RU2011113754/02U priority Critical patent/RU110088U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU110088U1 publication Critical patent/RU110088U1/ru

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее вакуумную камеру с подложкодержателем и электродуговой испаритель, состоящий из катода, анода, поджигающего электрода, каплеуловителя, расположенного между катодом и подложкодержателем, отличающееся тем, что каплеуловитель изготовлен из керамического материала, электрически изолирован от элементов устройства и установлен от катода на расстоянии, равном диаметру катода, причем диаметр каплеуловителя равен диаметру катода.

Description

Устройство для нанесения покрытий в вакууме относится к области вакуумно-плазменного нанесения металлических покрытий и может быть использовано в технике.
Известна вакуумная установка для нанесения упрочняющих покрытий на инструмент ННВ6.6 - И1, включающая вакуумную камеру и электродуговой испаритель, состоящий из корпуса и катода, фокусирующей и стабилизирующей катушек, поджигающего электрода (Установка ННВ6.6 - И1 эксплуатационная документация ИЕВГ.681311.001 - ЛУ1).
Основным недостатком известной установки является наличие "капельной фазы", т.е. капель металла вырванных с поверхности катода при его плавлении. Дефекты покрытия от "капельной фазы" проявляются в виде повышения параметра шероховатости, выступания капель металла над покрытием и получению неоднородного покрытия из нитридов и капель металла в нем.
Известна ионная камерная вакуумная установка для нанесения упрочняющих и защитно-декоративных покрытий ННВ6.6 - И4, состоящая из вакуумной камеры и модернизированного варианта электродугового испарителя установки ННВ6.6 - И1 (Установка ННВ6.6 - И4 эксплуатационная документация ИЕВГ.681311.0320). Плазмовод электродугового испарителя выполнен с загибом по направлению движения испаряемого материала, что позволяет предотвратить попадание «капельной фазы» в состав покрытия.
Недостатком данной установки, является малая производительность электродугового испарителя по металлической плазменной фазе, сложность конструкции, трудоемкость обслуживания, и повышенное энергопотребление оборудования.
Наиболее близким техническим аналогом к заявляемой полезной модели, выбранным в качестве прототипа, является устройство для нанесения тонких пленок в вакууме (пат. РФ №2066704, МПК6 С23С 14/24, 1996 г.).
Устройство содержит вакуумную камеру с подложкодержателем и электродуговой испаритель, состоящий из катода, анода и поджигающего электрода, и снабжено водоохлаждаемым каплеуловителем, установленным между катодом и подложкодержателем. Водоохлаждаемый каплеуловитель имеет высоту равную диаметру катода, и расположен на равном расстоянии от катода и подложкодержателя. Устройство позволяет получать однородные конденсаты без капельной фазы.
Недостатком прототипа является низкая скорость роста покрытия, так как каплеуловитель задерживает не только «капельную фазу», но и ионизированные частицы. Это обусловлено тем, что каплеуловитель, выполненный из металла, имеет электрический контакт с анодом. Что также приводит к интенсивному нагреву каплеуловителя и необходимости его охлаждения. Охлаждение каплеуловителя осуществляется водой через медные трубки.
Технической задачей заявляемой полезной модели является повышение производительности устройства по нанесению покрытий, то есть увеличение скорости роста покрытия.
Техническая задача достигается тем, что в устройстве для нанесения покрытий в вакууме, содержащем вакуумную камеру с подложкодержателем и электродуговой испаритель, состоящий из катода, анода, поджигающего электрода, каплеуловителя, расположенного между катодом и подложкодержателем, каплеуловитель выполнен из керамического материала, электрически изолирован от элементов устройства и установлен от катода на расстоянии равном диаметру катода, причем диаметр каплеуловителя равен диаметру катода.
Каплеуловитель, в отличие от прототипа, изготовлен из керамического материала, что позволяет электрически изолировать каплеуловитель от элементов устройства. При этом снижается тепловая нагрузка на каплеуловитель и не требуется его охлаждение. Условие электроизоляции каплеуловителя от всех элементов устройства, в отличие от прототипа, обеспечивает высокую производительность процесса, благодаря беспрепятственному прохождению в объем камеры ионов испаряемого металла, которые в основном и формируют покрытие. Размещение каплеуловителя, имеющего электрический контакт с анодом (корпусом), вблизи катода приведет к смещению тока дуги с участка катод-корпус (анод) на участок катод - каплеуловитель, при этом большинство ионизированных частиц будут рекомбинировать в этом промежутке, не выходя в камеру и не формируя покрытие. Так как во время нанесения покрытия, экранируемые каплеуловителем «капли» металла, формируют на его поверхности токопроводящий слой, отсутствие электрического контакта каплеуловителя с корпусом поддерживается за счет установки каплеуловителя с помощью державки снабженной пылезащитным экраном.
Размещение каплеуловителя на расстоянии от катода равном диаметру катода обеспечивает надежное экранирование «капель» изотропно прямолинейно разлетающихся с торцевой поверхности испаряемого катода. Смещение каплеуловителя в сторону катода приведет к снижению производительности процесса, так как при этом так же будут экранироваться ионы и паровая фаза. А его удаление приведет к появлению в составе покрытия микрокапель, что негативно скажется на качестве покрытия.
Схема устройства предлагаемой полезной модели приведена на чертеже.
Устройство для нанесения покрытий содержит вакуумную камеру 1 и электродуговой испаритель, состоящий из катода 2, анода 3, поджигающего электрода 4, фланца 5 для крепления испарителя к вакуумной камере, стабилизирующей 6 и фокусирующей 7 катушек, герметичной прокладки 8 и каплеуловителя 9, установленного соосно с катодом с помощью державки 10, снабженной пылезащитным экраном 11.
Устройство работает следующим образом. В вакуумную камеру помещают изделие, на поверхность которого необходимо конденсировать покрытие. В вакууме (10-3-10-5 мм.рт.ст.) на катоде 2 инициируется электрическая дуга. Катод эмитирует электроны, металл катода при этом испаряется и частично ионизируется. Металлическая плазма, пары материала катода и капли металла за счет газодинамических сил, обусловленных разностью давлений в дуговом испарителе и камере, истекают с большой скоростью в рабочее пространство вакуумной камеры 1. Каплеуловитель 9 задерживает блоки неионизированных атомов металла ("капельная фаза"). Проходное сечение электродугового испарителя много больше сечения каплеуловителя, следовательно, каплеуловитель не влияет на движение паровой фазы и металлической плазмы.
Испытания заявляемого устройства проводили с использованием катода, выполненного из титанового сплава марки ВТ 1-00, диаметром 78±1 мм. Керамический каплеуловитель устанавливали от катода на расстоянии 78±1 мм, диаметр каплеуловителя составлял 60, 78, 90 мм. Нанесение покрытия проводили при токе дуги 85±5А при одновременной работе трех испарителей в течение 30 мин. В качестве образцов для нанесения покрытий использовали поликорунд с параметром шероховатости Ra=0,05 мкм (определен на профилометре предприятия изготовителя).
Исследования характеристик полученных покрытий проводили на сколе поликорунда оптическим методом, согласно ГОСТ 9.302-88 «Единая система защиты от коррозии и старения. Покрытия металлические и неметаллические неорганические. Методы контроля».
Сравнительные характеристики покрытий, полученных с помощью заявляемого устройства и прототипа, приведены в таблице. Анализ данных показывает, что заявляемая полезная модель по сравнению с прототипом имеет большую производительность при всех значениях диаметра каплеуловителя (толщина нанесенного покрытия 3,5-4,1 мкм вместо 3,1 мкм). Однако при использовании каплеуловителя с диаметром, меньшим диаметра катода (60 мм), покрытия характеризуются наличием «капельной фазы» и высоким значением шероховатости Ra=1,2 мкм. При использовании каплеуловителя с диаметром, превышающим диаметр катода (90 мм), покрытия однородные без примеси «капельной фазы», с низким значением параметра шероховатости (Ra=0,1 мкм), но производительность процесса нанесения покрытия снижается, так как экранированию подвергается и паровая фаза. Оптимальным является условие, когда диаметр размещаемого каплеуловителя равен диаметру катода (78±1 мм), это позволяет полностью улавливать капли металла, исходящие от торцевой испаряемой поверхности катода, и сохранять высокую производительность процесса. Скорость роста покрытия (производительность предлагаемого устройства) по сравнению с прототипом увеличивается на 29%.
Преимущество предлагаемой полезной модели заключается в том, что данное устройство позволяет получать качественные однородные конденсаты без капельной фазы с высокой производительностью.
Таблица
Устройство Характеристики устройства Характеристики полученного покрытия
Диаметр каплеуловителя, мм Расстояние от каплеуловителя до катода, мм Ток дуги, А Опорное напряжение, В Время осаждения покрытия, мин Толщина слоя покрытия δ, мкм Наличие «капельной фазы» Шероховатость покрытия Ra, мкм
Прототип Высота равна диаметру катода 180 На одинаковом расстоянии от катода и подложкодержателя 3×85±5 280±10 30±0,5 3,1±0.4 Однородное покрытие без капельной фазы 0,1
Заявляемая полезная модель 60 60 3×85±5 280±10 30±0,5 4,5±0,4 Покрытие с вкраплением капельной фазы 1,2
78 78 3×85±5 280±10 30±0,5 4,0±0,4 Однородное покрытие без капельной фазы 0,1
90 90 3×85+5 280±10 30±0,5 3,5±0,4 Однородное покрытие без капельной фазы 0,1

Claims (1)

  1. Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее вакуумную камеру с подложкодержателем и электродуговой испаритель, состоящий из катода, анода, поджигающего электрода, каплеуловителя, расположенного между катодом и подложкодержателем, отличающееся тем, что каплеуловитель изготовлен из керамического материала, электрически изолирован от элементов устройства и установлен от катода на расстоянии, равном диаметру катода, причем диаметр каплеуловителя равен диаметру катода.
    Figure 00000001
RU2011113754/02U 2011-04-08 2011-04-08 Устройство для нанесения покрытий в вакууме RU110088U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2011113754/02U RU110088U1 (ru) 2011-04-08 2011-04-08 Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2011113754/02U RU110088U1 (ru) 2011-04-08 2011-04-08 Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU110088U1 true RU110088U1 (ru) 2011-11-10

Family

ID=44997536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011113754/02U RU110088U1 (ru) 2011-04-08 2011-04-08 Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU110088U1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU179881U1 (ru) * 2017-07-04 2018-05-28 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) Дуговой испаритель
RU195652U1 (ru) * 2019-08-05 2020-02-03 Ооо «Инноватехпром» Устройство для распыления металла в вакууме

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU179881U1 (ru) * 2017-07-04 2018-05-28 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) Дуговой испаритель
RU195652U1 (ru) * 2019-08-05 2020-02-03 Ооо «Инноватехпром» Устройство для распыления металла в вакууме

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1321772C (en) Apparatus for the application of thin layers to a substrate by means of cathode sputtering
JP6100619B2 (ja) イオン源およびイオンミリング装置
KR20090016610A (ko) 용량 결합형 자기 중성선 플라즈마 스퍼터장치
RU110088U1 (ru) Устройство для нанесения покрытий в вакууме
GB2534021A (en) Metal coated fibre forming apparatus and method of forming a metal coated fibre
JP6474076B2 (ja) 薄膜製造方法および薄膜製造装置
CA3103016C (en) Single beam plasma source
WO2013099044A1 (ja) イオンビーム処理装置および中和器
CN114540779B (zh) 复合阴极、磁控溅射镀膜设备及镀膜方法
KR20220165676A (ko) 성막 장치용 부품, 및 성막 장치용 부품을 갖춘 성막 장치
JP3686540B2 (ja) 電子デバイスの製造方法
DE102015104433B3 (de) Verfahren zum Betreiben einer Kaltkathoden-Elektronenstrahlquelle
JP2013129871A (ja) マグネトロンスパッタリングカソード及びこれを備えたスパッタリング装置
JP5350911B2 (ja) プラズマ発生装置及び成膜装置並びに成膜方法及び表示素子の製造方法
US20100181505A1 (en) Particle beam device with reduced emission of undesired material
CN106637103B (zh) 一种igzo成膜设备的阳极稳定装置
CN210085559U (zh) 一种刻蚀阳极屏蔽绝缘装置
JP5048538B2 (ja) 同軸型真空アーク蒸着源及び真空蒸着装置
KR20140074687A (ko) 스퍼터링 장치
KR100307075B1 (ko) 광대역 공정분압용 고성능 전광호/전리체 증착조
TWI659445B (zh) 射頻(rf)-濺鍍沉積源、沉積設備及其之組裝方法
RU135319U1 (ru) Устройство для напыления пленок на подложки
US9803274B2 (en) Process kit of physical vapor deposition chamber and fabricating method thereof
JP5454386B2 (ja) 真空アーク蒸着装置
GB2485603A (en) Segmented target for vapour deposition process

Legal Events

Date Code Title Description
MM1K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20160409