PL91243B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL91243B1 PL91243B1 PL1973166677A PL16667773A PL91243B1 PL 91243 B1 PL91243 B1 PL 91243B1 PL 1973166677 A PL1973166677 A PL 1973166677A PL 16667773 A PL16667773 A PL 16667773A PL 91243 B1 PL91243 B1 PL 91243B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- activation
- solution
- value
- polysaccharide
- carried out
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 19
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 claims description 10
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 claims description 10
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 claims description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 claims description 6
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 claims description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 claims description 5
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 claims 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 claims 1
- SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M sodium;9,10-dioxoanthracene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)[O-] SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 4
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 4
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 3
- -1 rinsing Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 241000416162 Astragalus gummifer Species 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019029 PtCl4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920001615 Tragacanth Polymers 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 2
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 2
- FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J tetrachloroplatinum Chemical compound Cl[Pt](Cl)(Cl)Cl FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 239000000196 tragacanth Substances 0.000 description 2
- 235000010487 tragacanth Nutrition 0.000 description 2
- 229940116362 tragacanth Drugs 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical compound [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 235000011194 food seasoning agent Nutrition 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000005923 long-lasting effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000414 obstructive effect Effects 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940023569 palmate Drugs 0.000 description 1
- PQTLYDQECILMMB-UHFFFAOYSA-L platinum(2+);sulfate Chemical compound [Pt+2].[O-]S([O-])(=O)=O PQTLYDQECILMMB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/30—Activating or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób metalizowa¬ nia nie przewodzacych nosników lufo ukladów, któ¬ re skladaja sie z nie przewodzacego twonzywa sztucznego i czesciowo z przewodzacej powloki metalicznej, z zastosowaniem aktywowania w obecnosci metalu szlachetnego.Pod pojecieim wspomnianych ukladów, które skladaja sie z nie przewodzacego tworzywa sztucz¬ nego i czesciowo z przewodzacej* powloki meta¬ licznej, nalezy rozumiec zasadniczo uklady druko¬ wane.Sposoby metalizowania nie przewodzacych ma¬ terialów i ukladów drukowanych sa od dawna znane. Maja one jednak wszystkie te wade, ze obróbka wstepna jest bardzo skomplikowana, dlu¬ ga i napotykajaca na przeszkody. W znanych spo¬ sobach mozna wyróznic nastepujace etapy obrób¬ ki: odtluszczanie, plukanie, odtlenianie w roztwo¬ rze nadsiarczanu amonowego, plukanie, doprawia¬ nie, plukanie, katalizowanie, na przyklad w roz¬ tworze kwasu isolnego zawierajacym cyne i pal¬ lad, plukanie, przyspieszanie w roztworze alka¬ licznym lub kwasnym, plukanie, chemiczne mie¬ dziowanie.Z niektórych publikacji na przyklad z opisu pa¬ tentowego Republiki Federalnej Niemiec nr 1197 720 wynika, ze przyspieszanie niekoniecznie imusi byc stosowane. Z praktyki jednak wiadomo, ze zawsze proces ten nalezy stosowac. Trudnosc polega na tym, ze chemiczna kapiel miedziowa bardzo sizybko ulega rozkladowi, wzglednie wy¬ dzielanie w kapieli miedziowej rozpoczyna sie bar¬ dzo pózno i nie w pelni. Ponadto wartosci przy¬ czepnosci pomiedzy powierzchnia tworzywa a che¬ micznie wydzielona warstwa miedzi sa bardzo zle, Inny sposób przewiduje te sama metode poste¬ powania, lecz w celu przyspieszenia zaleca ob¬ róbke lOtyo roztworem kwasu solnego w ciagu )10— minut (opis patentowy Republiki Federalnej Niemiec nr 1 446 224).Trzeci sposób usiluje rozwiazac problem w ten sposób, ze metalizowane przedmioty poddaje sie nastepujacym etapom obróbki: odtluisECzanie, plu¬ kanie, odftlenianie, plukanie, zanurzanie w roztwo¬ rze uczulajacym zawierajacym chlorek cynawy i niaszy alkiiotiomocznifc obok wolnego kwasu sol¬ nego, plukanie, aktywowanie w roztworze chlor¬ ku palladu zaiwierajacym wolny kwas solny, plu¬ kanie, chemiczne miedziowanie (opis patentowy Republiki Federalnej Niemiec nr 1796 265).Powyzej omówiono jedynie najnowsze rozwiaza¬ nia. Na temat aktywowania nie przewodzacych materialów istnieja jeszcze liczne dalsze publika¬ cje, które jednak wszystkie opisuja podobnie skomplikowane i liczne etapy obróbki wstepnej i w których równiez wystepuje wada szybkiego rozkladu kapieli miedziowej wzglednie póznego i niepelnego wydzielania sie miedzi.Celem wynalazku jest opracowanie niezawodne¬ go w eksploatacji sposobu metalizowania z za- 9124391243 4 stosowaniem kapieli aktywujacej, kit6ra jest nie tylko bardzo odporna na skladowanie, lecz rów¬ niez bardzo trwala w eksploatacji. Sposób ten po¬ nadto pozwala na ograniczenie liczby etapów ob¬ róbki wstepnej przed metalizowaniem.Stwierdzono, ze cel ten osiaga sie w sposobie wedlug wynalazku, który polega na tym, ze akty¬ wowanie poddanego w znany sposób obróbce wstepnej przedmiotu prowadzi sie; za pomoca pro¬ duktu reakcji otrzymanego na drodze redukcji roztworu soli metalu grupy palladu lub platyny albo zlota nadmiarem polisacharydu i/lob jego pochodnej, zawierajacej co najmniej jedna reak¬ tywna grupe aldehydowa, przy wartosci pH 1,5— 4,5 w zwykle, stosowanej temperaturze. 1 Sposób* wedlug wynalazku wykazuje te zalete, ze nie wymaga stosowania zadnych srodków re¬ dukujacych, a takie stosowanie mogloby stwarzac znaczne Jttiedogodnosci. Zastosowanie roztworu ak¬ tywujacego skladajacego sie z metalu z grupy platyny lufo palladu lub zlota w obecnosci poli¬ sacharydów i/lub ich wyzej omówionych pochod¬ nych, ma ponadto te zalete, ze umozliwia nieza¬ wodna eksploatacje kapieli, gdyz stosowana ka¬ piel aktywujaca jest nie tylko sama odporna na skladowanie, lecz jest równiez bardzo trwala pod¬ czas stosowania i w zwiazku z tym moze byc przez dluzszy okres czasu wykorzystywana w pro¬ dukcji. Kapieli tej nie potrzeba zmieniac, lecz tylko uzupelniac w celu lepszego i bardziej dlu¬ gotrwalego wykorzystania.Aktywowanie prowadzi sie w zwykle stosowa¬ nej temperaturze, to znaczy w temperaturze od temperatury pokojowej do podwyzszonej do okolo 70°C, przy czym prowadzenie procesu na cieplo daje te korzysc, ze aktywacja przebiega szybciej, a poza tym wskutek odparowywania nastepuije za- tezanie kapieli aktywujacej a przy wzmacnianiu kapieli przez dodawanie nowego roztworu nie po¬ wstaje nadmiar objejtosci. Dalszy nieoczekiwany efekt polega na tyim, ze etapy obróbki wstepnej mozna znacznie skrócic. W sposobie wedlug wy¬ nalazku wystarczy prowadzic nastepujace etapy obróbki wstepnej; A. Material nie przewodzacy czesciowo pokryty miedizia: odtluszczanie, plukanie, oditlenianie, na przyklad za pomoca roztworu nadsiarczanu amo¬ nu lub chlorku miedzi, plukanie, obróbka akty¬ wujaca jak opisano w przykladach, plukanie, che¬ miczne miedziowanie.B. Tworzywa sztuczne ABS albo inne tworzy¬ wa powlekane powlokami ABS — podobnymi: za¬ prawianie w mieszaninie chromowej, odtruwanie, plukanie, aktywowanie jak podano w przykladach, plukanie, chemiczne miedziowanie lub chemiczne niklowanie.Sposób metalizowania wedlug wynalazku jest wiec pewniejszy, gdyz kapiel aktywujaca nie za¬ wiera dodatkowych zwiazków metali, na przyklad chlorku cyny, które moga przedostac sie do ka¬ pieli miedziowej i tam .powodowac niekontrolo¬ wane wydzielanie miedzi. Wprowadzanie zwiaz¬ ków metali moze niezawodnosc eksploatacji i trwalosc chemicznej kapieli metalizujacej spro¬ wadzic do minimum, co powoduje stale zaklóce¬ nia. Poniewaz jednak w stosowanej w sposobie wedlug wynalazku kapieli aktywujacej nie ma zadnych dodatkowych skladników metalicznych poza metalami z grupy platyny, wzglednie pal- ladu, wiec tego rodzaju przeszkody nie wystepuja w kapieli metalizujacej. Ponadto, jak wynika z po^ wyzszego, mozna pominac niektóre etapy obróbki w porównaniu ze sposobami wczesniejszymi, co stanowi dalsze uproszczenie sposobu metalizowa- nia.Sposób wedlug wynalazku przynosi tez korzysci z punktu widzenia problemu scieków, poniewaz w przeciwienstwie do znanych rozwiazan, w któ-' rych poslugiwano sie roztworami kwasu solnego o wartosciach pH ponizej 1, proces prowadzi sie przy wartosciach pH 1,5—4,5 i w ogóle nie musi stosowac sie kwasu solnego, lecz korzystniej sto¬ suje sie kwas siarkowy. Siarczany sa latwiejsze do usuwania, przy czyim powstaja tylko obojetne nierozpuszczalne substancje, na przyklad siarczan wapnia. Wazna korzyscia jest równiez to, ze zracy kwas solny nie odparowuje do atmosfery po¬ mieszczen i w ten sposób nie nastepuje jej za¬ nieczyszczanie. W ten sposób osiaga sie nie tylko korzysci zwiazane z higiena pracy, lecz unika ko¬ rodujacego dzialania kwasu solnego na urzadze¬ nia.Stosujac sposób wedlug wynalazku mozna pro¬ ces prowadzic korzystnie jednostopniowo, to zna- czy aktywowane przedmioty mozna po zwyklym plukaniu bezposrednio bez posredniego wzmacnia¬ nia wprowadzac do redukujacej kapieli metalizu¬ jacej. Dobra odpornosc na skladowanie wynosza¬ ca ponad rok stanowi dalsza istotna korzysc.„ Wiadomo, ze wysokoazasteczkowe substancje or¬ ganiczne, takie jak klej, albumina, karboksymety- loceluloza, guma arabska lub pewne polisachary¬ dy, moga sluzyc jako koloidy ochronne do soli metali szlachetnych. Redukcje soli metalu szla- 40 chetnego do metalu lub zolu metalu prowadzono jednak zawsze za pomoca dodatkowego srodka re¬ dukujacego na przyklad hydrazyny, podfosforynu sodu lub wodoru in statu nascendi. Jest wdec nie¬ spodziewane, ze redukcje soli metalu szlachetnego 45 do metalu mozna prowadzic bezposrednio przy uzyciu polisacharydu, gdy ten zawiera przynaj¬ mniej jedna zdolna do reakcji grupe aldehydowa i ze produkt reakcji stanowi bardzo trwala ka¬ piel aktywujaca. Korzystnym polisacharydem jest 50 desktryna, lecz mozna równiez stosowac skrobie rozpuszczalna, tragakant i inne. Mozna takze sto¬ sowac, na przyklad pochodna polisacharydu, taka jak dekstryna poddana reakcji z amina, która za¬ wiera przynajmniej jedna grupe aldehydowa 55 w czasteczce.Srodek aktywujacy wytwarza sie przez zmie¬ szanie skladników w okreslonej kolejnosci. Na wstepie wartosc pH roztworu polisacharydu do¬ prowadza sie do 1,5—4,5 korzystnie 2^3. W mia- 60 re potrzeby i korzystnie dodaje sie buforu, na przyklad boraksu lub glufcondanu, aby nastawic i/Uub utrzymac wartosc pH, takze przy nastepuja¬ cym domieszaniu soli metalu szlachetnego. Na¬ stepnie dodaje sie soli metalu szlachetnego, a wiec 65 soli metalu z grupy platyny lub palladu albo91243 6 zlota i ogrzewa mieszanine do zakonczenia reduk¬ cji soli metalu szlachetnego do metalu. Korzyst¬ nie ogrzewa sie do wrzenia i ewentualnie utrzy¬ muje w stanie wrzenia do 10 minuit.Ponizej podaje sie korzystne przyklady kapieli aktywujacych stosowanych w sposobie wedlug wynalazku.Przyklad I: siarczan palladu okolo 0,1^3 g/litr glukonian sodu okolo 10,0—80 g/litr skrobia okolo 5,0—100 g/liibr Wartosc pH okolo 2 nastawia sie za pomoca kwa¬ su siarkowego. Temperatura aktywowania wyno¬ si 45°C.Przyklad II. siarczan palladu okolo 0,1—3 g/litr tragakant olkolo 5,0—80 g/litr Wartosc pH okolo 2,8 nastawia sie za pomoca kwasu siarkowego. Temperatura aktywowania wy¬ nosi okolo 40°C.Przyklad III: siarczan platyny okolo 0,2—4 g/litr dekstryna okolo 10,0-^100 g/litr boraks okolo 5,0—50 g/litr Wartosc pH = 3 nastawia sie za pomoca kwasu siarkowego. Temperatura aktywowania wynosi okolo 40°C.Przyklad IV: H(AuCl4) 0,1—3,0 g/litr dekstryna 6,0—50,0 g/iiibr boraks 5,0—20,0 g/litr Wartosc pH = 3,0 nastawia sie za pomoca HC1.Temperatura aktywowania wynosi 20—25°C.Przyklad V: PtCl4 0,1—2,0 g/litr dekstryna 5,0^40,0 g/litr octan sodu H0,0—•40,0 g/litr Wartosc pH = 2,5 nastawia sie za pomoca HCL Temperatura aktywowania wynosi 20—25°C.Przyklad VI: PtCl4 0,1—2,0 g/litr U5 40 glukoza 5,0—40,0 g/litr boraks 5,0—20,0 g/litr Wartosc pH = 2,8 nastawia sie za pomoca HC1.Temperatura aktywowania wynosi 20°C. PL
Claims (5)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób metalizowania nie przewodzacych ma¬ terialów, na przyklad jednorodnych tworzyw sztucznych lub materialów warstwowych tworzy¬ wa sztucznego wzglednie ukladów, które sklada¬ ja sie z nie przewodzacego tworzywa sztucznego i czesciowo z przewodzacej powloki metalicznej z zastosowaniem aktywowania w obecnosci me¬ talu szlachetnego, znamienny tym, ze aktywowa¬ nie poddanego w znany sposób obróbce wstepnej przedmiotu prowadzi sie za pomoca produktu re¬ akcji, otrzymanego na drodze redukcji roztworu soli metailu z grupy palladu lub platyny albo soli zlota nadimiarem polisacharydu i/lub jego pochod¬ nej zawierajacej co najmniej jedna reaktywna grupe aldehydowa, przy wartosci pH = 1,5—4,5 w temperaturze zwykle stosowanej.
- 2. Sposób wedlug zastnz. 1, znamienny tym, ze aktywowany przedmiot bez obróbki posredniej po zwyklym plukaniu wprowadza sie do redukuja¬ cej kapieli metalizujacej i metalizuje bez posred¬ niego wzmacniania galwanicznego.
- 3. Sposób wedlug zastrz. 1 znamienny tym, ze aktywowanie prowadzi sie w roztworze polisacha¬ rydu o wartosci pH = 1,5—4,5, korzystnie po do¬ daniu buforu, roztwór soli palladu platyny lub zlota, ogrzewajac ^mieszanine do zakonczenia re¬ dukcji soli metalu szlachetnego do metalu.
- 4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze aktywowanie prowadzi sie przy odczynie o war¬ tosci pH = 2^3.
- 5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako polisacharyd stosuje sie dekstryne, zwlasz¬ cza dekstryne zólta. PL
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2257378A DE2257378C3 (de) | 1972-11-23 | 1972-11-23 | Verfahren und Mittel zur Vorbehandlung von stromlos zu metallisierenden, nichtleitenden Trägeroberflächen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL91243B1 true PL91243B1 (pl) | 1977-02-28 |
Family
ID=5862495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1973166677A PL91243B1 (pl) | 1972-11-23 | 1973-11-21 |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4015992A (pl) |
| JP (1) | JPS5094080A (pl) |
| BE (1) | BE807673A (pl) |
| CA (1) | CA979152A (pl) |
| CH (1) | CH595456A5 (pl) |
| DD (1) | DD107488A5 (pl) |
| DE (1) | DE2257378C3 (pl) |
| DK (1) | DK144480C (pl) |
| ES (1) | ES420098A1 (pl) |
| FR (1) | FR2208007B1 (pl) |
| GB (1) | GB1430853A (pl) |
| HU (1) | HU167289B (pl) |
| NL (1) | NL7315756A (pl) |
| PL (1) | PL91243B1 (pl) |
| SE (1) | SE389131B (pl) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3412447A1 (de) * | 1984-03-31 | 1985-11-28 | Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen | Verfahren zur herstellung von gedruckten schaltungen |
| JPH01319683A (ja) * | 1988-06-20 | 1989-12-25 | Electroplating Eng Of Japan Co | 白金コロイド溶液及びそれを用いた無電解白金メッキ方法ならびに白金担持体の製法 |
| JP4069181B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2008-04-02 | Dowaメタルテック株式会社 | 無電解めっき法 |
| JP6066397B2 (ja) * | 2011-08-17 | 2017-01-25 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | 無電解金属化のための安定な触媒 |
| CN103041858B (zh) * | 2011-08-17 | 2015-12-16 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 用于化学镀的稳定的不含锡催化剂 |
| EP3181724A3 (en) * | 2015-12-14 | 2017-08-16 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Environmentally friendly stable catalysts for electroless metallization of printed circuit boards and through-holes |
| US20170171988A1 (en) * | 2015-12-14 | 2017-06-15 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Environmentally friendly stable catalysts for electroless metallization of printed circuit boards and through-holes |
| US20170171987A1 (en) * | 2015-12-14 | 2017-06-15 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Environmentally friendly stable catalysts for electroless metallization of printed circuit boards and through-holes |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1209347A (en) * | 1968-01-16 | 1970-10-21 | Trans Metal Corp | Method of electroless plating |
-
1972
- 1972-11-23 DE DE2257378A patent/DE2257378C3/de not_active Expired
-
1973
- 1973-10-22 DD DD174203*A patent/DD107488A5/xx unknown
- 1973-10-30 ES ES420098A patent/ES420098A1/es not_active Expired
- 1973-11-06 CA CA185,120A patent/CA979152A/en not_active Expired
- 1973-11-16 NL NL7315756A patent/NL7315756A/xx not_active Application Discontinuation
- 1973-11-19 US US05/416,812 patent/US4015992A/en not_active Expired - Lifetime
- 1973-11-21 HU HUHE643A patent/HU167289B/hu not_active IP Right Cessation
- 1973-11-21 PL PL1973166677A patent/PL91243B1/pl unknown
- 1973-11-21 JP JP48130292A patent/JPS5094080A/ja active Pending
- 1973-11-22 GB GB5424273A patent/GB1430853A/en not_active Expired
- 1973-11-22 FR FR7341603A patent/FR2208007B1/fr not_active Expired
- 1973-11-22 BE BE138053A patent/BE807673A/xx not_active IP Right Cessation
- 1973-11-22 CH CH1648573A patent/CH595456A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1973-11-22 DK DK631773A patent/DK144480C/da active
- 1973-11-22 SE SE7315842A patent/SE389131B/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL7315756A (pl) | 1974-05-27 |
| DK144480B (da) | 1982-03-15 |
| AU6287473A (en) | 1975-05-29 |
| FR2208007B1 (pl) | 1977-06-10 |
| HU167289B (pl) | 1975-09-27 |
| DK144480C (da) | 1982-08-30 |
| CH595456A5 (pl) | 1978-02-15 |
| US4015992A (en) | 1977-04-05 |
| BE807673A (fr) | 1974-03-15 |
| GB1430853A (en) | 1976-04-07 |
| FR2208007A1 (pl) | 1974-06-21 |
| DE2257378C3 (de) | 1980-05-08 |
| ES420098A1 (es) | 1976-03-16 |
| DE2257378B2 (de) | 1979-08-23 |
| SE389131B (sv) | 1976-10-25 |
| DD107488A5 (pl) | 1974-08-05 |
| JPS5094080A (pl) | 1975-07-26 |
| CA979152A (en) | 1975-12-09 |
| DE2257378A1 (de) | 1974-06-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Barker | Electroless deposition of metals | |
| DE2116389B2 (de) | Lösung zur Aktivierung von Oberflächen für die Metallisierung | |
| US3485597A (en) | Electroless deposition of nickel-phosphorus based alloys | |
| GR3019899T3 (en) | Deposition of silver layer on nonconducting substrate | |
| WO2002004700A3 (en) | Electroless silver plating | |
| ITRM950110A1 (it) | Procedimento per la catalizzazione nella placcatura senza corrente. | |
| US3992211A (en) | Electroless plating composition | |
| EP2639333A1 (de) | Verfahren zum Metallisieren nichtleitender Kunststoffoberflächen | |
| US4160050A (en) | Catalyzation processes for electroless metal deposition | |
| Barker | Electroless deposition of metals | |
| PL91243B1 (pl) | ||
| US3915716A (en) | Chemical nickel plating bath | |
| CA1048707A (en) | Composition and method for neutralizing and sensitizing resinous surfaces and improved sensitized resinous surfaces for adherent metallization | |
| EP2855731B1 (en) | Process for metallizing nonconductive plastic surfaces | |
| US3616296A (en) | Method for metallizing plastics | |
| ES2732698T5 (es) | Procedimientos de metalización de piezas de plástico | |
| DE1521357B1 (de) | Verfahren zum stromlosen Abscheiden einer Goldschicht | |
| JPS591668A (ja) | 改良無電解金めつき浴及びめつき方法 | |
| US4581256A (en) | Electroless plating composition and method of use | |
| JPH0293076A (ja) | 無電解メッキに利用される微細な金属体の製造方法 | |
| DE102005038208B4 (de) | Verfahren zur Herstellung von Silberschichten und seine Verwendung | |
| EP0044878B1 (en) | A stable aqueous colloid for the activation of non-conductive substrates and the method of activating | |
| JPH0218386B2 (pl) | ||
| JPH0247547B2 (pl) | ||
| US3424597A (en) | Electroless nickel plating |