PL86984B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL86984B1 PL86984B1 PL1974169243A PL16924374A PL86984B1 PL 86984 B1 PL86984 B1 PL 86984B1 PL 1974169243 A PL1974169243 A PL 1974169243A PL 16924374 A PL16924374 A PL 16924374A PL 86984 B1 PL86984 B1 PL 86984B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- substances
- inert
- liquid
- mixture
- separated
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D1/00—Evaporating
- B01D1/06—Evaporators with vertical tubes
- B01D1/065—Evaporators with vertical tubes by film evaporating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D1/00—Evaporating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D1/00—Evaporating
- B01D1/06—Evaporators with vertical tubes
- B01D1/10—Evaporators with vertical tubes with long tubes, e.g. Kestner evaporators
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/69—Sulfur trioxide; Sulfuric acid
- C01B17/88—Concentration of sulfuric acid
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S159/00—Concentrating evaporators
- Y10S159/13—Scale
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S159/00—Concentrating evaporators
- Y10S159/15—Special material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S159/00—Concentrating evaporators
- Y10S159/19—Acid
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S159/00—Concentrating evaporators
- Y10S159/32—Indirect heat exchange
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
Opis patentowy opublikowano: 15.12.1977
86984
Opis patentowy
przedrukowano ze wzgledu
na zauwazone bledy
MKP B01d 3/04
Int. Cl2. B01D3/04
CZYTELNIA
Ut edu Patentowego
ft f ' ~t\ ifccri^asK.Mcj Lufowej
Twórcawynalazku: ——
Uprawniony z patentu: Hoch Bertrams Aktiengesellschaft Muttenz, Szwajcaria;
Bayer Aktiengesellschaft, Leverkusen
(Republika Federalna Niemiec)
Sposób rozdzielania cieklych mieszanin substancji korodujacych
oraz urzadzenie do rozdzielania cieklych mieszanin substancji korodujacych
Wynalazek dotyczy sposobu i urzadzenia do rozdzielania cieklych mieszanin substancji korodujacych na
frakcje parowa i ciekla, przy posrednim doprowadzeniu ciepla.
W przemysle czesto powstaje koniecznosc rozdzielania, zatezania i/lub oczyszczania cieklych mieszanin
substancji. W zaleznosci od rodzaju rozwiazywanego problemu, proponowano rózne sposoby postepowania
i rózne urzadzenia. Szczególnie trudne problemy stwarzaja ciecze korodujace lub mieszaniny substancji zawieraja¬
cych skladniki o dzialaniu korozyjnym. Ze wzgledu na stosowane materialy konstrukcyjne, powstaja przede
wszystkim problemy wymiany ciepla, wplywajace na ekonomike metody, bowiem czesto niezbedne jest uzycie
drogich tworzyw konstrukcyjnych, które albo uniemozliwiaja budowe instalacji, pozwalajacej na przeróbke
wiekszych ilosci mieszanin substancji albo nadmiernie podnosza koszty inwestycji. Uzycie mniej odpornych
materialów konstrukcyjnych obciaza proces wysokimi kosztami eksploatacyjnymi, wskutek czestych remontów
instalacji a ponadto ujemnie wplywa na bezpieczenstwo ruchu, ze wzgledu na korozje lub podatnosc na pekanie
materialów aparatury.
W przemysle chemicznym, jak równiez w innych przemyslach wystepuja coraz wieksze ilosci agresywnych
lub korodujacych cieczy, które musza byc poddawane przeróbce w celu ich powtórnego wykorzystania lub tez
zniszczone. Obok kwasów i innych mieszanin substancji korodujacych, szczególny problem stwarza kwas
siarkowy, który w wielu operacjach nie zostaje zuzyty lecz wystepuje w toku procesu w postaci rozcienczonej
i czesto silnie zanieczyszczonej.
Specjalnie dla zatezania rozcienczonego kwasu siarkowego zaproponowano szereg sposobów. Bardzo czesto
stosowanym w skali technicznej sposobem zatezania kwasu siarkowego do umiarkowanych stezen ok. 60%
H2S04, jest odparowywanie drocja bezposredniego ogrzewania spalinami. Sposoby z bezposrednim ogrzewaniem
goracymi gazami sa jednakze malo przydatne do wytwarzania kwasów o wysokich stezeniach ze wzgledu na
zanieczyszczone gazy odlotowe.
Opracowano metody z posrednim ogrzewaniem, przeznaczone zwlaszcza do zatezania kwasu siarkowego
powyzej 90%. Zatezanie nastepuje zwykle w kotlach z zeliwa. Zywotnosc kotlów równiez przy zastosowaniu
specjalnych stopów pozostawia jednak wiele do zyczenia. Poza tym nie mozna budowac kotlów o dowolnej2 86 984
wielkosci co powoduje, ze dla instalacji o duzych wydajnosciach zatezania, trzeba zestawiac szereg kotlów
w baterie. Czesto kotly wyposaza sie w kolumny rektyfikacyjne. Równiez ulepszone warianty tego typu metod
posiadaja niska sprawnosc cieplna i wykazuja wysokie straty kwasu przy stezeniach koncowych 95-98%. Ponadto
w aparaturze znajduja sie stosunkowo duze ilosci goracego kwasu, który wskutek korozji moze wydostac sie
w sposób nieprzewidziany na zewnatrz aparatury.
Czesci wymienionych trudnosci unika sie przy metodach zatezania, stosujacych odparowywanie pod
zmniejszonym cisnieniem. Dla metod prózniowych znane sa rózne warianty konstrukcji, opracowane czesciowo
dla specjalnych stezen kwasu lub soli. Przy pomocy tak zwanej wyparki z filmem opadajacym pracujacej z rura
wyparna o opadajacym filmie wykonana z zelazokrzemu, mozna osiagnac stezenie kwasu do okolo 93% H2S04.
Poza tym zaproponowano równiez koncentrat o jednokrotnym odparowaniu filmu, w którym glówna strefa
odparowywania nie znajduje sie w rurach z opadajacym filmem, lecz w poziomo ulozonych, polaczonych
szeregowo rurach z plaszczami parowymi. Znany jest równiez jeszcze jeden sposób, w którym kwas siarkowy
zatezany jest do stezenia koncowego okolo 93% w sposób periodyczny, pod zmniejszonym cisnieniem okolo
23 Torów.
Aby uniknac korozji opisano równiez aparatury, w których jako tworzywo konstrukcyjne zastosowano
kwarc. Sposób wedlug opisu patentowego USA nr 3 294 650 przewiduje równiez stosowanie zmniejszonego
cisnienia, podczas gdy dla stosunkowo malych wydajnosci znane sa równiez pracujace przy cisnieniu normalnym
i ogrzewane elektrycznie aparatury kwarcowe.
Lugi mozna takze zatezac w wyparkach z opadajacym filmem, przy czym wyparki z opadajacym filmem sa
ogrzewane przy pomocy stopionych soli. Opisany sposób postepowania nie moze byc jednakze przenoszony bez
ograniczenia na korodujace ciecze lub mieszaniny cieczy.
Celem wynalazku jest usuniecie wymienionych trudnosci. Cel ten zostal osiagniety dzieki wynalazkowi,
który rozwiazuj sposób rozdzielania cieklych mieszanin substancji korodujacych przez odparowanie bardziej
lotnych skladników przy posrednim doprowadzeniu ciepla, w cienkim filmie cieczy, wzdluz korzystnie gietej
pionowej scianki z obojetnego, odpornego termicznie materialu, charakteryzujacego sie tym, ze scianka jest
ogrzewana przez znajdujacy sie w kontakcie z nia obojetny stop, do którego w sposób ciagly doprowadza sie
cieplo przy pomocy np. innego stopu krazacego w obiegu i podgrzewanego w posrednim urzadzeniu ogrzewczym.
Sposobem wedlug wynalazku mozna bezpiecznie pod wzgledem eksploatacyjnym i ekonomicznie z punktu
widzenia wykorzystania ciepla, w sposób ciagly zatezac lub rozdzielac silnie agresywne lub korodujace
substancje lub mieszaniny tych substancji. Jednoczesnie mozna równiez usuwac substancje szkodliwe lub
oddzielac zanieczyszczenia. Sposób ten jest korzystny zwlaszcza dla kwasów nieorganicznych lub organicznych
i rozpuszczalników. Sposób ten jest szczególnie korzystny do zatezania kwasu siarkowego, a zwlaszcza kwasu
siarkowego o stezeniu 50-80% do stezenia co najmniej 94%. Wszystkie czesci aparatury poddane dzialaniu
substancji korodujacych sa wykonane z materialu calkowicie lub w znacznym stopniu odpornego na korozje. Na
elementy konstrukcyjne tej aparatury stosuje sie zwlaszcza szkla borokrzemowe lub kwarc, a zwlaszcza szklo
kwarcowe o wysokiej czystosci rzedu 99,9% Si02. Wedlug tego sposobu pracuje sie pod cisnieniem normalnym,
dzieki czemu nie sa konieczne drogie urzadzenia prózniowe. Proces mozna ewentualnie prowadzic przy
niewielkich nadcisnieniach do 5atm. W szczególnych przypadkach proces mozna prowadzic w atmosferze
obojetnego gazu. Dzieki zastosowaniu posredniego systemu ogrzewania przy pomocy cieklego przenosnika
ciepla, który ogrzewa sie w warunkach daleko posunietego wykorzystania energii cieplnej oleju opalowego, gazu
ziemnego lub innych tanich zródel energii, sposób cechuje sie dobra sprawnoscia cieplna, przy czym zapewnia sie
równomierne ogrzewanie powierzchni grzejnych. W przypadku najprostszej konstrukcji, poddawana przeróbce
ciecz rozlewa sie po sciance rury, która z drugiej strony ogrzewana jest obojetnym stopem. Stop krazy w obiegu
poprzez wymiennik ciepla, gdzie ogrzewa sie w sposób posredni. Ze wzgledów bezpieczenstwa, korzystnie jest
jesli miedzy cieklym przenosnikiem ciepla i poddawana przeróbce agresywna mieszanina substancji, znajduje sie
niewielka ilosc równiez cieklego materialu, który jest obojetny w stosunku do substancji korodujacych. Ponadto
poniewaz we wlasciwej rurze wyparnej znajduje sie tylko bardzo malo goracej cieczy, w przypadku nieprzewi¬
dzianych zaklócenjak np. pekniecia rury wyparnej, nie nastepuja zadne trudne do opanowania komplikacje.
Rysunek wyjasnia blizej przyklady wariantów prowadzenia sposobu wzglednie wykonania urzadzenia.
Fig. 1 przedstawia podstawowy wariant wykonywania sposobu, fig. 1a, 2, 2a, 3 i 3a uklad rur wyparnych, fig. 4
wyparke z opadajacym filmem, w której gorace opary opuszczaja rure wyparki nie w przeciwpradzie ale we
wspólpradzie wzgledem zatezanego, cieklego produktu, fig. 5 — wykonanie rury wyparki jako aparatury
wyparnej z filmem wstepujacym, fig. 6 — inny sposób zatezania i oczyszczania kwasu siarkowego, podczas gdy
fig. 7, 8 i 9 przedstawiaja wykonanie stopnia wyparnego i zamontowanej kolumny, które moga byc stosowane na
przyklad w urzadzeniu wedlug fig. 6.
Rysunek przedstawia zaledwie niektóre mozliwe wzglednie zalecane rozwiazania konstrukcyjne, oczywiscie
mozliwe sa i inne warianty, które sa zgodne z wynalazkiem. I tak przykladowo, obojetny stop moze jeszcze86 984 3
dodatkowo krazyc w obiegu wymuszonym. Poza tym obojetny stop moze byc równiez ogrzewany przez
wezownice grzejne, zanurzone bezposrednio w stopie lub inaczej skonstruowane elementy grzejne wymiennika
cieplnego. Wreszcie, uklad wedlug fig. 1 wzglednie 1a moze byc tak zmodyfikowany, ze poddawana przeróbce
ciecz znajduje sie w zewnetrznej rurze a krazacy w obiegu stop w rurze wewnetrznej.
Jak przedstawia to fig. 1 poddawana rozdzielaniu ciekla mieszanina substancji wzglednie zatezana ciecz,
podawana jest ze zbiornika 1 pompa dozujaca 2 do wymiennika ciepla 3 i ogrzewana w nim do temperatury
mozliwie zblizonej do temperatury wrzenia a nastepnie doprowadzana do stopnia wyparnego 5. W stopniu
wyparnym ciecz splywa w rurze wyparnej cienkim filmem i zostaje rozdzielona na frakcje ciekla 22 i frakcje
parowa 23. Cieplo frakcji cieklej moze byc wykorzystane do ogrzewania wymiennika ciepla 3, a nastepnie
frakcja ta zostaje dalej schlodzona w chlodnicy 9. Frakcja ciekla splywa wreszcie do zbiornika 10. Frakcja
parowa 23 zostaje schlodzona i skroplona w kondensatorze 11. Wymiennik ciepla 11 jest z reguly czescia
wymiennika ciepla 3. W wewnetrznym plaszczu 5b znajduje sie ciekly material, korzystnie stop, np. stop
metaliczny lub stopione sole. Stosuje sie taki stop, który jest obojetny wzgledem zatezanej substancji i którego
temperatura topnienia jest mozliwie niska. Obojetny stop 5c, korzystnie jest ogrzewac w zakresie 180-550°C
przy pomocy stopu krazacego w obiegu w zewnetrznym plaszczu 5d. Korzystnie jest stosowac tutaj stopione
sole o odpowiedniej, równiez nie za wysokiej temperaturze topnienia, sole te podgrzewa sie w urzadzeniu
ogrzewczym 15. W zakresie temperatur 50-180°C caly zespól wyparki jest ogrzewany przy pomocy pary
nasyconej.
Stopien wyparny 5 moze byc skonstruowany z trzech wspólosiowo ustawionych rur, przy czym
wewnetrzna rura wyparna 5a jest wykonana z materialu odpornego na dzialanie zatezonej cieczy, korzystnie ze
szkla kwarcowego/Wewnetrzny oraz zewnetrzny plaszcz jest wykonany z reguly z metalu, zwykle ze stali. Jak
pokazano na fig. 6, szereg rur wyparnych 5a, a w danym przypadku otoczonych przez wewnetrzne rury
stanowiace plaszcz 5d, moze byc polaczonych równolegle i nastepnie ogrzewanych wspólnie przez krazacy
w obiegu stop. Jednakze szereg rur wyparnych 5a, otoczonych przez wnetrze rury plaszczowej 5b moze byc
równiez polaczonych szeregowo, a nastepnie ogrzewanych albo osobno albo tez wspólnie.
Dalsze mozliwosci ustawienia stopni wyparnych przestawiaja fig. 2, 2a, 3 i 3a. Fig. 2 i 2a pokazuja stopien
wyparny, w którym rury wyparne 5a sa umieszczone wspólnie z obojetnym stopie 5c, który nastepnie jest
ogrzewany od wewnatrz i z zewnatrz stopem krazacym w obiegu. Fig. 3 i 3a przedstawiaja podobne w zasadzie
. ustawienie stopnia wyparnego jak fig. 1, z ta jednak róznica, ze we wnetrzu rury wyparnej 5a umieszczony jest
wyparnik, który w danym przypadku moze byc zraszany ciecza poddawana przeróbce. Rozwiazanie takie nadaje
sie na przyklad jako wyparka ze wstepujacym filmem.
Jak pokazano to na fig. 6~9, stopien wyparny 5 jest z reguly wyposazony w kolumne odpedowa — kolum¬
ne rektyfikacyjna 6, w której zachodzi wymiana masy i energii miedzy goracymi oparami stopnia wyparnego
i zatezana ciecza. Ta kolumna rektyfikacyjna moze posiadac konstrukcje kolumny z wypelnieniem lub kolumny
z pólkami dzwonowymi. W przypadku kolumny z pólkami dzwonowymi, do wykonania poszczególnych pólek
dzwonowych moga byc zastosowane rozmaite materialy jak na przyklad kwarc, szklo borokrzemowe, zeliwa lub
stal, w zaleznosci od termicznych warunków pracy. Kolumna z pólkami dzwonowymi daje ponadto mozliwosc
osobnego odprowadzania poszczególnych frakcji oparów. Miejscem wprowadzania kwasu jest co najmniej jedna
pólka rektyfikacyjna, która przy pomocy skroplonych oparów uwalnia opary nieskroplowe od zawartych w nich
par kwasu i porwanych kropelek kwasu. Stopien wyparny 5 i kolumna rektyfikacyjna 6 moga byc w rózny
sposób ustawione wzgledem siebie. Ponadto w stopniu wyparnym 5 mozna prowadzic proces zarówno we
wspól« jak i przeciwpradzie ale w kolumnie rektyfikacyjnej 6 stosuje sie wylacznie zasade przeciwpradu frakcji
cieklej wzgledem frakcji parowej.
Jak przedstawiono to na fig. 6-8 jednostka wyparna pracuje metoda przeciwpradu. W przypadku ukladu 5
i 6 przedstawionego na fig. 8, jednostka wyparna 5 moze byc uwielokrotniona, a gorace opary kierowane do
centralnej kolumny rektyfikacyjnej 6. Fig. 4 i 9 przedstawiaja wariant sposobu, w przypadku którego opary
opuszczaja stopien wyparny 5 we wspólpradzie z frakcja ciekla. W przypadku rozwiazania wedlug fig. 9 ciekla,
zatezona frakcje utrzymuje sie w obiegu przy pomocy pompy 22a. Fig. 5 przedstawia konstrukcje stopnia
wyparnego w formie wyparki ze wstepujacym filmem.
Sposób wedlug wynalazku jest wyjasniony dokladniej na przykladzie zatezania kwasu siarkowego.
Rozwiazania konstrukcyjne odnosza sie w odpowiednio równiez do zatezania innych korodujacych cieczy,
wzglednie do rozdzielania mieszanin substancji, które zawieraja co najmniej jeden skladnik o wlasnosciach
korozyjnych. Rozcienczony i zanieczyszczony kwas o stezeniu 50-80%, korzystnie 60-75% wagowo, oczyszcza
sie i zateza w urzadzeniu wedlug fig. 6. Bardziej rozcienczony kwas moze byc przykladowo wstepnie zatezony
przy pomocy goracych oparów wymiennika ciepla 11. Odsacza sie przy tym nieco krystalizujacych substancji
stalych. Oczywiscie wstepne zatezanie mozna równiez prowadzic w innych zwyklych urzadzeniach, jak na4 86 984
przyklad w wyparce z palnikami nurnikowymi. Kwasy o stezeniu powyzej 69% wagowo, przed wprowadzeniem
do kolumny odpedowej zostaja odpowiednio rozcienczone, korzystne jest jednak umieszczanie co najmniej jednej
pólki, jak pokazano na fig. 9 powyzej miejsca zasilania, aby przez odpowiednio ustalony stosunek powrotu,
utrzymywac na tej pólce stezenie kwasu ponizej 69% wagowo. W ten sposób unika sie przedostawania kwasu do
oparów opuszczajacych kolumne. Kwas ze zbiornika 1 poprzez pompe dozujaca 2 dostaje sie do wymiennika
ciepla 3, w którym ogrzewa sie do temperatury 140-190°C przy pomocy goracych stezonych kwasów,
opuszczajacych stopien wyparny 5. Z wymiennika ciepla 3 wstepnie podgrzany kwas przechodzi do kolumny
odpedowej 6, gdzie jest poddawany, wdanym przypadku, dzialaniu substancji pomocniczej, doprowadzanej ze
zbiornika 7 przez pompe dozujaca 8. Jako substancje pomocnicze dodaje sie srodki przeciwpieniace, jak równiez
chemikalia na przyklad kwas azotowy, które utleniaja lub redukuja zanieczyszczenia kwasu i korzystnie
przeprowadzaja w stan gazowy, a w danym przypadku równiez w stan staly. Aby podwyzszyc efekt oczyszczania
mozna, w tym przypadku, wprowadzanie kwasu razem z substancjami pomocniczymi oraz doprowadzanie energii
zewnetrznej prowadzic w obiegu przy pomocy pompy 6c (fig. 7 i 8). Z klumny odpedowej 6 kwas zostaje
nastepnie rozlany przez glowice rozdzielacza 6d w postaci opadajacego filmu w rurze wyparnej 5a stopnia
wyparnego 5. Kazdy element wyparny moze przy jednoroazowym przeplywie, wytwarzac okolo 5-30 t/dobe co
najmniej 94% kwasu, przy srednicy rury wyparnej 5a wynoszacej 150—400 mm. Miedzy wewnetrzna rura
wyparna 5a i plaszczem 5b znajduje sie stop, którego temperatura topnienia jest mozliwie niska, ale który
jednakze nawet w temperaturze wrzenia zatezanego kwasu nie posiada zadnej istotnej preznosci par. Korzystnie
stosuje sie stopy metali, jak na przyklad stop bizmutu i olowiu topiacy sie w temperaturze 120—125°C.
Zastosowanie tego bardzo nisko topliwego stopu posiada te zalete, ze w przypadku przerwy w pracy urzadzenia
stop ten przez proste dodatkowe ogrzewanie parowe, w danym przypadku przez ogrzewanie para rury wyparnej
5a, moze byc utrzymywany w cieklym stanie. Rura wyparna 5a wykonana jest z kwarcu, korzystnie o czystosci
99,9% Si02. Umocowanie rury ze szkla kwarcowego 5a w stopniu wyparnym 5 dokonuje sie korzystnie pod jej
wlasnym ciezarem i ewentualnie ciezarem nadbudowanej kolumny odpedowej 6, tak, ze rura podlega napreze*
niom cisnieniowym tylko w kierunku promieniowym i osiowym. Korzystnie jest jesli dolna czesc rury
kwarcowej, w celu lepszego uszczelnienia jest sferycznie rozszerzona lub tez wyposazona w duzy plaski szlif.
Kolumna odpedowa 6 moze byc nie tylko nasadzona bezposrednio na rure wyparna 5a (fig. 7), lecz równiez
ustawiona z boku (fig. 8). W tym przypadku czesci laczace kolumne i rure wyparna posiadaja konstrukcje
elastyczna.
Rura wyparna 5a jest ogrzewana stopem 5e za posrednictwem stopu 5c, który znajduje sie miedzy
wewnetrznym plaszczem 5b i zewnetrznym plaszczem 5d. Korzystnie jest stosowac stopione sole o temperatu¬
rze topnienia 140-160°C i skladzie 53% KN03, 44% NaNo3 i 7% NaN02. Mozna stosowac jednak równiez inne
stopy cechujace sie niska temperatura topnienia, minimalna preznoscia pary w temperaturze pracy, a poza tym
nie ulegajace rozkladowi. Poniewaz jako material konstrukcyjny dla tych czesci aparatury, które stykaja sie ze
stopem stosuje sie ze wzgledów ekonomicznych stal, stop nie powinien równiez wykazywac dzialania
korodujacego. Obok wspomnianych stopów mozna stosowac jeszcze stopy oparte na bazie bizmutu i/lub olowiu
i/lub galu i/lub cyny i/lub cynku, o temperaturze topnienia 25-150°C.
Cieplo niezbedne do zatezania doprowadza sie poprzez urzadzenie ogrzewcze 15, przez które krazy
utrzymywany w obiegu stop grzejny 5e. Olej opalowy lub gaz ziemny 16 spala sie, jesli to jest mozliwe ze
'wzgledu na ograniczenie emisji, z pozostalosciami 14 przy pomocy zespolu palników 17. Wytworzone cieplo
przekazywane jest do stopu krazacego w systemie rur 18, który ogrzewa sie tu do temperatury 100-550°C. Czesc
swego ciepla gazy spalinowe oddaja w wymienniku ciepla 19, ogrzewajac powietrze uzywane do spalania.
W rurze wyparnej 5a kwas siarkowy zostaje zatezony do 94-98,3% i nastepnie ochlodzony w wymienniku
ciepla 3 oraz chlodnicy dodatkowej 9. Wdanym przypadku miedzy wymiennikiem ciepla 3 i chlodnica
dodatkowa 9 wlaczone jest urzadzenie oddzielajace ciala stale (wykrystalizowane sole). Wdanym przypadku
zbiornik 10 jest urzadzony równiez jako zbiornik sedymentacyjny dla cial stalych. Oddzielanie soli w trakcie
zatezania w rurze wyparnej 5a nie jest szkodliwe, poniewaz jak to wykazaly specjalne badania sa one stale
wymywane i usuwane z rury wyparnej razem z odplywajacym kwasem. Caly stopien wyparny pracuje w warun¬
kach zblizonych do cisnienia atmosferycznego.
Za posrednictwem przewodu nadmuchowego 20 instalacja wyparna moze byc utrzymywana przez caly
czas pracy w warunkach niewielkiego nadcisnienia gazu obojetnego. Nadmierny wzrost cisnienia, zwiazany
z nieprzewidzianymi gwaltownymi zjawiskami odparowywania w rurze wyparnej 5a, zostaje natychmiast zlikwi¬
dowany przy pomocy urzadzenia 21 stanowiacego zawór bezpieczenstwa.
Opary opuszczajace kolumne odpedowa 6, to jest latwo lotne frakcje, zostaja skroplone w wymienniku
ciepla 11 i odprowadzone do oddzielacza oleju lub substancji stalych 12. Kondensat w postaci wody o wysokiej
czystosci jest usuwany z instalacji wyparnej do odprowadzenia 13. Oleje oraz inne zanieczyszczenia organiczne,
które zawarte byly w oparach, zostaja odebrane w odprowadzeniu 14 i skierowane bezposrednio do spalenia
w instalacji ogrzewczej 15.86 984 5
Sposób wedlug wynalazku jest szczególnie przydatny do rozdzielania cieklych mieszanin substancji,
w przypadku których wymagane sa temperatury powyzej 200°Cr a zwlaszcza powyzej 250°C.
Sposób wedlug wynalazku wyjasniaja dokladniej ponizej podane przyklady prowadzenia procesu.
Przyklad I. W instalacji o ukladzie zblizonym do przedstawionego na fig. 6 zainstalowana jest rura
wyparna ze szkla kwarcowego, o zanieczyszczeniu 8 ppm, srednicy 200 mm i dlugosci 5m. Jako kolumna
rektyfikacyjna zostal zainstalowany zespól pieciu pólek z topionego kwarcu, czystosc 98%, wzglednie szkla
borokrzemowego. Przy pomocy tlokowej pompy dozujacej doprowadzano przez wymiennik ciepla do glowicy
kolumny rektyfikacyjnej 400 kg/godz. kwasu siarkowego o stezeniu 70%. Kwas siarkowy byl zanieczyszczony
dwoma zwiazkami organicznymi, glównie mono- i dwunitrotoluenem. Temperatura kwasu wprowadzanego do
kolumny wynosila 100°C, a temperatura oparów wychodzacych w tym samym miejscu 113°C. Przy skropleniu
goracych oparów i ochlodzeniu do temperatury 25°C powstala faza wodna i organiczna. Faza organiczna mogla
byc zawracana do procesu. Faza wodna zawierala niewielkie ilosci kwasu siarkowego. Stop soli byl ogrzewany do
460°C i w stopniu wyparnym schladzal sie do 400°C. Kwas siarkowy, wyplywajacy z czesci wyparnej posiadal
stezenie 96% i temperature 314°C. W chlodnicy mieszalnikowej kwas byl wstepnie chlodzony przez zmieszanie
z kwasem zimnym, a przed ostatecznym odprowadzeniem z instalacji wyparnej byl chlodzony do 25°C
w chlodnicach zraszanych woda.
Przyklad II. W instalacji analogicznej jak opisana w przykladzie I, ustalono ilosc doprowadzanego
kwasu siarkowego o stezeniu 70% na 225 kg/godz. Jakosc kwasu byla porównywalna z kwasem opisanym
w przykladzie I. Temperatura kwasu wprowadzanego na kolumne rektyfikacyjna wynosila 102°C, temperatura
przy wejsciu do rury wyparnej 250°C, a temperatura przy wyjsciu z rury wyparnej 323°C. Temperatura oparów
przy wyjsciu z czesci wyparnej wynosila 290°C, przy wyjsciu z kolumny rektyfikacyjnej 152°C a przy wyjsciu
z instalacji 35°C. Na pólke zasilajaca jednostki wyparnej dodawano 0,5-1% objetosciowo kwasu azotowego
o stezeniu 65%, w przeliczeniu na odplywajacy kwas siarkowy. Stop soli przy wejsciu do jednostki wyparnej
posiadal temperature 445°C a przy wejsciu 415°C. Stezenie kwasu na pierwszej pólce dzwonowej wynosilo
73,9% H2S04, na drugiej- 76,1% H2S04, na trzeciej - 85,2% H2S04, na czwartej - 95,6% H2S04 a na
piatej—96,6% H2S04. Zatezony kwas posiadal stezenie 97,8% H2S04. Zawartosc wegla obnizyla sie
z poczatkowej wartosci 1,2% na 0,0004%.
Pryklad III. W aparaturze o ukladzie podobnym do przedstawionego na fig. 7, przeróbce poddawano
odpadowy kwas siarkowy z procesu nitracji. Stezenie poczatkowe wynosilo 75% H2S04. Kolumna rektyfikacyj¬
na skladala sie z czterech pólek dzwonowych ze szkla kwarcowego. Temperatura na poszczególnych pólkach
dzwonowych wynosila na pierwszej pólce 100°C, na drugiej- 175°C, na trzeciej - 240°C, a na
czwartej -318°C. Temperatura kwasu doprowadzanego na kolumne rektyfikacyjna wynosila 99°C, a do rury
wyparnej 318°C. Temperatura scianek zewnetrznych rury wyparnej wynosila 430°C. Zatezony kwas posiadal
stezenie 98,2% H2S04 i zawieral 0,0003% C, 0,034% N02 i 0,0028% Fe.
Przyklad IV. W instalacji pracujacej wedlug sposobu przedstawionego schematycznie na fig. 9,
zatezano odpadowy kwas siarkowy o stezeniu 70%. Kolumna rektyfikacyjna w tym przypadku posiadala
konstrukcje kolumny z wypelnieniem. Zatezony kwas utrzymywany byl w obiegu przy pomocy pompy 22a.
Ilosc przepompowywanego kwasu w stosunku do ilosci kwasu odprowadzanego z procesu wynosila jak 3:1.
Kwas krazacy w obiegu i kwas odprowadzany jako produkt posiadaly stezenie 95,3% H2S04. W kolumnie
z wypelnieniem ulegal on zatezeniu do 85% H2S04 i zawieral juz tylko niewielkie ilosci zanieczyszczen
organicznych. Zanieczyszczenia te utleniano przez dodanie 1 % objetosciowych kwasu azotowego o stezeniu 65%,
w przeliczeniu na odprowadzany kwas siarkowy. Kwas siarkowy znajdujacy sie w obiegu mial temperature
280°C, a kwas wyplywajacy z kolumny z wypelnieniem do czesci wyparnej temperature 265°C. Temperatura
oparów odchodzacych przy wyjsciu z rury wyparnej wynosila 307°C. Kolumne rektyfikacyjna opuszczaly opary
o temperaturze 110°C.
We wszystkich przedstawionych przykladach ilosci odgazów byly bardzo male. Tylko niewielkie slady
S02 mozna bylo oznaczyc analitycznie. Glówny skladnik odgazów stanowil dwutlenek wegla.
Claims (20)
1. Sposób rozdzielania cieklych mieszanin substancji korodujacych, przez odparowanie latwiej lotnych skladników przy posrednim doprowadzeniu ciepla w cienkim filmie cieczy, wzdluz gietej pionowej scianki z obojetnego, termicznie odpornego materialu, znamienny tym, ze scianka jest ogrzana przez znajdujace sie z nia w kontakcie, obojetne wzgledem mieszaniny przerabianych substancji, ciekle medium, do którego w sposób ciagly jest doprowadzane cieplo przy pomocy stopu krazacego w obiegu i podgrzewanego w posrednim urzadzeniu grzejnym.6 16 984
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze film cieczy wytworzony jest na wewnetrznej stronie pionowej rury otoczonej podwójnym plaszczem, a w wewnetrznym plaszczu, jako medium przenoszace cieplo, znajduje sie obojetny wzgledem mieszaniny substancji stop, który jest ogrzewany przez stop krazacy w obiegu w zewnetrznym plaszczu, do którego w sposób ciagly doprowadzane jest cieplo.
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze film jest wytwarzany na zewnetrznej stronie pionowej rury, w której wnetrzu znajduje sie obojetne medium.
4. "'4. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze w celu poprawienia wymiany ciepla, stop w wewnetrznym plaszczu poruszany jest w sposób wymuszony.
5. SposóB wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze mieszanina rozdzielonych substancji jest ogrzewana przez wymiane ciepla z oddzielona ciekla i/lub parowa frakcja.
6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze podgrzana mieszanina rozdzielanych substancji, przed wprowadzeniem do stopnia wyparnego podlega wymianie masy z oparami,
7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze rozdzielana mieszanine stanowia rozcienczone kwasy, korzystnie kwas siarkowy, które sa zatezane i/lub oczyszczane.
8. Sposób wedlug zastrz. 7, znamienny tym, ze jako mieszanine rozdzielanych substancji stosuje sie kwas siarkowy o stezeniu 50-80%.
9. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stopien wyparny jest podzielony na szereg stopni.
10. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze film cieczy wytwarzany jest w postaci filmu zraszajacego, wstepujacego lub opadajacego.
11. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jest prowadzony przy cisnieniu okolo 1-5 atmo¬ sfer.
12. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jest prowadzony w atmosferze gazu obojetnego.
13. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze obojetny stop stanowi laznia ze stopionego metalu a krazacy w obiegu stop stanowia stopione sole.
14. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w krazacym stopie utrzymywany jest gradient temperaturowy odpowiadajacy stanowi wrzenia mieszaniny rozdzielanych substancji.
15. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze do mieszaniny rozdzielanych substancji dodawane sa substancje pomocnicze.
16. Urzadzenie do rozdzielania ciektych mieszanin substancji korodujacych, przez odparowanie latwo wrzacej frakcji przy posrednim doprowadzeniu ciepla, znamienne tym, ze sklada sie z wymiennika ciepla (3) i stopnia wyparnego (5) z rura wyparna (5a) wykonana z obojetnego, termicznie odpornego materialu, plaszcza (5b) otaczajacego rure wyparna (5a), zawierajacego obojetne ciekle medium oraz z zewnetrznego plaszcza (5d) otaczajacego plaszcz (5b), zawierajacego krazacy w obiegu stop, urzadzenia ogrzewczego (15) dla stopu krazacego w obiegu oraz chlodnicy (9) wzglednie kondensatora (11) do chlodzenia oddzielonej cieklej wzglednie parowej frakcji.
17. Urzadzenie wedlug zastrz. 16, znamienne tym, ze rura wyparna (5a) jest wykonana z kwarcu.
18. Urzadzenie wedlug zastrz. 16, znamienne tym, ze zawiera szereg rur wyparnych (5a) polaczonych równolegle i/lub szeregowo.
19. Urzadzenie wedlug zastrz. 16, z n a m i e n n e tym, ze miedzy wymiennikiem ciepla i stopniem wyparnym (5) wlaczona jest kolumna odpedowa (6).
20. Urzadzenie wedlug zastrz. 16, znamienne tym, ze w rurze wyparnej (5a) znajduje sie wyparnik (5f).86 984 z- vj r23 'l~6 \ 22 FIG. 4 22 FIG. 3 F!G.3a FIG. 686 984 6a- 6b- 6c- h- 6d, 5-~ 5a W-Sb 5c 5d U5e HO 7 ^ \77Z0 -5a -Sb ¦Sc -5d -5e -6a -6b no. 8 23 22a-lQ 22 + na: 1ZZZ2 te u ^ T5 FIG. 9 Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 10 zl
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19732311085 DE2311085A1 (de) | 1973-03-06 | 1973-03-06 | Trennung von fluessigen aggressiven stoffgemischen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL86984B1 true PL86984B1 (pl) | 1976-06-30 |
Family
ID=5873941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1974169243A PL86984B1 (pl) | 1973-03-06 | 1974-03-04 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3933575A (pl) |
| JP (1) | JPS49119863A (pl) |
| BE (1) | BE811835A (pl) |
| DD (1) | DD111293A5 (pl) |
| DE (1) | DE2311085A1 (pl) |
| FR (1) | FR2222112B1 (pl) |
| NL (1) | NL7402971A (pl) |
| PL (1) | PL86984B1 (pl) |
| SE (1) | SE387250B (pl) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH606940A5 (pl) * | 1976-06-18 | 1978-11-30 | Bertrams Ag Hch | |
| CH604798A5 (pl) * | 1976-06-18 | 1978-09-15 | Bertrams Ag Hch | |
| CH641126A5 (en) * | 1979-06-13 | 1984-02-15 | Bertrams Ag | Process and system for regenerating sulphuric acid |
| EP0021210B1 (de) * | 1979-06-13 | 1983-07-13 | Bayer Ag | Verdampfer zum Konzentrieren von Mineralsäure, insbesondere Schwefelsäure |
| DE2928598C2 (de) * | 1979-07-14 | 1984-01-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Reinigung fluoridhaltiger Abfallschwefelsäure |
| US4936955A (en) * | 1988-08-12 | 1990-06-26 | Alameda Instruments, Inc. | Hydrofluoric acid reprocessing for semiconductor standards |
| US4980032A (en) * | 1988-08-12 | 1990-12-25 | Alameda Instruments, Inc. | Distillation method and apparatus for reprocessing sulfuric acid |
| US5061348A (en) * | 1988-08-12 | 1991-10-29 | Alameda Instruments | Sulfuric acid reprocessor with continuous purge of second distillation vessel |
| US5246549A (en) * | 1989-05-15 | 1993-09-21 | John Heil | Vacuum distillation system utilizing loose polymer lining |
| ES2788693T3 (es) * | 2009-11-02 | 2020-10-22 | Chem Group Inc | Proceso de purificación de fluidos de procesamiento |
| DE102013000316A1 (de) * | 2013-01-10 | 2014-07-10 | Brückner Maschinenbau GmbH & Co. KG | Vorrichtung zum Entgasen von Polymerschmelzen |
| CN105233517B (zh) * | 2015-10-14 | 2017-03-29 | 长岭炼化岳阳工程设计有限公司 | 内置降膜式重沸器精馏塔及其精馏方法 |
| CN112337112A (zh) * | 2020-09-30 | 2021-02-09 | 浙江鸿裕环保科技有限公司 | 一种新型蒸发器 |
| DE102020131827A1 (de) * | 2020-12-01 | 2022-06-02 | Andreas Wilk | Vorrichtung und Verfahren zur Aufkonzentrierung korrosiver Flüssigkeiten |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1323847A (en) * | 1919-12-02 | of tubize | ||
| US872533A (en) * | 1906-01-10 | 1907-12-03 | Alexander H Mcdonald | Evaporating apparatus. |
| US1141266A (en) * | 1914-05-26 | 1915-06-01 | Fritz Raschig | Absorption and reaction tower for acids, &c. |
| DE304305C (pl) * | 1916-08-31 | |||
| US1429177A (en) * | 1921-05-24 | 1922-09-12 | Eastman Kodak Co | Apparatus for nitric acid purification |
| US1668504A (en) * | 1925-09-05 | 1928-05-01 | William Shackleton | Method of and apparatus for the concentration or purification of caustic soda or other suitable material |
| DE607216C (de) * | 1932-11-20 | 1934-12-19 | Metallgesellschaft Ag | Gewinnung von Schwefelsaeure durch Kondensation |
| US2348328A (en) * | 1941-01-10 | 1944-05-09 | Du Pont | Process of and apparatus for treating sulphuric acid containing dissolved nitro bodies |
| US2492333A (en) * | 1945-05-15 | 1949-12-27 | Swindin Norman | Apparatus for continuously purifying and concentrating acid pickling liquors |
| US2541069A (en) * | 1947-06-07 | 1951-02-13 | Standard Oil Co | Liquid thermal diffusion apparatus |
| US2793939A (en) * | 1951-07-02 | 1957-05-28 | Bayer Ag | Apparatus for efeecting an exchange process between a liquid and a gas |
| US3106515A (en) * | 1954-09-20 | 1963-10-08 | Eastman Kodak Co | Process and apparatus for concentrating nitric acid |
| FR1169790A (fr) * | 1957-03-18 | 1959-01-06 | Tubes d'échangeur de chaleur | |
| NL121841C (pl) * | 1958-01-22 | |||
| DE1233368B (de) * | 1962-08-13 | 1967-02-02 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Verfahren zur kontinuierlichen Destillation von Schwefelsaeure in Apparaturen aus keramischen Werkstoffen |
| FR1418999A (fr) * | 1964-10-15 | 1965-11-26 | Procédé pour assurer l'échange de chaleur entre fluides | |
| US3303098A (en) * | 1965-07-19 | 1967-02-07 | James P Lagowski | Nuclear-power sea-water conversion plant |
| DE1579845A1 (de) * | 1966-12-07 | 1970-12-03 | Bertrams Ag Hch | Elektrische Nachstrom-Speicherheizung |
| JPS442712Y1 (pl) * | 1967-12-11 | 1969-01-31 | ||
| JPS4941378B1 (pl) * | 1970-07-21 | 1974-11-08 |
-
1973
- 1973-03-06 DE DE19732311085 patent/DE2311085A1/de active Pending
-
1974
- 1974-02-15 US US05/442,937 patent/US3933575A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-03-04 DD DD176924A patent/DD111293A5/xx unknown
- 1974-03-04 PL PL1974169243A patent/PL86984B1/pl unknown
- 1974-03-04 BE BE141612A patent/BE811835A/xx unknown
- 1974-03-04 JP JP49024322A patent/JPS49119863A/ja active Pending
- 1974-03-05 SE SE7402924A patent/SE387250B/xx unknown
- 1974-03-05 NL NL7402971A patent/NL7402971A/xx unknown
- 1974-03-06 FR FR7407659A patent/FR2222112B1/fr not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE811835A (fr) | 1974-09-04 |
| FR2222112B1 (pl) | 1978-04-21 |
| FR2222112A1 (pl) | 1974-10-18 |
| DD111293A5 (pl) | 1975-02-12 |
| JPS49119863A (pl) | 1974-11-15 |
| US3933575A (en) | 1976-01-20 |
| NL7402971A (pl) | 1974-09-10 |
| DE2311085A1 (de) | 1974-09-19 |
| SE387250B (sv) | 1976-09-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5032373A (en) | Apparatus and process | |
| PL86984B1 (pl) | ||
| EP0130967B1 (en) | Heat recovery from concentrated sulfuric acid | |
| CA1263873A (en) | Process for the production of nitrobenzene | |
| EP0181313B2 (en) | Heat recovery from concentrated sulfuric acid | |
| KR960012707B1 (ko) | 황산의 정제 및 농축 방법 | |
| US4014735A (en) | Concentration and separation of corrosive liquid mixtures | |
| CA1152285A (en) | Process and apparatus for regenerating sulphuric acid | |
| US8282837B2 (en) | Method and system of destruction of volatile compounds in wastewater | |
| EP1864947A2 (en) | Process for the recovery of sulfuric acid | |
| CH641126A5 (en) | Process and system for regenerating sulphuric acid | |
| DE19807632A1 (de) | Vorrichtung zum Konzentrieren und Reinigen von Schwefelsäure | |
| US5028396A (en) | Apparatus formed of high silicon chromium/nickel in steel in the manufacture of sulpheric acid | |
| PL121968B1 (en) | Method of and apparatus for pure cyanogen chloride manufacturea | |
| AU704554B2 (en) | Process for the recovery of waste sulphuric acid | |
| US2034554A (en) | Production of oleum | |
| CA1158836A (en) | Process and apparatus for regenerating sulphuric acid | |
| JPH0680408A (ja) | 硫酸の濃縮および精製法 | |
| PL68394B1 (pl) | ||
| PL94355B1 (pl) | ||
| JPH0942501A (ja) | 処理槽の安全弁 | |
| HK1125621B (en) | Device for purification of waste sulfuric acid | |
| HK1125621A1 (en) | Device for purification of waste sulfuric acid | |
| PL65986B1 (pl) | ||
| PL68969B1 (pl) |