PL98004B1 - Sposob wytwarzania powlok galwanicznych stopu zelaza zawierajacego nikiel lub nikiel i kobalt - Google Patents

Sposob wytwarzania powlok galwanicznych stopu zelaza zawierajacego nikiel lub nikiel i kobalt Download PDF

Info

Publication number
PL98004B1
PL98004B1 PL1974175327A PL17532774A PL98004B1 PL 98004 B1 PL98004 B1 PL 98004B1 PL 1974175327 A PL1974175327 A PL 1974175327A PL 17532774 A PL17532774 A PL 17532774A PL 98004 B1 PL98004 B1 PL 98004B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
nickel
iron
cobalt
bath
sodium
Prior art date
Application number
PL1974175327A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL98004B1 publication Critical patent/PL98004B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/562Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób osadzania chemicznego stopów niklu z zelazem i stopów ni- 40 klu i kobaltu z zelazem, prowadzacy do otrzymy¬ wania dobrych pokryc galwanicznych zawieraja¬ cych zelazo i nikiel lub zelazo, kobalt i nikiel w szerokim zakresie stezen dodatków bez istotnego wytracania zasadowych soli zelazowych. 45 Sposób wedlug wynalazku polega na przepusz¬ czaniu pradu od anody do katody przez wodny roztwór platerujacy, zawierajacy co najmniej je¬ den zwiazek zelazawy, oraz co .najmniej jeden zwiazek niklu lub niklu i kobaltu dostarczajace 50 jony niklu, kobaltu i zelaza dla osadzania elektro¬ chemicznego stopów niklu lub niklu i kobaltu z zelazem oraz inne znane wspóldzialajace dodatki, przy czym do kapieli galwanicznej dodaje sie 2—60 gramów w litrze, co najmniej jednego zwia- 55 zku lub soli dostarczajacych anion glukoheptonia¬ nowy, w ciagu okresu wystarczajacego dla wytwo¬ rzenia dobrej metalicznej powloki galwanicznej na powierzchni katody.
Kapiele zawieraja skutecznie dzialajaca ilosc co 60 najimniej jednego przedstawiciela wybranego z grupy obejmujacej: wyblyszczacz pierwotny, wy¬ blyszczacz wtórny, (pomocniczy wyblyszczacz wtór¬ ny i srodek przeciwwzerowy.
W kafpieli stosowanej w sposobie wedlug wyna- 65 lazku czesc niklu mozna zastapic kobaltem W po¬ staci siarczanu kobaltu lub chlorku kobaltu w ce-. lu otrzymania potrójnego stopu Ni-Co-Fe. Z po¬ wodu stosunkowo wysokiej ceny kobaltu, dla ma¬ ksymalnej oplacalnosci operacji korzystnie jest jednak powlekac jedynie stopem Ni i Fe.
Pomimo,, ze znane jest osadzanie uzytkowych, dekoracyjnych i odpornych na korozje pokryc ko¬ baltowych, zawierajacych stosunkowo niskie, na przyklad ponizej 2?/o wagowych, zawartosci zela¬ za, usilowania zmierzajace do powlekania stopami kobaltowo-zelazowymi o 'znacznie wiekszej zawar¬ tosci zelaza nie byly dotad uwienczone powodze¬ niem,, zwlaszcza tam, gdzie byly pozadane pokry¬ cia matowe, póllsniace lub lsniace o grubosciach rzedu ogólnie stosowanego dla celów dekoracyj¬ nych lub dla ochrony przed korozja. Dla niektó¬ rych zastosowan uzytkowych, na przyklad w ce¬ lach magnetycznych lub elektronicznych, gdzie is¬ totne sa jedynie wlasnosci fizyczne pokrycia a wyglad nie ma zasadniczego znaczenia i gdzie po¬ nadto sa stosowane bardzo male grubosci warstwy, mozna z powodzeniem powlekac takimi stopami kobaltowo-zelazowymi o wyzszej zawartosci zelaza.
Ajnion glukohaptoniainowy mozna korzystnie do¬ dawac w postaci glukoheptonianu sodu. Material jest istosunkojwo czysty w postaci handlowej i po¬ winien miec postac drobnych krysztalków o bar¬ wie szarawobialej lub jasnokremowej. Mozna go równiez otrzymac w postaci ciemno zabarwionego roztworu soli sodowych glukoheptonianu i produ¬ któw ubocznych procesu wytwarzania, przy czym ta postac nie jest zalecana, poniewaz mozna z nia wprowadzic do kapieli niepozadane zanieczyszcze¬ nia organiczne, mogace niekorzystnie wplywac na wlasnosci (fizyczne powloki i na dzialanie kapieli.
Anion glukoheptynianowy mozna ponadto wpro¬ wadzac jako sól metalu alkalicznego, korzystnie sodowa, boroglukoheptoniamu, który równiez jest dostepny w formie krystalicznej, stosunkowo czy¬ stej soli sodowej i który w wyniku dodania' do kapieli daje aniony glukoheptonianowy i borano- wy, z których ten ostatni jest z reguly obecny w stosunkowo wysokich stezeniach i dodawany jako kwas borowy dla buforowania oraz w innych ce¬ lach. Gtlukoheptoniari mozna równiez dodawac w postaci soli innych oprócz sodu, zgodnych ze skla¬ dem kapieli kationów; na przyklad potasu, niklu, magnezu, litu.
Jesli pozadany jest stop niklu i zelaza, który nie musi byc lsniacy, ani dobrze wyrównany, lecz pelny i elastyczny dla celów inrxych niz dekoracyj¬ ne, mozna wyeliminowac stosowanie wyblyszcza- czy i dodawac jedynie srodek przeciwfwzerowy i zwiazek *siarkowoJtlenowy, korzystnie sacharyne.
Dla otrzymania blyszczacych, dobrze wyrówna¬ nych powlok stopowych mozna stosowac wybly- szczacze pierwotne, takie jak dwuetoksylowany 2- butiin-d,4-dliol lub dwiuipropoksylowany 2-butinJl,4- diol wraz z siarkowo-tlenowym wyblyszczaczem wtórnym, korzystnie sacharyna, wtórnym wybly¬ szczaczem pomocniczym i srodkiem przeciwwzero- wym. Jesli pelny polysk i /wyrównanie nie sa po¬ zadane, pokrycia o dosc dobrym polysku i wyrów¬ naniu mozna uzyskac stosujac jako wyblyszczacz98 004 pierwotny heterocykliczny zwiazek azotu, taki jak. bromek N-aUilochiinolinowy w ©tezeniu okolo 5—20 mg/l obok siarkowo-tlenowego wyblyszczacza wtó¬ rnego, wtórnego wyblyszczacza pomocniczego i os¬ rodka przeciwwzerowego.
Podlozami, na które mozna nanosic pokrycia sposobem wedlug wynalazku, 'moga byc metale lub stopy metali jakie zazwyczaj pokrywa sie galwa¬ nicznie i które stosuje sie w technice powlekania elektrochemicznego, takie jak nikiel, kobalt, stop niklu z kobaltem, miedz, cyna, mosiadz itd. Inne typowo podloze oparte na metalach, z których wy¬ twarza sie przedmioty poddawane powlekaniu mo¬ ze obejmowac zelazne takie jak stal, miedz, cyne i jej stopy, na przyklad z olowiem, stopy miedzi takie jak mosiadz, braz itd. cynk, zwlaszcza w postaci odlewów cisnieniowych, ma wszystkich z nich moga byc naniesione pokrycia z innych me¬ tali, takich jak miedz i inne. Podloza metaliczne moga miec powierzchnie wykanczane w rózny spo¬ sób, zaleznie od 'pozadanego ostatecznego wygladu, który z kolei zalezy od takicn czynników jak po¬ lysk, jaskrawosc, niwelacja, grubosc i innych wla¬ sciwosci powloki galwanicznej polozonej na tych podlozach.
Pod pojeciem wyblyszczacza pierwotnego rozu¬ mie sie tutaj zwiazki stosowane jako dodatki przy pokrywaniu, takie jak produkty reakcji zwia¬ zków epoksydowych z alkoholami a-hydroksyace- tyleniowymi, takie jak dwuetoksylowainy 2-butiin- -1,4-diol lub dwuipropoksyloiwany 2-butin-l„4Hdiol, inne pochodne acetylenowe, . zwiazki N^heterocy- kliczne, aktywine zwiazki siarki, barwniki i inne.
Szczególnymi przykladami takich dodatków sa: l,4-dwu^(/?-hydroksyetokiSy)-2Hbutin; l,4-dwu<(/?-hy- droksy-y-chloropnopoklsy/-2-butin; l>4-dwu//?, y- -qpoksypropoksy/-2nbutin; l,4-dwu//?-hydroksy-y- butenolksy/-2-foutin; l,4Hdwu/2'-hydroksy-4'^oksa- -6'-heptenoksy/-2-butin; chlorek' N-/l,2-dwuchloro- propenylo/pirydyniowy, bromek 2,4,6Htrójmetylo-N- ^propargilopirydyniowy, bromek N-alkilochinaldy- niowy, bromek N-allilochinoliniowy,' 2-ibutin-l,4- ndiol, alkohol propargilowy, 2Hmetylo-3-butin-2-ol, tiodwupropionitryl o wzorze 1, tiomocznik, fenosa- franina i fuksyna.
Przy uzyciu pojedynczo lub w kombinacji, wy- blyszczacz pierwotny moze nie wywolac efektu widocznego na powloce galwanicznej lub moze do¬ prowadzic do otrzymania powlok póllsniacych, drobnoziarnistych. Najlepsze jednak rezultaty osia¬ ga sie przy uzyciu wyblyszczaczy pierwoitnych wraz z wyglyszczaczem wtórnym^ z pomocniczym wy- blyszczaczem wtórnym lub obydwoma, co prowa¬ dzi do uzyskania optimum polysku powloki, szyb¬ kosci wyblyszczania, wyrównywania zakresu ge¬ stosci pradowej odpowiadajacej pokrywaniu po¬ lyskowemu, niskiej gestosci pradu.
Pod pojeciem wyblyszczacza wtórnego rozumie sie tutaj sulfoniany aromatyczne, sulfonamidy, sul- fonimidy, sulfiniany i inne. Szczególnymi przykla¬ dami takich dodatków sa: sacharyna, 1,3,6-nafta- lenotrójsulfomiain sodu, benzenosulfoniain sodu, dwu- benzosulfonimid, benzenosulfinian sodu. Dodatki te, które mozna stosowac pojedynczo lub w odpo¬ wiednich kombinacjach, maja spelniac jedna lub wiecej z ponizszych funkcji: — otrzymanie póllsniacych powlok lub uzyska¬ nie istotnego rozdrobnienia ziarna w porównaniu ze zmetnialymi, matowymi, ziarnistymi, nie. od¬ bijajacymi pokryciami uzyskiwanymi zazwyczaj z kapieli bez dodatków, — dzialanie jako srodki uplastyczniajace przy za¬ stosowaniu w kombinacji z innymi dodatkami, ta- kimi jak wyblyszczacze pierwotne, — regulowanie wewnetrznych naprezen w powlo¬ kach, najczesciej przez doprowadzenie naprezenia do pozadaneij scisliwosci; — wprowadzenie okreslonej ilosci siarki do po- wloki galwanicznej dla wplyniecia w pozadanym kierunku na reaktywnosc chemiczna, róznice po¬ tencjalów w zlozonych ukladach kryjacych itp., a przez to ograniczanie korozji, lepsza ochrona metalu podloza przed korozja itp.
Pod pojeciem pomocniczego wyblyszczacza wtór¬ nego rozumie sie tutaj alifatyczne lub aromaty¬ czno-alifatyczne, olefinowo lub acetylenowo niena¬ sycone sulfonamidy, sulfonimidy itd. Szczególny¬ mi przykladami takich dodatków sa: allilosulfonian sodu, 3-chlOTO-2-Jbuteino-l-sulfonian sodu, /?-styre- nosulfonian sodu, propargilosultfonian" sodu, jedno- allilosulfomid H2N-SO2-NH-CH2CH= CH2, dwual- lilosulfomid o wzorze 2,, alliloisulfamid. Takie zwiaz¬ ki, które mozna stosowac najczesciej pojedynczo lub w kombinacjach,, spelniaja wszystkie funkcje podane dla wyblyszczaczy wtórnych, a ponadto moga spelniac jedno lub wiecej z powyzszych za¬ dan: — moga zapobiegac lub ograniczac do minimum powstawanie wzrów, prawdopodobnie dzialajac ja¬ ko akceptory wodoru, — moga wspóldzialac z jednym lub wiecej wybly¬ szczaczy pierwotnych umozliwiajac uzyskanie o wie¬ le lepszych szybkosci wyblyszczania i niwelowania 40 niz byloby to mozliwe przy uzyciu jednego lub dowolnych dwóch zwiazków sposród wszystkich trzech klas: wyblyszczaczy pierwotnych, wyblysz¬ czaczy wtórnych oraz pomocniczych wyblyszczaczy wtórnych uzytych pojedynczo, lub w kombinacji, 43 — moga wplywac na powierzchnie katody przez zatruwanie katalityczne itp. tak, ze szybkosci zu¬ zywania dodatków wspóldzialajacych, zazwyczaj typu wyblyszczacza pierwotnego, moga byc w istot¬ nym stopniu ograniczone, co wplywa na poprawe 50 ekonomiki procesu.
Do pomocniczych wyblyszczaczy wtórnych mozna równiez zaliczyc jony lub zwiazki niektórych me¬ tali lub metaloidów, takich jak cynk, kadm, se¬ len itd., które mimo, ze nie sa obecnie powszech- 55 nie stosowanerbyly uzywane w celu poprawienia polysku powloki itp. Innymi wspóldzialajacymi do¬ datkami natury organicznej, które moga byc przy¬ datne, sa zwiazki typu hydroksyfonlainów wedlug opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Ame- 60 ryki nr 3 697 391, to jest na przyklad dwuslarczan sodowo-formaldehydowy, którego dzialanie polega na poprawieniu tolerancji kapieli w stosunku do stezenia wyblyszczacza pierwotnego, zwiekszaniu tolerancji wzgledem zanieczyszczen metalicznych 65 takich,, jak cynk itd.7 98 004 8 Pcd pojeciem srodka przeciwwzerowego rozumie sie tutaj substancje rózniaca sie od wtórnego wy¬ blyszezacza pomocniczego i bedaca jego uzupelnie¬ niem, której zadaniem jest zapobieganie wzerom gazowym lub ograniczanie ich do minimum. Sro¬ dek przeciwzerowy moze równiez poprawic zgod¬ nosc kapieli z zanieczyszczeniami takimi jak olej, smar itp. przez ich emulgowanie, dyspergowanie, solubilizowainie i tym podobne dzialanie na te za¬ nieczyszczenia i stad Ulatwiac uzyskanie bardziej zdrowego pokrycia. Srodki przeciwwzerowe sa do¬ datkami z wyboru, które moga byc lub nie byc uzywane w kombinacji z jednym lub wiecej przed¬ stawicieli grupy obejmujacej wyblyszczacz pier¬ wotny, wyblyszczac z wtórny i pomocniczy wybly¬ szczacz wtórny. Zalecane srodiki przeciwwzerowe moga obejmowac laurylasiarezan sodu, siarczan ok- syetylowanego alkoholu laurylowego i sole sodo¬ we sulfoibursztyniainów dwiualkilowych.
Ponizej zestawiono" typowe sklady kapieli za¬ wierajacych nikiel f zelazo oiraz nikiel, kobalt i ze¬ lazo, które moga byc uzyte wraz ze skutecznie dzia¬ lajacymi ilosciami opasanych tu dodatków: okolo 0(,GG5—0,2 grama w litrze wyblyszezacza pierwot¬ nego, okolo ,1,0—3i0 gramów w litrze wyblyszezacza wtórnego, okolo 0,5—10 gramów w litrze pomoc¬ niczego wyblyszezacza wtórnego i okolo 0,05 — 1 grama w litrze srodka przeciwwzerowego. Moz¬ na równiez stosowac kombinacje wyblyszczaczy pierwotnych d wtórnych o stezeniach przedstawi¬ cieli kazdej z klas pozostajacych w typowych usta¬ lonych granicach.
Do tyipowych, zawierajacych nikiel, wodnych ka¬ pieli do powlekania galwanicznego, któire moga byc stosowane ze skutecznymi ilosciami .wspóldzialaja¬ cych f dodatków, naleza przedstawione ponizej, wszystkie stezenia sa w nich wyrazone w gramach w litrze (g/l), jesli nie zaznaczono inaczej. iSole do isporzadzania kapieli sa typu ogólnie sto¬ sowanych przy powlekaniu niklem i kobaltem, to znaczy sa to siarczany i chlorki, a zazwyczaj ich kombinacje. Zelazo dwuwarto>sciowe mozna doda¬ wac jako siarczan zelazawy, chlorek zelazawy lub amidosulfoinian zelazawy, korzystnie jako siarczan, który jest latwo dostepny po niskiej cenie i w do¬ brym stopniu czystosci, jako FeS04. 7H20.
Tablica 1 Wodne kapiele do powlekania galwanicznego, za¬ wierajace nikiel Skladnik Siarczan niklu chlorek niklu siarczan zelazawy kwas borowy wartosc pH (elektro- metrycznie) Mini¬ mum '200 3 Maksi¬ mum 500 80 i80 55 Korzy¬ stnie 300 ' 45 40 45 |4 • Typowa kapiel amidosulfonianowa do niklowa¬ nia, która mozna stosowac w sposobie wedlug wynalazku, imoze zawierac nastepujace skladniki: Tablica 2 Skladnik amidoisulfonian niklu chloreik niklu amidosiulfonian ze¬ lazawy kwas borowy wartosc pH (elek- trometrycznie) Mini¬ mum 330 . 3 Maksi¬ mum 400 60 80 55 Korzy¬ stnie 375 45 40 45 4 Typowa kapiel siarczanowa do niklowania nie zawierajaca chlorków, która mozna stosowac w sposobie wedlug wynalazku, moze zawierac na¬ stepujace skladniki: Tablica 3 Skladnik siarczanu niklu siarczan zelazawy kwas borowy wartosc pH (elek- 1 trometrycznie) Mjaksi- mum 500 80 55 4 Mini¬ mum 3-00 2,,5 Korzy¬ stnie 400 40 45 3-3,5 Typowa kapiel amidosulfonianowa nie zawiera¬ jaca chlorków,, która mozna stosowac w sposobie wedlug wynalazku, moze zawierac nastepujace skladniki: Tablica 4 Skladnik amidoisulfonian niklu aimidoHsulfonian ze¬ lazawy kwas borowy wairtosc pH (elek- trounetrycznie) NMdirui- mium 300 1 '¦ 5 2,5 Maksi¬ mum 400 80 !55 • 4 Korzy¬ stnie 350 40 • 45 3-3,5 Powyzsze kapiele moga zawierac skladniki w ilosciach wychodzacych poza zalecane minimum i maksimum, lecz najbardziej zadowalajace i eko¬ nomiczne dzialanie mozna osiagnac wówczas, gdy zwiazki sa obecne w kapieli we /wskazanych ilos¬ ciach. Szczególna zaleta bezchlorkowych kapieli przedstawionych w tablicach 3 i 4 jest moznosc otrzymania powlok zasadniczo wolnych od napre¬ zen oraz fakt, ze moga one umozliwic pokrywanie szybkosciowe z uzyciem anod szybkosciowych.
Ponizej podano sklad wodnej kapieli kobaltowo- niklowo-zelazowej do powlekania galwanicznego, 40 45 50 55 GO9 w której kombinacja skutecznych ilosci jednego lub wiecej wspóldzialajacych dodatków wedlug wyna¬ lazku prowadzi do korzystnych wyników.
Tablica 5 Wodna kapiel kobaltowo-niklowo-zelazowa do po¬ wlekania galwanicznego, wszystkie stezenia w g/l.
Mieszana kapiel kobaltowonniklowa NiS04 • 7H20 C01SO4 • 7H2Q NiCl2 • 6H^O H9BO3 Mlaksi- 'mum 400 225 v75 50 Mini- !mum 20i0 .. 15 37 Korzy¬ stnie 300 80 60 45 Siarczan zelazawy FeSO* 7H20 jest obecny w powyzszej kapieli w stezeniu okolo 5^80 g/l.
Wartosc pH przedstawionych dla przykladu wod¬ nych kompozycji zawierajacych zelazo i nikiel oraz nikiel, kobalt i zelazo mozna utrzymywac przy platerowaniu w granicach 2,0—4,0 a korzystnie od 3,0 do 3,6. Podczas procesu pH moze jak zwykle wykazywac tendencje do wzrostu i mozna je re¬ gulowac kwasami takimi jak kwas solny, kwas siarkowy i inne.
Zakres temperatur roboczych dla powyzszych kapieli moze lezec w granicach okolo 30—70QC, korzystnie w zakresie 45—60°C.
Mieszanie powyzszych kapieli w czasie piracy moze obejmowac pompowanie roztworu, porusza¬ nie pretem katody, mieszanie powietrzem lub kom¬ binacje tych sposobów.
Anody stosowane w powyzszych kapielach mo¬ ga byc wykonane z poszczególnych pojedynczych metali nanoszonych przy katodzie takich jak ze¬ lazo i nikiel dla powlekania niklowo-zelazowego lub nikiel, kobalt i zelazo dla powlekania niklowo- -kóbaltowo-zelazowego. Anody moga skladac sie z oddzielonych metali zawieszonych odpowiednio w kapieli w postaci pretów, pasków lub malych brylek w koszykach tytanowych. W takich przy¬ padkach stosunek powierzchni poszczególnych me¬ tali anody jest dostosowany do pozadanego skla¬ du mieszaniny katodowej. Dla pokrywania stopami podwójnymi lub potrójnymi mozna równiez stoso¬ wac jako anody stopy odpowiedniieh metali o u- dziale procentowym poszczególnych metali odpo¬ wiadajacym udzialowi procentowemu tych samych metali w pozadanym pokryciu stopowym na ka¬ todzie. Te dwa rodzaje ukladów anodowych umo¬ zliwiaja z reguly utrzymanie wystarczajaco stale¬ go stezenia jenów odpowiednich metali w kapieli.
Jesli przy ustalonym stosunku metali w stopie anodowymi wystepuje pewne niezrównowazenie bi¬ lansu jenów metali w kapieli, mozna wprowadzac okresowe poprawki przez dodawanie odpowied¬ nich korekcyjnych ilosci soli poszczególnych me¬ tali. Wszystkie anody lub koszyki anodowe sa zwy¬ kle odpowiednio pokryte tkanina lub workami z tworzywa sztucznego o pozadanej porowatosci w celu ograniczenia do minimum mozliwosci wpro¬ wadzenia do kapieli czastek metalu, szlamu anado- wego itd., które moglyby migrowac do katody w 1004 sposób mechaniczny lub na skutek elektroforezy, powodujac szorstkosc powloki katodowej.
.Ponizsze przyklady ilustruja wynalazek, nie og¬ raniczajac jego zakresu.
Przyklad I. Kapiel niklowo-zelazowa do po¬ wlekania galwanicznego sporzadza sie przez po¬ laczenie w wodzie nastepujacych skladników dla uzyskania wskazanych stezen: siarczanniklu 300 g/l chlorekniklu 60 g/l kwasborowy . 45 g/l siarczan zelazawy '60 g/l , sacharynian sodu (0,6 H20) 4,0 g/l allilosulfoniansodu 2,3 g/l diwuetoksylowainy 2-ibutiin-l,4~diol 50 mg/l sól sodowa sulfobursztyniamu dwu-n- -heksylowego 0,25 g/1-*', sól Roichelle (KNaC4H406 • 4H20) 60 g/1 wartoscpH 3,8 Polerowana plytke mosiezna zarysowuje sie po¬ jedynczym przeciagnieciem papierem sciernym, o ziarnie 2/0 w celu uzyskania paska o szerokosci ckolo 1 cm w odleglosci okolo 2,5 cm od dolu. Po oczyszczeniu plytki, obejmujacym wstepna kapiel w rozcienczonym cyjanku miedzi dla uzyskania do¬ skonalej czystosci chemicznej i fizycznej, powleka sie ja w elektrolizerze Hulla o pojemnosci 267 ml w ciagu HO minut przy pradzie 2A, przy tempera- . turze 50°C i mieszaniu magnetycznym. Powloka w elektrolizerze Hulla jest blyszczaca i zupelnie do¬ brze 'zniwelowana przy dosc niskiej gestosci pra¬ du, na zagieciu przy brzegu o wysokiej gestosci pradu wystepuje luszczenie powloki.
Po dodaniu o 20 g/l wiecej siarczanu zelazawego otrzymuje sie blyszczaca powloke z dwoma duzy¬ mi, plamistymi, zamglonymi obszarami o malej grubosci. 40 Przyklad II. Powtarza sie przyklad I stosu¬ jac 6:0 g/l jedlnowodnego cytrynianu potasu .w miej- f sce soli Rochelle. Powloka jest na ogól blyszczaca, jednak ma dwav daze, rozrzucone prazkowane i zamglone obszary o malej grubosci. 45 Po dodaniu o 20 g/l wiecej siarczanu zelazawe¬ go otrzymuje sie slaba, plamista, prazkowana, zam¬ glona i zmejtniala powloke.
Przyklad III. Powtarza sie przyklad I sto¬ sujac 60 g/l glukonianu sodu w miejsce soli Ro¬ bo chelle. Otrzymuje sie niejednorodnie zmatowiona powloke o slabym wyrównaniu.
Po dodaniu o 20 g/l wiecej siarczanu zelazawe¬ go otrzymuje sie niejednorodnie zmetniala i pla¬ mista powloke z samoistnym pekaniem w koncu 95 przy wysokiej gestosci pradu.
Przyklad IV. Powtarza sie przyklad I stosu¬ jac 10 g/l glukoheptonianu sodu zamiast soli Ro¬ chelle. Otrzymuje sie blyszczaca, zupelnie dobrze zniwelowana, elastyczna powloke o dobrym pokry- 60 ciu przy niskiej gestosci pradu. Po zwiekszeniu stezenia siarczanu zelazawego do 80 g/l otrzymuje sie lsniaca, zupelnie dobrze zniwelowana powloke o dobrej elastycznosci i dobrym pokryciu przy ni¬ skiej gestosci pradu. 65 Przyklad V. Powtarza sie przyklad IV sto-11 98 004 12 sujac kapiel wysoikochlorkowa o nastepujacym skladzie, przy\ tych samych stezeniach dodatków i zawartosci 40 g/l siarczanu zelazawego: siarczan niklu 150 g/l chlorek niklu ' 150 g/l kwas borowy 45 g/l Otrzymuje sie blyszczaca, zupelnie dobrze zniwe¬ lowana powloke o dobrym pokryciu przy niskiej gestosci pradu i o dobrej elastycznosci.
Przyklad VI. Przeprowadza sie próbe dlu¬ gotrwala w 4 litrach kapieli z przykladu IV, sto¬ sujac dodatek swiezego siarczanu zelazawego w ilosci 40 g/l i nastepujace warunki: Komora do galwanizacji — prostopadloscian o pojemnosci 5 litrów o przekroju 1i3-XiU5 cm, wykonany ze szkla Pyrex.
Objetosc roztworu — 4 litry, co daje glebokosc roztworu, bez anody, okolo 20,5 cm.
Temperatura 55°C, utrzymywana przez zanurze¬ nie komory w termostatowanej, lazni wodnej.
Mieszanie — przez poruszanie preta anody.
Anoda — dwa .koszycki wylkonane z tytanu, z któ¬ rych jeden zawiera nikiel elektrolityczny a drugi zelazo Armco Iron. Koszyk anodowy z niklem za¬ wiera okolo 1200 g niklu elektrolitycznego, a ko¬ szyk iz zelazem okolo 226 g ulozonych arkuszy Armco Iron przy przyblizonym istosunku powierz¬ chni anody niklowej do anody zelazowej jak oko¬ lo10:1. I Katoda — pasek mosiezny o wymiarach 2„54X „3 cm, X O^OTl cm,, wygladzony i polerowany po jednej stronie i zanurzony do glebokosci okolo 17,i8 cm, zagiety poziomo 2,54 cm od dolu i nastep¬ ne 2,54 cm do otrzymania wewnetrznego kata oko¬ lo 45° na polerowanej stronie katody, zwrócony polerowana strona do anody odleglej o okolo 10,2 cm i zarysowany pionowo posrodku na szerokosc 1 cm pojedynczym przeciagnieciem papieru sciernego o ziarnie 2/0.
Prad elektrolizera — 5,0 A Czas — roztwory poddaje sie elektrolizie w ciagu 7 godzin dziennie, rózne katody powleka sie w ciagu 30 /minut dla oceny stopnia zniwelowania, jednorodnoscia elastycznosci i polysku pokrycia zarówno ogólnie jak i w obszarze niskiej gestosci pradu.
Filtracja — okresowa.
Dodatiki — okresowo, w razie potrzeby koryguje sie rozcienczonym kwasem siarkowym wartosci pH w granicach 3,^0 — 3,5 przy pomiarze elektrome¬ dycznym; okresowo dodaje sie uzupelniajace ilos¬ ci wyblyszczaczy: pierwotnego i wtórnego pomoc¬ niczego dla utrzymania polysku i wyrównania po¬ wloki. Zawartosc jonu zelazawego w kapieli utrzy¬ muje sie przy systemie rozdzielnej anody z niklu i z Armco Iron w umieszczonych w workach ko¬ szykach tytanowych przez dodatkowe, korekcyjne dodatiki siarczanu zelazawego, dokonywane na pod¬ stawie oznaczen jonu zelazawego, dla utrzymania zawartosci jonów niklu i zelaza w kapieli na mo¬ zliwie stalym poziomie, Dla serii zgietych katod otrzymuje sie blyszcza¬ ce, elastyczne, dobrze wyrównane pokrycia ze sto¬ pu nilklu z zelazem, zawierajace srednio okolo 40°/o wagowych zelaza. Lacznie pokryto 436 gra¬ mami stopu podczas okolo 400 amperogodzin elek¬ trolizy przy pradzie elektrolizera okolo 5 A. Lat¬ wo utrzymuje sie polysk, dobre zniwelowanie i ela¬ stycznosc oraz niskie naprezenia pokryc.
Przy gwaltownym mieszaniu powietrzem, pH 3,0 — 3,5 temperatura 55°C i stezeniu siarczanu zelazawego okolo 60 g/l sa parametrami optymal¬ nymi, przy których uzyskuje sie maksymalne ste¬ zenie 40°/o zelaza w powloce. Nie obserwuje sie istotnego ciemnienia roztworu, worki anodowe po¬ zostaja czyste; i nie pokryte zasadowymi solami zelazowymi, nie wykrywa sie równiez zawiesiny zasadowych soli zelazowych w kapieli. Zawartosc kapieli uzupelnia sie odpowiednio w czasie elektro¬ lizy niklem i Armco Iron w odpowiednich koszy¬ kach tytanowych, z zachowaniem stosunku po¬ wierzchni jak 10 : 1. Uzupelnia sie równiez okreso¬ wo wyblyszczacze: pierwotny i wtórny pomocniczy.
Z a1 s tr z' e zie n ,i| a patentowe 1. Sposób wytwarzania powlok galwanicznych stoipu zelaza zawierajacego nikiel lub nikiel i ko¬ balt, obejmujacy przepuszczanie pradu od anody do katody przez wodny, kwasny roztwór plateru¬ jacy zawierajacy, co najmniej jeden zwiazek ze¬ lazawy i co najmniej jeden zwiazek niklu lub kombinacje zwiazków niklu i kobaltu, dostarczaja¬ ce jony dla powlekania galwanicznego stopem ni¬ klu i zelaza lub niklu, kobaltu i zelaza oraz inne znane wspóldzialajace dodatki, znamienny tym, ze do roztworu platerujacego dodaje sie co najmniej jeden zwiazek lub sól,, które dostarczaja anion glu- koheptanianowy, w stezeniu 2—50 gramów w li¬ trze. 2. Sposób wedlug zastrz. \ znamienny tym, ze jako zwiazki niklu stosuje sie siarczan niklu i chlorek niklu. 3. Sposób wedlug zastrz. ,1, znamienny tym, ze jako zwiazki niklu stosuje sie amidoisulfonian ni¬ klu i chlorek niklu. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako 'zwiaziki kobaltu stosuje sie siarczan kobaltu i chlorek kobaltu. 6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako zwiazki kobaltu stosuje sie amidosulfonian kobaltu i chlorek kobaltu. 6. Sjposób wedlug zastrz. li, znamienny tym, ze jako zwiazek zelazawy stosuje sie siarczan zela¬ zawy, chlorek zelazawy lub amidosulfonian zela¬ zawy. 7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako wspóldzialajace dodatki stosuje sie sachary- nian sodu, allilosulfonian sodu, l,4^dwu/^-hydro- ksyetoiksy/-24>utin i lauryloisiarczan sodu. 8. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako wspóldzialajace dodatki stosuje sie sachary- nian sodu, allilosulfonian sodu, l,,4-diwu/^4iydroK- s^rqpoksy/-2-butin ; Jauirylosiarezan §qicIu, 39 40 45 50 55 4598 004 CH2CH2CN CH2CH2CN Wzór 1 o2s / \ NH-Allil NH -Allil Wzór 2
PL1974175327A 1973-11-05 1974-11-04 Sposob wytwarzania powlok galwanicznych stopu zelaza zawierajacego nikiel lub nikiel i kobalt PL98004B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US41253473A 1973-11-05 1973-11-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL98004B1 true PL98004B1 (pl) 1978-04-29

Family

ID=23633387

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1974175327A PL98004B1 (pl) 1973-11-05 1974-11-04 Sposob wytwarzania powlok galwanicznych stopu zelaza zawierajacego nikiel lub nikiel i kobalt

Country Status (15)

Country Link
JP (1) JPS5075532A (pl)
BE (1) BE821841A (pl)
CH (1) CH613724A5 (pl)
CS (1) CS187432B2 (pl)
DE (1) DE2450133A1 (pl)
DK (1) DK572574A (pl)
ES (1) ES431419A1 (pl)
FR (1) FR2249978B1 (pl)
GB (1) GB1435267A (pl)
IT (1) IT1028538B (pl)
NL (1) NL7414422A (pl)
NO (1) NO137760C (pl)
PL (1) PL98004B1 (pl)
SE (1) SE7413819L (pl)
ZA (1) ZA746191B (pl)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2320996A1 (fr) * 1975-08-13 1977-03-11 Nickel Sln Ste Metallurg Le Procede pour l'electrodeposition d'alliage fer-nickel
CA1069850A (en) * 1975-12-04 1980-01-15 Mcgean Chemical Company Low temperature bright nickel and bright nickel alloy plating
WO1979000608A1 (en) * 1978-02-09 1979-08-23 Kemwell Ltd Electrotreating a metal surface
US4179343A (en) * 1979-02-12 1979-12-18 Oxy Metal Industries Corporation Electroplating bath and process for producing bright, high-leveling nickel iron electrodeposits
US4439284A (en) * 1980-06-17 1984-03-27 Rockwell International Corporation Composition control of electrodeposited nickel-cobalt alloys
CA1193223A (en) * 1981-01-13 1985-09-10 Omi International Corporation Bright nickel-iron alloy electroplating bath and process
DE3108466C2 (de) * 1981-03-06 1983-05-26 Langbein-Pfanhauser Werke Ag, 4040 Neuss Verwendung eines Acetylenalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung
US6372118B1 (en) * 1999-04-12 2002-04-16 Wen Hua Hui Ni-Fe-Co electroplating bath

Also Published As

Publication number Publication date
IT1028538B (it) 1979-02-10
SE7413819L (pl) 1975-05-06
ZA746191B (en) 1975-11-26
NO137760B (no) 1978-01-09
BE821841A (fr) 1975-03-03
CS187432B2 (en) 1979-01-31
NO137760C (no) 1978-04-19
CH613724A5 (en) 1979-10-15
FR2249978B1 (pl) 1979-04-27
DK572574A (pl) 1975-07-14
JPS5075532A (pl) 1975-06-20
FR2249978A1 (pl) 1975-05-30
ES431419A1 (es) 1976-10-16
GB1435267A (en) 1976-05-12
DE2450133A1 (de) 1975-05-07
NL7414422A (nl) 1975-05-07
NO743919L (pl) 1975-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI550138B (zh) 用於製備暗鉻層之電鍍浴及方法
JP2001500195A (ja) ニッケル―燐合金皮膜の電気めっき
US20110308959A1 (en) Process for the deposition of platinum-rhodium layers having improved whiteness
JP2011520037A (ja) 改良された銅−錫電解液及び青銅層の析出方法
CN104040033B (zh) 电解液及其用于沉积黑钌镀层的用途及以此方式获得的镀层
JPH0338351B2 (pl)
US3804726A (en) Electroplating processes and compositions
JPS608315B2 (ja) 錫・金電気メッキ水性浴
US20060257683A1 (en) Stainless steel electrolytic coating
PL98004B1 (pl) Sposob wytwarzania powlok galwanicznych stopu zelaza zawierajacego nikiel lub nikiel i kobalt
CN102216536A (zh) 具有抵抗性涂层的不锈钢卫生洁具
CA1083078A (en) Alloy plating
JPH06104914B2 (ja) 地色ないし光沢のある銅・スズ合金被膜を電着させるためのアルカリ性シアン化物浴
US4189358A (en) Electrodeposition of ruthenium-iridium alloy
CA1134775A (en) Acid zinc electroplating process and composition
JPS6141999B2 (pl)
JPS599637B2 (ja) ニツケル コバルトマタハ ニツケルト コバルトノテツゴウキンデンチヤクホウ
US3206383A (en) Electrolyte for use in the galvanic deposition of bright leveling nickel coatings
NO147994B (no) Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten
PL110465B1 (en) Method of electrolytic deposition of ferrous alloys with nickel and/or cobalt
NO784204L (no) Fremgangsmaate til fremstilling av blanke elektrolytiske zinkutfellinger og vandig, surt pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten
JPS5921394B2 (ja) 鉄合金めっき水溶液
US4138294A (en) Acid zinc electroplating process and composition
JPH1060683A (ja) 電気めっき三元系亜鉛合金とその方法
US3972788A (en) Zinc anode benefaction