PL99865B1 - Sposob otrzymywania warstwotworczych promienioczulych poliestrow - Google Patents

Sposob otrzymywania warstwotworczych promienioczulych poliestrow Download PDF

Info

Publication number
PL99865B1
PL99865B1 PL18506875A PL18506875A PL99865B1 PL 99865 B1 PL99865 B1 PL 99865B1 PL 18506875 A PL18506875 A PL 18506875A PL 18506875 A PL18506875 A PL 18506875A PL 99865 B1 PL99865 B1 PL 99865B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
bisphenols
group
mol
radical
polyester
Prior art date
Application number
PL18506875A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL18506875A priority Critical patent/PL99865B1/pl
Publication of PL99865B1 publication Critical patent/PL99865B1/pl

Links

Landscapes

  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania poliestrów, które w wyniku dzialania czynników fizycznych bedacych zródlem energii, np. promie¬ niowania ultrafioletowego, ulegaja reakcji siecio¬ wania, dzieki czemu staja sie one nierozpuszczalne.
Stosujac przykladowo naswietlanie warstw z takich poliestrów naniesionych na podloza metalowe przez odpowiednia maske, a nastepnie prowadzac proces wywolania w rozpuszczalniku, uzyskuje sie kopie obrazu z maski.
Otrzymana kopie majaca odsloniete miejsca po¬ wierzchni podloza, mozna poddac dalszym proce¬ som, jak np. trawienie, w wyniku czego otrzymuje sie obwody drukowane, lub naparowanie w prózni w wy¬ niku czego otrzymuje sie obwody scalone lub elemen¬ ty optyczne itp. Same t.e kopie, bez dodatkowej ob¬ róbki, sluza jako matryce w offsetowej technice druku plaskiego. Poliester taki posiada duza mase czasteczkowa i tworzy elastyczne, nielamliwe folie o bardzo dobrych wlasnosciach mechanicznych, ter¬ micznych i dielektrycznych. Folie te, w wyniku dzialania na nie promieniowaniem, np. slonecznym, staja sie nierozpuszczalne nawet w rozpuszczalni¬ kach, z których zostaly wylane, a ich wlasnosci mechaniczne ulegaja wyraznej poprawie.
Dotychczas polimery zdolne do sieciowania otrzy¬ muje sie na drodze polikondensacji bisfenoli z kwasami dwukarboksylowymi lub ich pochodny¬ mi w procesie jednoetapowym. Polimery takie ma¬ ja jednak zbyt mala mase czesteczkowa, co powo- 2 duje, ze wykonane z nich folie sa malo elastyczne, maja niedostateczna przyczepnosc do podloza a ich wlasnosci mechaniczne sa niewystarczajace. Ponad¬ to, ze wzgledu na zbyt regularna strukture poli¬ mery te trudno rozpuszczaja sie w rozpuszczalni¬ kach organicznych. Aby uzyskac polimery zdolne do sieciowania o duzej masie czasteczkowej, sto¬ suje sie tez w praktyce proces dwuetapowy, pole¬ gajacy na otrzymywaniu polimeru, który nie ulega sieciowaniu a dopiero w drugim etapie poprzez modyfikacje chemiczne np. przez dzialanie chlorku cynamonoilu. na uprzednio otrzymany polialkohol winylowy, otrzymuje sie wlasciwy polimer o duzej masie czasteczkowej.
Okazalo sie jednak, ze mozna uzyskac w pro¬ cesie jednoetapowym poliester o duzej masie cza¬ steczkowej i jednoczesnie wykazujacy dobra roz¬ puszczalnosc w rozpuszczalnikach, a wiec nadajacy sie do wytwarzania z niego elastycznych folii, któ¬ ry wykazuje tez duza czulosc na dzialanie promie¬ niowania i wysoka zdolnosc rozdzielcza. Poliester taki otrzymuje sie w ten sposób, ze mieszanine bisfenoli nieswiatloczulych z bisfenolami swiatlo¬ czulymi, w której ich wzajemny stosunek wynosi 99:1—20:80, poddaje sie reakcji z mieszanina chlorków tereftalilu i izoftalilu.
Sposób wedlug wynalazku polega wiec na reakcji polikondensacji, korzystnie na granicy faz, przy czym faze wodna stanowi alkaliczny roztwór bis i(hydroksyarylo)alkanu o ogólnym wzorze 1, w któ-3 rym Ar oznacza pierscien benzenowy, naftalenowy lub antracenowy, ewentualnie jedno lub wielo¬ krotnie podstawiony atomami chlorowca, i/lub rodnikiem alkilowym, i/lub rodnikiem arylowym, i/lub allilowym i/lub metoksylowym, Z oznacza dwuwartosciowy rodnik -CER!-, w którym R i Rt moga byc jednakowe lub rózne i oznaczaja atom wodoru, i/lub rodnik alkilowy i/lub chloroalkilówy lub atom tlenu, lub grupe -S02, oraz bdsfenoli o ogól¬ nym wzorze 2 w którym X i Y oznaczaja atom wo¬ doru i/lub grupe alkilowa i/lub grupe metoksylowa i/lub atom chlorowca a R2 oznacza ugrupowanie o wzorze 3 lub ugrupowanie o wzorze 4.
Zwiazek o wzorze ogólnym 1 zawiera w czastecz¬ ce dwa pierscienie arylowe polaczone ze soba poprzez ugrupowanie Z ale moga byc równiez po¬ laczone ze solba bezposrednio bez ugrupowania Z.
Faze organiczna stanowi mieszanina chlorków tere- ftalilu i izoftalilu, korzystnie w stosunku molowym 4:1—1:2 w rozpuszczalniku organicznym, np. w chlorku metylenu. Stezenie skladników w fazie wodnej wynosi 0,03—0,35 mol/litr. Stezenie skladni¬ ków w fazie organicznej wynosi 0,03^0,6 mol/litr.
Jako -katalizator reakcji polikondensacji stosuje sie sól amoniowa lub fosfoniowa lub sulfpniowa w ilosci 0,5—10% wagowych w stosunku do ilosci bisfenoli. "JAT" przypadku prowadzenia reakcji w roz¬ puszczalniku, w którym umieszcza sie wszystkie reagenty, jako katalizator stosuje sie aminy Ill-rzedowe, korzystnie trójetyloamine, w ilosci stechiometrycznej w stosunku do ilosci bisfenoli.
Graniczne liczby lepkosciowe' otrzymanych polie¬ strów wyznaczone przez ekstrapolacje zaleznosci lepkosci zredukowanej w funkcji stezenia do ste¬ zenia równego zero, w l,l,2,fi-czterQchloroetanie, w temperaturze '25°C, wynosi 1,3—1,8. Aby uzyskac warstwy, otrzymany polimer rozpuszcza sie w mie¬ szaninie chlorku metylenu, chloroformu i 1,1,2,2- -czterochioroetanie. W mieszaninie tej chlorek me¬ tylenu stanowi co najmniej 60% objetosciowych.
Stezenie polimerów w tej mieszaninie wynosi 0,1—20% wagowych w zaleznosci od pozadanej grubosci warstwy. Roztwór poliestru nanosi sie na podloza metalowe lub pólprzewodnikowe albo przez zanurzenie albo polewanie albo na zasadzie wiro¬ wania.
Celem uzyskania na podlozu obrazu, w wyniku procesu sieciowania poliestru, naniesiona na to podloze warstwe naswietla sie promieniami ultra¬ fioletowymi a nastepnie prowadzi proces wywoly¬ wania w 1,1,2,2-czterochloroetanie lub promienio¬ waniem swiatla widzialnego, jesli do roztworu po¬ liestru uprzednio doda sie odpowiednie sensybili- zatory, np. róznie podstawione aromatyczne ketony, korzystnie barwniki. Otrzymana w ten sposób po¬ liestrowa warstwa wykazuje bardzo duza czulosc na promieniowanie ultrafioletowe i wysoka zdol nosc rozdzielcza. Aby zas uzyskac folie, otrzymany polimer rozpuszcza sie w chloroformie lub chlorku metylenu lub mieszaninie tych rozpuszczalników.
Stezenie polimeru wynosi 1^30% wagowych w zaleznosci od pozadanej grubosci folii. Folie otrzymane sposobem wedlug wynalazku charaktery¬ zuja sie wytrzymaloscia na rozciaganie do zerwa¬ nia 570^590 kG/cm2 przy wydluzeniu wzglednym 99 865 4 —30% a takze bardzo dobra przyczepnosc do podlozy metalowych.
Przedmiot wynalazku jest blizej objasniony w przykladach wykonania.
Przyklad I. Do reaktora zaopatrzonego w mie¬ szadlo wlewa sie roztwór 12 g wodorotlenku so¬ dowego (0,3 mola) w 450 ml wody i dodaje 16,416 g 2,2^bis (p-hydroksyifenyio) propanu (0,07i2 mola) i 4,788 g bis (p-hydroksybenzlidieno) aceltonu (0,018 io mola). Po calkowitym rozpuszczeniu roztwór 2,52 g chlorku trójetylobenzyloamoniowego w 315 ml wo¬ dy wlewa sie do reaktora. Zawartosc reaktora in¬ tensywnie sie miesza wkraplajac w ciagu 0,5 go¬ dziny roztwór 12,18 g chlorku tereftalilu ,(0,06 moia) i 6,09 g chlorku izoftalilu (0,03 mola) w 225 ml chlorku metylenu. Po wkropleniu mieszanine re¬ akcyjna miesza sie intensywnie przez 2 godziny utrzymujac temperature 20°C. Nastepnie dodaje sie 900 ml chlorku metylenu i miesza sie przez 0,5 godziny.
Mieszanine zakwasza sie 5% roztworem kwasu solnego do wartosci pH=l. Zawartosc reaktora przenosi sie do rozdzielacza i po rozwarstwieniu warstwe organiczna przemywa sie woda do pH = 7.
Obojetna faze organiczna wkrapla sie do 3000 ml metanolu energicznie mieszajac. Wytracone klacz¬ ki o barwie jasnozóltej saczy sie i przemywa w 500 ml metanolu. Otrzymany poliester suszy sie dobe w temperaturze 20X1 i w ciagu 4 godzin w su- szarce prózniowej w temperautrze 50°C. Graniczna liczba lepkosciowa w 1,1,2,2-czterochloroetanie w temperaturze 25°C wynosi 1,76. Otrzymany po¬ liester w postaci roztworu nanosi sie metoda wi¬ rowania na plytke krzemowa pokryta tlenkiem krzemu. Roztwór ten zawiera 0,3 g poliestru w 25 ml chlorku metylenu i 15 ml 1,1,2,2-czterochloro- etanu. Szybkosc wirowania wynosi 3000 obr./min., a czas wirowania 17 sekund.
Plytke z naniesiona warstwa promienioczula 40 grubosci 1 mikrometra suszy sie w temperaturze 50°C w ciagu 20 minut. Po tym czasie plytke na¬ swietla sie lampa rteciowa typu HBÓ 200 W/2 przez maske przedstawiajaca japonski test roz¬ dzielczosci Ne 6. Czas wywolywania w 1,1,2,2- 45 -czterochloroetanie wynosi 30 sekund, czas na¬ swietlania po którym powstaje obraz wynosi 5 se¬ kund, zdolnosc rozdzielcza rzedu 1-2 mikrometrów.
Przyklad II. Postepuje sie analogicznie jak w przykladzie I z ta róznica, ze uzywa sie 13,68 g 50 2,2-biis(p-hydroksyfenylo)propanu i(0,06 mola) i 7,98 g bis(p-hydroksybenzylideno)acetonu (0,03 mola). Gra¬ niczna liczba lepkosciowa w l,l,2v2-czterochloro- etanie wynosi 1,61. Czas ekspozycji wynosi 2 se¬ kundy przy czasie wywolywania 30 sekund. Zdol- cc nosc rozdzielcza rzedu 1-2 mikrometrów. Wykonane 55 folie z tego poliestru maja wytrzymalosc na zerwa¬ nie 590 kG/cm2 przy wydluzeniu wzglednym 30%.
Folie te poddane dzialaniu swiatla slonecznego po 8 dniach staja sie nierozpuszczalne, a ich wytrzy¬ malosc na zerwanie wzrasta do 800 kG/cm2 przy wydluzeniu 2%.
Dodatek sensybilizatora, którym jest 1,2-benzan- tron w ilosci 10% wagowych zwieksza czulosc tego poliestru na dzialanie swiatla widzialnego i wzrost 65 wytrzymalosci na zerwanie nastepuje szybciej. 605 Przyklad III. Do reaktora zaopatrzonego w mieszadlo i chlodnice zwrotna wlewa sie roz¬ twór 16,416 g 2,2-bis(p-hydroksyfenylo)propanu (0,072 mola) i 4,788 g bis(p-hydroksybenzylideno)ace- tonu (0,018 mola) w 400 ml 1,2-dwuchloroetanu. Roz¬ twór ten ogrzewa sie do temperatury 80X1. Po calkowitym rozpuszczeniu do reaktora wlewa sie roztwór 9,09 g trójetyloaminy (0,09 mola) w 250 ml 1,2-dwuchloroetanu.
Zawartosc reaktora miesza sie wkraplajac w cia¬ gu 0;5 godziny roztwór 12,18 g chlorku tereftalilu (0,06 mola) i 6,09 g chlorku izoftalilu (0,03 mola) w 250 ml 1,2-dwuchloroetanu. Po wkropleniu mie¬ szanine reakcyjna miesza sie w ciagu 6 godzin, utrzymujac temperature 80°C. Poliester wytraca sie i suszy analogicznie jak w przykladzie I. Graniczna liczba lepkosciowa w 1,1,2,2-czterochloroetanie wy¬ nosi 1,2. Wytrzymalosc na zerwanie folii 510 kG/ /cm2 przy wydluzeniu wzglednym 20%. Czas eks¬ pozycji 9 sekund, przy czasie wywolywania w 1,1,2,2-czterochloroetanie 30 sekund.
Przyklad IV. Postepuje sie analogicznie jak w przykladzie I, z ta róznica, ze uzywa sie 22,86 g l,l-bis(p-hydroksyfenylo)-2,2,2-trójchloroetanu (0,072 mola) i 4,788 g bis (hydro,ksybenzy'lideno)acetonu (0,018 mola). Reakcje prowadzi sie w temperaturze 3—5°C. Graniczna liczba lepkosciowa w 1,1,2,2- -cz^erochiloroetanre wynosi 1,38. Wytrzymalosc na zerwanie folii 530 kG/cm2 przy wydluzeniu wzglednym 30%.
Przyklad V. Postepuje sie analogicznie jak w przykladzie I, z ta róznica, ze uzywa sie 16,416 g 2,2-bis(p-hydroksyfenylo) propanu (0,072 mola) i 5,868 g bis(2-metoksy-4-hydroksybenzylideno)ace- tonu (0,018 mola). Graniczna liczba lepkosciowa w 1,1,2,2-czterochloroetanie wynosi 1,70.
Wytrzymalosc na zerwanie folii wynosi 580 kG/ /cm2 przy wydluzeniu wzglednym 25%. Folie te poddane dzialaniu swiatla slonecznego po 9 dniach staja sie nierozpuszczalne, a ich wytrzymalosc na zerwanie wzrasta do 710 kG/cm2 przy wydluzeniu wzglednym 3%.
Przyklad VI. Postepuje sie analogicznie jak w przykladzie I, z ta róznica, ze uzywa sie 14,544 g eteru bis (p-hydroksyfenylu) 0,072 mola), i 4,788 g bis (ip-hydroksyfenylo)aceitonu (0,018 mola). Gra¬ niczna liczba lepkosciowa w 1,1,2,2-czterochloro¬ etanie wynosi 1,61. Wytrzymalosc folii na zerwanie 610 kG/2 przy wydluzeniu wzglednym 10%. 865 6

Claims (5)

Zastrzezenia patentowe
1. Sposób otrzymywania warstwotwróczych pro- mienioczulych poliestrów, znamienny tym, ze mie- 5 szanine bisfenoli nieswiatloczulych o wzorze ogól¬ nym 1, w którym Ar oznacza pierscien benzenowy, naftalenowy lub antracenowy, ewentualnie jedno lub wielokrotnie podstawiony atomami chlorowca* 10 i/lub rodnikiem alkilowym, i/lub rodnikiem ary- lowym, i/lub allilowym i/lub metoksylowym, Z oznacza dwuwartosciowy rodnik -CRR^, w któ¬ rym R i Ri moga byc jednakowe lub rózne i ozna¬ czaja atom wodoru, i/lub rodnik alkilowy, i/lub 15 chloroalkilowy, lub atom tlenu, lub grupe -S02-, przy czym znajdujace sie w zwiazku o wzorze ogólnym 1 pierscienie arylowe moga byc polaczone ze soba bezposrednio bez ugrupowania Z oraz bis- fenol o ogólnym wzorze 2, w którym X i Y ozna- 20 czaja atom wodoru i/lub grupe alkilowa i/lub grupe metoksylowa i/lub atom chlorowca a R2 oznacza ugrupowanie o wzorze 3 lub ugrupowanie o wzorze 4, w której stosunek bisfenoli nieswiatlo¬ czulych do bisfenoli swiatloczulych wynosi 99:1— 25 —20:80, poddaje sie reakcji z mieszanina chlorków tereftalilu i izoftalilu korzystnie w stosunku 4:1— —1*2, a wytworzona z tego poliestru powloka lub folia ulega sieciowaniu pod wplywem promienio¬ wania ultrafioletowego lub promieniowania wi- 30 dzialnego po uprzednim dodaniu do roztworu tego • poliestru sensybilizatora, który jednoczesnie po¬ woduje przyspieszenie sieciowania.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze reakcje polikondensacji prowadzi sie na granicy 35 faz lub w rozpuszczalniku.
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze reakcje polikondensacji na granicy faz prowadzi sie wobec soli amoniowych lub fosfoniowych lub sulfoniowych uzytych w ilosci 0,5—10% wagowych 40 w stosunku do ilosci bisfenoli.
4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze reakcje polikondensacji w rozpuszczalniku prowa-' dzi sie wobec amin - trzeciorzedowych, korzystnie trójetyloaminy w ilosci stechiometrycznej w sto¬ sunku do ilosci bisfenoli.
5. Sposób wedlug zastrz, 2, znamienny tym, ze stezenie skladników w fazie wodnej wynosi 0?03—0,35 mol/litr, a sttezenie skladników w fazie organicznej wynosi 0,03—0,6 mol/l.99 865 HO-/ [- H0- \r-Z-Ar- ¦OH WZ0R1 X 1 1 -O-CH 1 Y = R2 WZ0R2 CH — CO — CH WZÓR 3 —CH— CO — CH — WZORA LDA - Zaklad 2, zam. 2159/73 - 100 szt. Cena zl 45.—
PL18506875A 1975-11-28 1975-11-28 Sposob otrzymywania warstwotworczych promienioczulych poliestrow PL99865B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL18506875A PL99865B1 (pl) 1975-11-28 1975-11-28 Sposob otrzymywania warstwotworczych promienioczulych poliestrow

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL18506875A PL99865B1 (pl) 1975-11-28 1975-11-28 Sposob otrzymywania warstwotworczych promienioczulych poliestrow

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL99865B1 true PL99865B1 (pl) 1978-08-31

Family

ID=19974435

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL18506875A PL99865B1 (pl) 1975-11-28 1975-11-28 Sposob otrzymywania warstwotworczych promienioczulych poliestrow

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL99865B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR910008710B1 (ko) 보호층 또는 입체상의 제조방법
US3188210A (en) Naphthoquinone (1, 2)-diazide-sulfonic acid derivatives and process of producing printing plates therefrom
KR940007791B1 (ko) 접착 결합된 광구성성 폴리이미드 필름에 의한 부조상의 제조방법
JP2594057B2 (ja) ポリフエノール及びエポキシ化合物又はビニルエーテルをベースとするネガテイブホトレジスト
US2956878A (en) Photosensitive polymers and their applications in photography
CA1038546A (en) Photocurable electroconductive coating composition
CA2195014C (en) Positive photoactive compounds based on 2,6-dinitrobenzyl groups
JP4955210B2 (ja) 感光性反射防止膜
KR870000678B1 (ko) 음성포토레지스트 조성물
KR100278257B1 (ko) 양각 작용성 고해상 건조 필름 포토레지스트
US5124233A (en) Photoresist compositions
JPS5896654A (ja) 感光性シリコ−ン樹脂組成物
JP2003183362A (ja) ポリナフチレンの合成方法、感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品
WO1992004396A1 (en) Photogenerated conducting organic polymers
PL99865B1 (pl) Sposob otrzymywania warstwotworczych promienioczulych poliestrow
JP4541944B2 (ja) 感光性ポリイミド樹脂組成物
US3644118A (en) Polydiacrylyl photosensitive compositions
CN115151591B (zh) 组合物、固化物及固化物的制造方法
US6132930A (en) Negative photoresist composition
US3345171A (en) Photochemical insolubilization of polymers
CA1078839A (en) Photopolymerisable diepoxides
EP0073575B1 (en) Electrophotographic photosensitive material
CN115047715A (zh) 一种正性感光聚苯并恶唑树脂组合物、制备方法及其应用
CA1084517A (en) Photopolymerisable ketones
PL99909B1 (pl) Sposob wytwarzania chemoodpornych poliestrow zdolnych do sieciowania pod wplywem promieniowania i podwyzszonej temperatury