PL85485B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL85485B1
PL85485B1 PL1972159977A PL15997772A PL85485B1 PL 85485 B1 PL85485 B1 PL 85485B1 PL 1972159977 A PL1972159977 A PL 1972159977A PL 15997772 A PL15997772 A PL 15997772A PL 85485 B1 PL85485 B1 PL 85485B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
current
density
electrolyte
range
cathode
Prior art date
Application number
PL1972159977A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Akademie Der Wissenschaften Der Ddr X 1199 Berlin
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Akademie Der Wissenschaften Der Ddr X 1199 Berlin filed Critical Akademie Der Wissenschaften Der Ddr X 1199 Berlin
Publication of PL85485B1 publication Critical patent/PL85485B1/pl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/14Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
    • H01F41/24Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids
    • H01F41/26Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids using electric currents, e.g. electroplating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/18Electroplating using modulated, pulsed or reversing current
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/60Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
    • C25D5/615Microstructure of the layers, e.g. mixed structure
    • C25D5/617Crystalline layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania cien¬ kich warstw metalowych magnetycznie twardych, zwlasz¬ cza na bazie kobaltowo-fosforowej lub kobaltowo-niklo- wo-fosforowej droga elektrolizy, na elastycznym podlozu, które do warstwy sa stosowane na przyklad jako nosniki informacji. { Znany sposób • wytwarzania warstw metalowych, w szczególnosci kobalfowo-fosforowych lub z kobaltowo- niklowo-fosforowych polega na tym, ze na elastyczna tas¬ me nanosi sie warstwe metaliczna droga parowania pod zmniejszonym cisnieniem, metalizacje katodowa itd, a na¬ stepnietakobrobiona wstepnie tasmeelastyczna przylacza sie jako katode do bieguna ujemnego zródla pradu stalego i przeciaga ze stala szybkoscia przez kapiel elektrolitycz¬ na. Jako elektrolit stosuje sie roztwory odpowiednich soli metali.Wskutek dzialania pradu stalego na metalicznej wars¬ twie tasmy elastycznej osadza sie warstwa metalu magne¬ tycznie twarda. Wytworzone tym sposobem magnetycznie twarde warstwy metalu majamalatwardosc magnetyczna.Najwieksze uzyskiwane natezenie powsciagajaceindukcji , wystepuje przy okolo 800 erstedów. Stosunek indukcji szczatkowej do indukcji nasycenia wynosi w najkorzyst¬ niejszym przypadku 0,6. Przy takich wlasciwosciach ma¬ gnetycznych powstajaca gestosc pamieci w tego rodzaju warstwach jest niewielka.Celem wynalazku jest podwyzszenie gestosci pamieci magnetycznie twardych watstw metalu oraz opracowanie sposobu wytwarzania cienkich warstw metalowych ma¬ gnetycznie twardych na podlozu elastycznym, któreposia¬ la daja wysokie natezenie powsciagajace indukcji i duza indukcje szczatkowa.Cel ten osiagnietodzieki temu, zecienkiewarstwymeta¬ lowe magnetycznie twarde, zwlaszczana bazie kobaltowo- fosforowej lub kobaltowo-niklowo-fosforowej osadza sie elektrolitycznie na podlozu elastycznym, w szczególnosci na tasmie poliestrowej, w ten sposób, ze podloze pokryte warstwa metalowa umieszcza sie w kapieli elektrolitycz¬ nej, która zawiera jako elektrolit roztwór soli metalu, przylacza sie jako katode do bieguna ujemnego zródla pradu a nastepnie przeciaga sie przez ta kapiel ze stala szybkoscia.Do elektrolitu dodaje sie od 2 do 30 g/litrsoli dwusodo- wej kwasu etylenodwuaminoczterooctowego (komplekson III) a jego wartosc pH ustalasieznanym sposobemwgrani¬ cach pomiedzy 2,5 do 6. Nastepnie podloze zanurzone w elektrolicie poddaje sie dzialaniu pradu impulsowego o charakterystyce prostokatnej, i o czestotliwosci wgrani¬ cach pomiedzy 2 do 10 Hz, amplitudzie zmieniajacej sie od wartosci ujemnych do dodatnich i o stosunku impulsowa¬ nia w granicach 2 do 4 dla którego wazna jest zaleznosc . t- T-8 wzór nr 1 gdzie T oznacza czas trwania jednego okresu, a 6 czas, w którym czynna jest w ciagu jednego okresu gestosc katodowa pradu i^, oraz o czynnej gestosci praduiw od 0,5 8548585485 do 7 A/dm1. Przy tym gestosc anodowa pradu iBl wynika z zaleznosci "*-¦ r- wzór nr 2 5 1- Prad impulsowy powoduje zmiane pomiedzy katodo¬ wym pokrywaniem, a anodowym ubywaniem przez co 10 osadza sie drobnokrystaliczna warstwa, która stwarza warunki dla ustalenia sie korzystnychwlasciwosci magne¬ tycznych w plaszczyzniewarstwy. Przez zmiane czestotoli- wosci, stosunku impulsowania i czynnej wzglednie kato¬ dowej gestosci pradu oddzialywuje sie na osadzaniewars- 15 twy. W zaleznosci od celu zastosowania cienkiej warstwy magnetycznie twardej nastawia sie maksymalne wartosci natezeniapowsciagajacego indukcjilubindukcjiszczatko¬ wej wzglednie optymalne wartosci obu tych parametrów.Po elektrolitu dodaje sie najkorzystniej 10 g/litr soli dwu- 20 sodowej kwasu efylsnodwuaminoczterooctowego a wartosc pH ustala sie przy kapielach chlorkowych najkorzystniej 3,5 a przy kapielach siarczkowych najkorzystniej na 5,5.Korzystnejestprzeprowadzanie sposobu zwlaszczaprzy czestotliwosciach 4 Hz i przy stosunku impulsowania 3, 29 przy czynnej gestosci pradu 1,5 A/dm'. Korzystnym jest realizowanie sposobu przy temperaturze kapieli elektroli¬ tycznej w granicach 15 do 30°C, szczególnie przy 22°C.Sposób wedlug wynalazku umozliwiaekonomiczne wy¬ twarzania cienkich warstw magnetycznie twardych, o na- 30 tezeniu powsciagajacym indukcji 1500 erstedów i o sto¬ sunku indukcji magnetycznej szczatkowej 0,7.Wedlug tego sposobu mozna równiez wytwarzac tego rodzaju warstwy na bazie kobaltowo-wolframowej lub kob*ltowc~niklowo-wolframowej. Dla osadzania czastek 33 metalu mozna stosowac zarówno sole chlorków metali, jak równiez sole siarczków metali. Szczególna zaleta tego sposobu jest to, ze elektrolize mozna przeprowadzac w temperaturze pokojowej, a zatem nie jest potrzebne dodatkowe podgrzewanie elektrolitu. Sposób wedlug wy- 40 nalazku mozna równiez stosowac w celu wytwarzania elastycznego podloza z naniesiona dwustronnie warstwa magnetyczna.Sposób wedlug wynalazku jest przedstawiony w przy¬ kladzie orazna rysunku, który przedstawia przebieg pradu 45 impulsowego.Przyklad. Jednostronnie pokryta miedzia tasme polie¬ strowa o szerokosci 1/4 cala umieszcza sie w kapieli elek¬ trolitycznej i przylacza sie do ujemnego bieguna zródla pradu jako katode. Elektrolit ma nastepujacysklad: so 100 g/litr Go S04 7H,0 o najwyzszym stopniu czystosci 50 g/litr NiSC4 7H,0 o najwyzszym stopniu czystosci 55 g/litr NaHtPO H*0 o najwyzszym stopniu czystosci g/litr (NHJ, S04 o najwyzszym stopniu czystosci g/litr soli dwusodowej kwasu etylenodwuaruinocztero- eo octowego i temperature 20*C. Wartosc pHelektrolitu usta¬ la sie na 5,5. Jako zródlo pradu stosuje sie zasilacz stabili¬ zowany elektronicznie, dostarczajacy impulsów prosto¬ katnych ujemnych 1 i dodatnich 2. Prad impulsowania ma czestotliwosc 4 Hz i stosunek impulsowania 4:1. Czynna 65 gestosc pradu wynosi 1,5 A/dm2, a katodowa gestosc pra¬ du isk ,-10,5 A/dm2.Wedlug wzoru nr 2 ustala sie anodowa gestosc pradu if„ wynoszaca 34,5 A/cm*. Po wlaczeniupradu impulsowania przeciaga sie nieprzerwanie tasme przez kapiel ze stala szybkoscia 23,4 cm/minute. Na podlozu pokrytym miedzia osadza sie przy tym warstwa koballowo-niklowo-fosforo- wa o grubosci 0,1 mikrona. Warstwa ta charakteryzuje sfe natezeniem powsciagajacym indukcji 1530 erstedów i sto¬ sunkiem indukcji magnetycznej szczatkowej 0,76. Wprzy¬ padku powlekania pradem stalym z tego samego elektroli¬ tu naniesiona zostaje warstwa, która wykazuje jedynie natezenie powsciagajace indukcji 800 erstedów przy sto¬ sunku indukcji magmetycznej szczatkowej 0,6. PL

Claims (7)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania cienkich warstw metalowych magnetycznie twardych, zwlaszcza na bazie kobaltowo- fosforowej lub kobaltowo-niklowo-fosforowej, droga ele¬ ktrolizy na elastycznym podlozu, w szczególnosci na tas¬ mie poliestrowej, przy czym elastyczne podloze pokryte metaliczna warstwa umieszcza siew kapieli elektrolitycz¬ nej zawierajacej jako elektrolit roztwórsolimetali, przyla¬ cza sie je jako katode do ujemnego bieguna zródla pradu a nastepnie przeciaga sie przez kapiel ze stala szybkoscia, znamienny tym, ze do elektrolitu dodaje sie 2 do 30 g/litr soli dwusodowej kwasu etylenodwuaminoczterooctowego a jego wartosc pH ustala sie w znany sposób w przedziale 2,5 do 6, a nastepnie poddaje sie dzialaniu pradu impulso¬ wego o charakterystyce prostokatnej i czestotliwosci w przedziale 2 do 10 Hz, o amplitudziezmieniajacej sie od wartosci ujemnych (1) do dodatnich (2) i o stosunkuimpul¬ sowania w przedziale pomiedzy 2 do 4, który ustala sie wedlug zaleznosci gdzie T oznacza czas trwania jednego okresu, a 6 czas, w którym czynna jest w ciagu jednego okresu gestosc katodowa pradu i8k, oraz o czynnej gestosci pradu (Iw) od 0,5 do 7 A/dm2 przy gestosci katodowej pradu (v) wyno¬ szacej co najmniej 10 A, przy czym gestosc anodowa pradu (i,,) ustala sie wedlug zaleznosci U- 1- T
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1 inamiasmy tym, ze do elek¬ trolitu dodaje sie najkorzystniej 10 g/litr czterooctanu soli dwusodowej kwasu etylenodwuaminoczterooctowego.
  3. 3. Sposób wedlug zastrz. 2, zaamiamy tym, ze wartosc pH dla kapielichlorkowychustala sienajkorzystniej na3,5 a dla kapieli siarczkowych na 5,5.
  4. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, amunlssmytym, zeeaastotii- wosc pradu impulsowania o charakterystyce prostokatnej ustala sie najkorzystniej na 4 Hz.
  5. 5. Sposób wedlug zastrz.' 1 i 4, masaUwpy tym, ze stosunek impulsowania ustala sie najkorzystniej na 3.
  6. 6. Sposób wedlug zastrz. 1, 4 i 5, mami—my tym, ze czynna gestosc pradu ustala sie najkorzystniej n% 1,5 A/dm*.
  7. 7. Sposób wedlug zastrz. 1, mamlemy tyba, ze tempera¬ ture kapieli elektrolitycznej utrzymuje sie w przedziale 15 do 30°C, najkorzystniej 22°C.85485 PM —£ E __.J._i. 'M. J PL
PL1972159977A 1972-01-27 1972-12-29 PL85485B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD160540A DD106414A1 (pl) 1972-01-27 1972-01-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL85485B1 true PL85485B1 (pl) 1976-04-30

Family

ID=5485164

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1972159977A PL85485B1 (pl) 1972-01-27 1972-12-29

Country Status (7)

Country Link
DD (1) DD106414A1 (pl)
DE (1) DE2301210A1 (pl)
FR (1) FR2169147A1 (pl)
NL (1) NL7300122A (pl)
PL (1) PL85485B1 (pl)
SE (1) SE379801B (pl)
SU (1) SU496335A1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
FR2169147B3 (pl) 1976-01-30
FR2169147A1 (en) 1973-09-07
DE2301210A1 (de) 1973-09-20
DD106414A1 (pl) 1974-06-12
NL7300122A (pl) 1973-07-31
SU496335A1 (ru) 1975-12-25
SE379801B (pl) 1975-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4652348A (en) Method for the production of alloys possessing high elastic modulus and improved magnetic properties by electrodeposition
Brenner et al. Electrodeposition of alloys of phosphorus with nickel or cobalt
US5433797A (en) Nanocrystalline metals
Yahalom et al. Formation of composition-modulated alloys by electrodeposition
JPH08503522A (ja) ナノ結晶金属
JPS59136491A (ja) 非シアン化物浴による銅めっき方法
EP0293107A2 (en) An aqueous electrolytic cobalt-iron plating bath and a method of electrodeposition using same
CN105780068A (zh) 单脉冲电沉积Ni-Fe合金磁性镀层的方法
US4159926A (en) Nickel plating
US3802854A (en) Process for forming magnetic metal deposits on a flexible base for use as information data carrier product thereof
PL85485B1 (pl)
JPS58177494A (ja) アルミニウム被覆部品の陽極酸化浴および陽極酸化方法
US20080197021A1 (en) Method to make superior soft (low Hk), high moment magnetic film and its application in writer heads
Popov et al. Fundamental aspects of pulsating current metal electrodeposition VI: The comparison of electrode surface roughening in pulsating current and periodic reverse current electrodeposition of metals
Vértes et al. A comparative study of Mössbauer spectroscopy and X-ray diffraction for the elucidation of the microstructure of electrodeposited Fe Cr Ni alloys
Djokić et al. Electrodeposition of nickel-iron alloys
RU2133305C1 (ru) Электролит блестящего никелирования
GB1396436A (en) Process for the electrolytic production of hard-magnetic layers
JPH0230790A (ja) 合金電着方法
ES2089460T3 (es) Baño y procedimiento electrolitico de deposito de un revestimiento instantaneo de una aleacion de hierro-cinc con elevado porcentaje en hierro sobre un sustrato galvanizado aleado.
US3374154A (en) Electroforming and electrodeposition of stress-free nickel from the sulfamate bath
SU1758091A1 (ru) Способ получени железо-ванадиевого покрыти
RU2349686C1 (ru) Способ электроосаждения покрытий сплавом кобальт-никель
US3506547A (en) Nickel-iron electrolytes containing hydrolyzing metal ions and process of electro-depositing ferromagnetic films
Djokić et al. The effect of ac superimposed on dc and pulsating potential on the coercivity of electrodeposited Ni-Fe alloy thin films