Przedmiotem wynalazku jest sposób galwanicz¬ nego cynowania elementów metalowych z zastoso¬ waniem anody nierozpuszczalnej w kapieli galwa¬ nicznej.W -galwanicznym cynowaniu wyrebów metalo¬ wych na skale przemyslowa, znane sa sposoby wykorzystania kapieli kwasnych takich jak siar¬ czan cynawy, chlorek cynaiwy i borofluorek cyna- wy oraz kapieli alkalicznych, takich jak cynian so¬ dowy i cynian potasowy. Zarówno w przypadku ka¬ pieli kwasnych jak i alkalicznych jako anode sto¬ sowano metaliczna cyne, a jako katode przezna¬ czony do metalizacji wyrób. Miedzy anoda i ka¬ toda przepuszczano prad staly talk, ze jony cyny w kapieli redukowaly sie do metalicznej cyny, która bezposrednio osadzala sie na katodzie. Z dru¬ giej strony straty jonów cyny wyrównywane byly przez anodowe rozpuszczanie anody z metalicznej cyny. Z tego wzgledu stosowano anode rozpuszczal¬ na.Zaleta stosowania anody cynowej rozpuszczalnej w kapieli elektrolitycznej jest to, ze straty jonóW cyny w kapieli, kttóre moglyby towarzyszyc meta¬ lizacji, sa automatycznie kompensowane. Sposób ten jednak nie jest pozbawiony pewnych wad.Po pierwsze wydajnosc pradowa na katodzie jest zawsze nizsza niz na anodzie, czego wynikiem jest nadmiernie doprowadzanie jonów cyny, a w efek¬ cie zwiekszenie ich stezenia w kapieli. W przy¬ padku, gdy przy galwanizacji pragnie sie uzyskac gladka powierzchnie, stezenie jonów cyny w kapieli powinno byc tak regulowane, aby utrzymywalo sie w okreslonych granicach. Nadmiar jonów cyny musi byc usuwany z ukladu. Odprowadzanie roz¬ tworu galwanicznego powoduje jednak z jednej strony strate kosztownego materialu, jakim jest cyna, a z drugiej strony zanieczyszczanie srodo¬ wiska.Po drugie rozpuszczalna anoda zuzywa sie i w efekcie stopniowo w miare przebiegu procesu me¬ talizacji deformuje sie. Powoduje to systematyczna zmiane odleglosci miedzy obydwoma elektrodami, co utrudnia utrzymywanie równomiernego rozkla¬ du galwanizujacego metalu na calej pokrywanej powierzchni. Z tego wzgledu niezbedne bylo cze¬ ste regulowanie odleglosci miedzy elektrodami w czasie pracy. Ponadto taka rozpuszczalna w kapieli elektrode cynowa nalezalo po osiagnieciu pewmego stopnia zuzycia regenerowac. Jednaj koszt pracy zuzytej na odlanie nowej anody cynowej i zasta¬ pienie nia elektrody zuzytej byl niemaly. Jest on znaczny, zwlaszcza w przypadku, gdy cyne zuzy¬ wa sie z duza szybkoscia co ma miejsce na przy¬ klad przy cynowaniu tasmy stalowej w procesie ciaglym.Po trzecie, w przypadku rozpuszozalnydh anod cynowych, które zwykle dzielone sa na szereg cze- sci dla ulatwienia nastawienia odleglosci miedzy 95 746( V k V .v 3 elektrodowych i wymiany elektrod na nowe, wy¬ stepowala tendencja do powstawania niejednako¬ wych gestosci pradu miedzy elektrodami ze wzgle¬ du na rózne opornosci styków w punktach zasila¬ nia pradowego. W takim przypadku wyroby przez¬ naczone do metalizacji galwanizowane byly nie¬ równomiernie i byly bez polysku, a anoda, w któ¬ rej gestosc pradu byla nadmiernie duza, polaryzo¬ wala sie tak silnie, ze na jej powierzchni tworzy¬ la sie blona tlenkowa i napiecie moglo gwaltow- nie wzrosnac. Czasami uformowane blony powloko¬ we zluszczaly sie i plywaly w roztworze a po po¬ nownym osadzeniu na powierzchni nadawaly jej brudny.wyglad.I A 1 flj&t-f wyeSJftnowiania tych wad zaczeto sto¬ powac zamiasT *aifod rozpuszczalnych w kapieli, i anody nierozpuszczalne. Jednak ze wzgledów po- | jlSM^fllrtrteffatastofcowanie nierozpuszczalnych anod ^l;^^f}?1^^|^rf^njpvri nwan ia wprowadzano jedynie czesciowo i czasowo. Ponadto w zastosowaniach tych nie udalo sie usunac wiekszosci wad przed¬ stawionych wyzej, chociaz ilosc wytraconej cyny mogla byc bilansowana iloscia cyny wprowadza¬ nej.Nieoczekiwanie okazalo sie, ze mozliwe jest nie¬ ograniczone stosowanie nierozpuszczalnej anody i ze problemy wystepujace w znanych sposobach galwanicznego cynowania takie, jak nierównomier¬ ny rozklad nakladanego metalu, zly polysk wywo¬ lany nierównomierna gestoscia pradu, wytwarza¬ nie szlamu na anodzie, zly,wyglad wywolany przy¬ czepnoscia szlamu oraz wzrost napiecia moga byc calkowicie rozwiazane. Rozwiazano równiez inne problemy zwiazane z róznymi czynnosciami przy wytwarzaniu, ustawianiu i wymianie rozpuszczal¬ nych elektrod.Od strony teoretycznej przy stosowaniu elektrody rozpuszczalnej w kapieli, reakcje, na przyklad w srodowisku kwasnym, przebiegaja nastepujaco: Reakcje katodowe: . " , Sn+2 + 2e —? Sn. (spadek stezenia jonów cynawych) (1) 2H+ + 2e kH2 (2) Reakcje anodowe: Sn—-Sn+2 — 2e (wzrost stezenia jonów cynawych) (3) w kapieli: Sn+2 + grupa kwasowa 5^ sól Sn (4) Jony cynawe dostarczane sa przez reakcje ano¬ dowa (3), podczas gdy gestosc pradu na katodzie spada dzieki reakcji wydzielania wodoru (2). W re¬ zultacie calkowite stezenie jonów cynawych sto¬ pniowo wzrasta.W przypadku zastosowania nierozpuszczalnej ano¬ dy, reakcje katodowe przebiegaja tak samo jak powyzej, podczas, gdy w reakcji anodowej wydzie¬ la sie tlen: Reakcja anodowa: 2H20 ? 02f + 4H+ + 4e (wydzielanie tlenu) (5) Z tego wzgledu jony cynawe, zuzywane na ka¬ todzie powinny byc doprowadzone z zewnatrz. Do¬ prowadzenie jonów cynyv w postaci soli prowadzi do zwiekszenia stezenia grup wolnego kwasu w kapieli, co jest dosc trudne do zobojetnienia, z te- 4 go wzgledu dostarczanie jonów cyny powinno ba¬ zowac na rozpuszczaniu sie metalicznej cyny.Szybkosc rozpuszczania sie metalicznej cyny w kapieli galwanicznej jest jednak mala w porów- naniu z szybkoscia osadzania sie jonów cyny.Szczególnie trudne jest wprowadzanie jonów cy¬ ny tak, aby zbilansowac szybkosc zuzywania sie ich w roztworze do galwanicznego cynowania.W przeprowadzonych badaniach stwierdzono, ze !0 zmierzona szybkosc rozpuszczania metalicznej cy¬ ny, przykladowo wynosila 0,1 mg/cm* godzine lub mniej niz 0,045 A/dim2 przy przeliczaniu na wiel¬ kosci pradowe, podczas gdy szybkosc metalizacji w tej kapieli wynosila 20—40 A/dm2, co bylo wiel- koscia zbyt duza, aby straty jonów zostaly skom¬ pensowane rozpuszczaniem.Powodem, dla którego szybkosc rozpuszczania jest tak mala w przypadku cyny, jest mala tenden¬ cja tego materialu do jonizacji i duze nadnapiecie wodoru. Przy rozpuszczaniu metalicznej cyny re¬ akcja z wydzielaniem wodoru przebiega nastepu¬ jaco: Sn + 2H+ Sn+2 ¦+ H2f C6) i ma mniejsze znaczenie niz reakcja redukcji tlenu; 2Sn + 02 + 4H+ 2Sn+2 + 2H20 (7) która jest reakcja determinujaca szybkosc procesu.Calkowita szybkosc reakcji okresla stezenie i szybkosc dyfuzji rozpuszczonego tlenu w roztworze do galwanizacji. Z tego tez wzgledu dostarczenie jonów przy galwanicznym cynowaniu przez rozpu¬ szczanie cyny praktycznie nie odgrywalo zadnego znaczenia. W omawianych procesach stosowano okresowo lub czesciowo nierozpuszczalna elektrode w polaczeniu z elekltroda rozpuszczalna.Po zapoznaniu sie z powyzszym mechanizmem reakcji w sposobie wedlug wynalazku zwiekszono szybkosc rozpuszczania metalicznej cyny w takim stopniu, aby dostarczyc wystarczajaca ilosc jonów 40 cyny do galwanizacji.Wedlug wynalazku sposób galwianicznego cyno¬ wania elementów metalowych, w którym stosuje sie nierozpuszczalna anode, powierzchnie przewo¬ dzaca jako katode oraz roztwór cyny jako kapiel 45 elektrolityczna, polega na tym, ze do roztworu stanowiacego kapiel elektrolityczna wprowadza sie cyne metaliczna tworzac w nim zawiesine czastek cyny oraz uzupelnia tlenem zdyspergowanym i/lub rozpuszczonym. 50 Istota rozwiazania polega zatem na sposobie do¬ starczania jonów cyny do kapieli przez stworzenie odpowiednich" warunków do rozpuszczania czastek cyny w kapieli. W tym celu formuje sie kontakto¬ wa warstwe cialo stale — ciecz lub trójfazowa 55 warstwe kontaktowa czastek metalicznej cyny, roz¬ tworu galwanicznego oraz gazu zawierajacego tlen tak, aby wywolac reakcje w której pochlaniany jest tlen, prowadzaca do rozpuszczania czastek cyny, co pozwala na sterowanie nierozpuszczal- 60 nych elektrod. Osiaga sie to przez zastosowanie granulowanej metalicznej cyny w postaci -drob¬ nych czastek, na przyklad o srednicy 0,5^5 mm, w celu zapewnienia odpowiedniej powierzchni me¬ talu oraz przez uformowanie fluidalnej warstwy 65 cialo stale—ciecz, skladajacej sie z roztworu do&5746 * galwanicznego cynowania i czastek metalicznej cy¬ ny, w której przeprowadza sie intensywne miesza¬ nie w celu zwiekszenia szybkosci, lub przez wy¬ tworzenie trójfazowej warstwy kontaktowej skla¬ dajacej sie z roztworu do galwanicznego cynowa¬ nia, drobnych czastek metalicznych i gazu zawie¬ rajacego tlen. Szybkosc rozpuszczania metalicznej cyny w praktycznej realizacji wynalazku przedsta¬ wia tablica 1.Tablica 1 Szybkosc rozpuszczania metalicznej cyny (kapiel fenoiosulfonianowa o temperaturze 45°C) bez mieszania z mieszaniem z mieszaniem przy wdmuchiwaniu po¬ wietrza z mieszaniem przy wdmuchiwaniu tlenu 0,08 mg/om2 godzine 0,7 mg/am2 gadzine 2,0 mg/om2 godzine 9,7 mg/cm2 godzine w roztworze do galwanizacji w zbiorniku 4 cyf- kuracyjnym, wywolany jest stosowaniem nierozpu¬ szczalnej anody 2, kompensowany jest cyrkulacja roztworu do galwanizacji miedzy zbiornikiem 7 do rozpuszczania i zbiornikiem cyrkulaicyinym po¬ przez rure 9, za pomoca pompy 8.Na dnie zbiornika 7 do rozpuszczania znajduje sie plyfta 10 perforowana zapobiegajaca stratom czastek metalicznej cyny_ wprowadzonych z leja 11 i równomiernie rozprowadzajaca roztwór do galwanizacji wprowadzany przez wlot 15 znajduja¬ cy sie pod nia. Plynna warstwa cialo staAe^aecz tworzy sie nad plytka perforowana 10 dzieki ru¬ chowi roztworu do galwanizacji tak, ze czastki metalicznej cyny rozpuszczaja sie. W górnej czes¬ ci zbiornika do rozpuszczania 7 znajduje sie lej 11, z którego czastki cyny wprowadzane sa w sposób ciagly lub periodyczny do zbiornika 7.Czastki metalicznej cyny dostarczone do zbior¬ nika do rozpuszczania 7 pozostaja w warstwie cialo stale — ciecz uformowanej w tym zbiorniku.Wielkosc tych czastek stopniowo maleje na skutek rozpuszczainia. W przypadku, gdy pewne czastki nie rozpuszczaja sie calkowicie, ale wielkosc ich maleje ponizej okreslonej wartosci, wydostaje sie ono ze zbiornika 7. W celu odzyskania \i usuniecia tych silnie rozdrobnionych czastek pozadane j£«t zastosowanie filtru 12 na wylocie zbiornika 7.W zbiorniku 4 cyrkulacyjnym znajduje sie kon¬ cówka detektora 13 mierzacego pH i/lub stezenie cyny. Regulacja szybkosci przeplywu roztwioru do galwanizacji w zbiorniku 7 za pomoca zaworu re¬ gulujacego 14 uruchamianego sygnalem z koAcow- ki detektora 13, umozliwia ustalenie stezenia cyny.Jesli szybkosc przeplywu jest mniejsza od mi¬ nimalnej szybkosci plyniecia czastek cyny, tworzy sie zloze nieruchome. Z drugiej strony, jesli jest ona wieksza od minimalnej szybkosci plyniecia, tworzy sie zloze plynne, w którym roztwarzanie zalezy od szybkosci pochlaniania jonów cyny w wannie galwanicznej 1.Ilosc czastek metalicznej cyny pozostajaca w zbiorniku do rozpuszczania z warstwa plynna 7 mierzy sie na podstawie strat cisnienia waastwy cialo sitale — ciecz. Stala zawartosc utrzymuje sie przez wprowadzanie czastek metalicznej cyny zle¬ ja 11.W wannie galwanicznej przebiegaja nastepujace reakcje: ' Na katodzie: Sn+2+2e Sn° U) (2H+ +2e H2f) (2) Na anodzie: 2HzO 02f + 4H+ + 4e (5) glówna reakcja w zbiorniku do rozpuszczania jest: 2Sn + 4H+ +: Cyrkulacje roztworu i ilosci czastek pozostaja¬ cych w zbiorniku 7 reguluje sie tak, aby zbilan¬ sowac reakcje (1) i (2) oraz reakcje (7). Zgodnie z reakcja (7) rozpuszczany tlen, który jest pochla¬ niany, uzupelniany jest przez naturalne napowie¬ trzenie w czasie, gdy roztwór opada do zbiornika W tablicy 1 przedstawiono szybkosc rozpuszcza¬ nia w przypadku, gdy metaliczna cyne zawiesza sie w kapieli galwanicznej z mieszaniem lub z przedimuohiwaniem powietrza lub tlenu. Przy od¬ powiednim mieszaniu, zwlaszcza przy utrzymywa¬ niu liczby Reynoldsa na tyle wysokiej, aby umo¬ zliwic plyniecie roztworu do galwanizacji, lub przy dodatkowym wprowadzeniu gazu zawieraja¬ cego tlen, szybkosc rozpuszczania metalicznej, cyny znacznie wzrasta pod warunkiem utrzymywania odpowiednio duzej powierzchni tak, ze wynalazek stosowac mozna na skale przemyslowa.Z punktu widzenia typu kontaktu mozna for¬ mowac dowolne sposród fluidalnych, stalych i upa¬ kowanych zlóz sposród których najbardziej poza¬ dane jest zloze fluidalne, poniewaz w warunkach tych lepiej moze byc wykorzystana powierzchnia czastek cyny, a ponadto utrzymywac mozna odpo¬ wiednie mieszanie, co umozliwia zmniejszenie wy¬ miarów urzadzenia do rozpuszczania.W przypadku trójfazowego kontaktu cialo stale — ciecz — opary, tlen rozpuszczony w fazie cieklej, zuzywajacy sie nastepnie, doprowadzany jest z fa¬ zy cieklej tak, ze stezenie rozpuszczonego tlenu mozna utrzymywac na wysokim poziomie, uzysku¬ jac duza szybkosc rozpuszczania. Mozna wiec w tym przypadku stosowac z powodzeniem urzadze¬ nie kontaktowe z warstwa stala lub upakowana.Wynalazek wyjasniono blizej na rysunkach fig. 1, fig. 2 i fig. 3, przedstawiajacych przyklady re¬ alizacji wynalazku, zwlaszcza schemat ideowy roz¬ wiazania, gdy wynalazek stosuje sie do galwaniicz- negó cynowania tasmy metalowej. Na rysunku fig. 1 przedstawiono urzadzenie z warstwa typu plynnego, skladajace sie z pojedynczej wanny 1 galwanicznej, nierozpuszczalnej elektrody 2, i me¬ talizowanej katody 3. Roztwór do galwanizacji cyr- kuluje miedzy zbiornikiem 4 i wanna 1 do galwa¬ nizacji poprzez rure 6 za pomoca pompy 5. W ukladzie znajduje sie zbiornik 7 do rozpuszczania 4 poprzez rure 9. Jednak jesli to jest niezbedne, z warstwa plynna. Spadek stezenia jonów cyny 65 zaleca sie zastosowanie otworu do wdmuchiwania 40 45 50 55 607 95746 8 powietrza umiejscowionego w rurze laczacej pom¬ pe 8 ze zbiornikiem 7 lub w dolnej czesci zbiornika do rozpuszczamia, aby utrzymac % duze stezenie tle¬ nu w zbiorniku 7.W urzadzeniu tym na odcinku rury 9 po stro¬ nie Wlotu do zbiornika do rozpuszczania 7 umie¬ szcza sie zwezke 17 w celu wymieszania gazu za¬ wierajacego tlen doprowadzanego przez rure 18 z roztworem do galwanizacji podawanym przez pompe 8. Roztwór do galwanizacji zawierajacy drobne pecherzyki doprowadzany jest do dolnej czesci zbiornika 7.W ten sposób czastki metalicznej cyny doprowa¬ dzane do zbiornika 7 tworza w nim plynna war¬ stwe i tworza trójfazowy kontakt z roztworem do galwanizacji zawierajacym drobne pecherzyki roz¬ puszczajace sie zgodnie z reakcja (7). Na odcinku rury 9 przy wylocie ze zbiornika do rozpuszczania umieszcza sie separator ciecz — para 16 i filtr 12 w celu rozdzielenia, emulsji para — ciecz i odzy¬ skania silnie rozdrobnionych czastek.Fig. 2 i 3 przedstawiaja urzadzenie kontaktowe typu trójfazowego z warstwa nieruchoma. Fig. Z przedstawia pojedyncza wanne 1 galwaniczna, nie¬ rozpuszczalna elektrode 2 i katode 3 stanowiaca metalizowany wyrój*. Roztwór do galwanizacji cyr¬ kuluje przez rure 6 miedzy zbiornikiem 4 cyrku- lacyjnym i wanna 1 galwaniczna za pomoca pom¬ py 5. W ukladzie znajduje sie zbiornik do rozpu¬ szczania z warstwa nieruchoma. Spadek stezenia jonów cyny w roztworze do galwanizacji w zbior¬ niku 4 cyrkulacyjnyim, wywolany stosowaniem nie¬ rozpuszczalnej elektrody 2t kompensowany jest przez wprowadzenie jon[aw cyny w wyniku cyrku¬ lacji roztworu do galwanizacji miedzy zbiornikiem do rozpuszczania 7 i zbiornikiem cyrkulacyjnym 4 za pomoca pompy 8.Na odcinku rury 9 po stronie wlotu do zbiornika do rozpuszczania 7 umieszczona, jest zwezka 10, w której gaz zawierajacy tlen wprowadzony jest przez rure 11 miesza sie z roztworem do galwani¬ zacji przechodzacym przez pompe 8 dzieki efek¬ towi zwezki tak. ze roztwór do galwanizacji za¬ wierajacy drobne pecherzyki gazu doprowadzany jest do dolnej czesci zbiornika do rozpuszczania 7.Na dmie zbiornika do rozpuszczania znajduje sie plyta perforowana 13, która sluzy do zatrzymy¬ wania czastek metalicznej cyny doprowadzamyeh przez lej 12 oraz do równomiernego zdyspergowa- nia roztworu do galwanizacji zawierajacego peche¬ rzyki gazu wprowadzanego od spodu. Plyta ta utrzymuje ponadto na sobie nieruchoma warstwe trójfazowa cialo stale — ciecz — gaz 14. Czastki doprowadzane sa do zbiornika do rozpuszczania w sposób periodyczny lub ciagly z leja 12 nad zbior¬ nikiem 7.Czastki cyny wprowadzone do .zbiornika 7 do rozpuszczania tworza w nim warstwe nieruchoma w kontakcie z roztworem do galwanizacji zawie¬ rajacym drobne pecherzyki gazu zawierajacego tlen i rozpuszczaja sie zgodnie z równaniem (7). W srod¬ kowej czesci rury 9 na wylocie ze zbiornika do rozpuszczania znajduja sie separator gaz — ciecz i filtr 16 sluzace do rozdzielania gazu i cieczy 29 z emulsji i odzyskania porwanych czastek, które moglyby zbierac sie w zbiorniku cyrkulacyjnym 4.W zbiorniku cyrkulacyjnym ,4 roztworu do gal¬ wanizacji znajduje sie czujnik 17 mierzacy pH i/lub stezenie jonów cyny. Sygnal tego czujnika uruchamia zawór 18 regulujacy szybkosc doprowa¬ dzania roztworu do galwanizacji do. zbiornika do rozpuszczania 7, w celu zapewnienia w zbiorniku 4 stalego stezenia jonów cyny.Wymieniony wyzej uklad z warstwa upakowana ilustruje fig. 3.Na rysunku fig. 3, T przedstawia zbiornik do rozpuszczania z warstwa upakowana, w którym pod warstwa 22 znajduje sie perforowana plyta 13 wstawiona do zapobiezenia stratom czastek meta¬ licznej cyny doprowadzanych przez lej 12 i rów¬ noczesnie dyspergujaca wprowadzany od spodu gaz zawierajacy tlen.Roztwór do galwanizacji podawany jest za po¬ moca pompy 8 do górnej czesci upakowanej war¬ stwy 22 poprzez rure 9 i dystrybutor 19 ponad upakowana warstwa i powraca do zbiornika cyr- kulacyjnego 4 przez filtry 16 i umieszczone na wylocie zbiornika 7'. Z drugiej strony gaz zawie¬ rajacy tlen podawany przez dmuchawe 21 do dol- nej czesci warstwy upakowanej 22 poprzez rure 20 przechodzi przez plyte perforowana 13 i upako¬ wane zloze 22 i uchodzi na zewnatrz z rury 20.Metaliczna cyna roztwarza sie chemicznie dzieki trójfazowemu kontaktowi cialo stale — ciecz — gaz w warstwie upakowanej 22.Przyklad I: Tasme stalowa cynowano galwa¬ nicznie w sposób ciagly w kapieli kwasu fenolosul- fomowego, zawierajacej 30 g/litjr jonów cynawych i 20 g/litr wolnego kwasu w przeliczeniu na H2SO4.Metalizacje przeprowadzono z zastosowaniem pia- tymowanego tytanu jako anody, przy gestosci pra¬ du 20—40 A/dm2, w kapieli o temperaturze 40°C, tt dla uzyskania stopnia metalizacji 11,5 gyim2. Zuzy¬ wajace sie jony cyny uzupelniano wprowadzajac czastki metalicznej cyny o srednicy 1—2 mm do zbiornika z plynem roztwarzajacym, uzyskujac plynna warstwe o szybkosci przeplywu 20 cm/se- 45 kunde.Na podstawie bilansu materialowego po 24 go¬ dzinach pracy ciaglej stwierdzono, ze sredni stopien metalizacji wynosil 11,0 g/m2 przy szybkosci ob¬ róbki 900 m2/godzme w warstwie galwanizujacej. w Szybkosc zuzywania jonów w wannie galwanicz¬ nej wynosila 9,9 kg/godzine. Z drugiej strony do zbiornika do rozpuszczania typu plynnego wstep¬ nie sprowadzono 700 kg czastek metalicznej cyny, ^uzupelniajac je nastepnie z szybkoscia 10 kg/go- 55 dzine. Szybkosc rozpuszczania wynosila 14 kg/go¬ dzine. Straty czastek cyny wynosily Ii20 g/godzi¬ ne. Stwierdzono, ze stezenie roztworu do galwa¬ nizacji mozna bylo tak regulowac, ze bylo ono praktycznie stale. Stezenie wstepne wynosilo 30,0 cu g/liitr, a po 24 godzinach 29,7 g/litr.Dla porównania przeprowadzano w ten sam spo¬ sób ciagla metalizacje z zastosowaniem rozpusz¬ czalnej elektrody. Wydajnosc pradowa Jia katodzie wynosila 97°/o i stezenie jonów cyny wzroslo z 30 65 gAitr do 31,2 g/litr po 24 godzinach. Przy gesitos-9 95746 ci pradu 40 A/dm2 na powierzchni anody cynowej tworzyla sie cienka blona tlenku, który nastepnie odpryskiwal tworzac brudne zmetnienie. Jesli cho¬ dzi o równomiernosc metalizacji przy galwanicz¬ nym cynowaniu, róznice miedzy maksymalna i mi¬ nimalna wielkoscia wynosila jedynie 0,2 g/m2 przy stosowaniu anody nierozpuszczalnej i 0,8 g/m2 pirzy zastosowaniu anody rozpuszczalnej nawet przy cze¬ stym regulowaniu odleglosci miedzyelelctrodowej.Przyklad II: Tasme stalowa cynowano gal¬ wanicznie w sposób ciagly w kapieli kwasu fe- nolosulfonowego zawierajacego 30 g/liitr jonów cy- nawych i 20 g/litr wolnego kwasu w przeliczeniu na H2SO4. Metalizacje przeprowadzono z zastoso¬ waniem platynowanego tytanu jako anody przy gestosci pradu 20—40 A/dm2, w kapieli o tempera¬ turze 40°C, dla uzyskania stopnia metalizacji 11,5 g/m2. Zuzywajace sie jony cyny uzupelniano z nie¬ ruchomej warstwy zloza czastek metalicznej cyny o srednicy 3—4 mm znajdujacej sie w zbiorniku do rozpuszczania, do którego wprowadzano roztwór galwaniczny nasycony powietrzem i zawierajacy drobne jego pecherzyki. Roztwór podawano od spodu z szybkoscia .10 cm/sekunde. Na podstawie bilansu materialowego przy 24 godzinach pracy przy szybkosci obróbki 900 m2/godzine stwierdzono, ze sredni stopien metalizacji wynosil 11,0 g/m2, a szybkosc zuzywania sie jonów w wannie galwani¬ cznej 9,9 kg/godzine.Do zbiornika roztwarzajacego typu (nieruchome¬ go) wstepnie wprowadzono 3000 kg czastek metali¬ cznej cyny, uzupelniajac je nastepnie z szybkoscia kg/godzine. Szybkosc rozpuszczania wynosila 14 g/godzine, lub 17 kg/m2 warstwy nieruchomej.Regulowane stezenie roztworu do galwanizacji mialo praktycznie stala wartosc i wynosilo wstep¬ nie 30,0 g/litr, a po 24 godzinach 19,5 g/li/br. W ten sposób stwierdzono ostatecznie mozliwosc zastoso¬ wania nierozpuszczalnej anody przy galwanicznym cynowaniu przez wytworzenie warstwy kontakto¬ wej cialo stale — ciecz zlozonej z czastek meta¬ licznej cyny i roztworu do galwanizacji lub trój¬ fazowej warstwy kontaktowej cialo stale — ciecz — gaz, zlozonej z czastek metalicznej cyny, roztwo¬ ru do galwanizacji i gazu zawierajacego tlen, a nastepnie przez roztworzenie metalicznej cyny w reakcji z pochlanianiem tlenu w warstwie kontak¬ towej. Ominieto równiez rózne istotne wady zwia¬ zane ze stosowaniem anody rozpuszczalnej.Jakkolwiek w powyzszych przykladach wyimle- * niono jedynie kapiel z kwasu fenoiosulfonowego, w sposobie wedlug wynalazku mozna stosowac inna kapiel do cynowania galwanicznego. PL