PL85485B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL85485B1 PL85485B1 PL1972159977A PL15997772A PL85485B1 PL 85485 B1 PL85485 B1 PL 85485B1 PL 1972159977 A PL1972159977 A PL 1972159977A PL 15997772 A PL15997772 A PL 15997772A PL 85485 B1 PL85485 B1 PL 85485B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- current
- density
- electrolyte
- range
- cathode
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical class [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IGOJDKCIHXGPTI-UHFFFAOYSA-N [P].[Co].[Ni] Chemical compound [P].[Co].[Ni] IGOJDKCIHXGPTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- SIBIBHIFKSKVRR-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynecobalt Chemical compound [Co]#P SIBIBHIFKSKVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- MJOQJPYNENPSSS-XQHKEYJVSA-N [(3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxyoxan-3-yl] acetate Chemical compound CC(=O)O[C@@H]1CO[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O MJOQJPYNENPSSS-XQHKEYJVSA-N 0.000 claims 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- BDDLHHRCDSJVKV-UHFFFAOYSA-N 7028-40-2 Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O BDDLHHRCDSJVKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003109 Disodium ethylene diamine tetraacetate Substances 0.000 description 1
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YCOASTWZYJGKEK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni].[W] Chemical compound [Co].[Ni].[W] YCOASTWZYJGKEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 150000003841 chloride salts Chemical class 0.000 description 1
- JPNWDVUTVSTKMV-UHFFFAOYSA-N cobalt tungsten Chemical compound [Co].[W] JPNWDVUTVSTKMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 235000019301 disodium ethylene diamine tetraacetate Nutrition 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002439 hemostatic effect Effects 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/24—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids
- H01F41/26—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids using electric currents, e.g. electroplating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/18—Electroplating using modulated, pulsed or reversing current
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/615—Microstructure of the layers, e.g. mixed structure
- C25D5/617—Crystalline layers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania cien¬ kich warstw metalowych magnetycznie twardych, zwlasz¬ cza na bazie kobaltowo-fosforowej lub kobaltowo-niklo- wo-fosforowej droga elektrolizy, na elastycznym podlozu, które do warstwy sa stosowane na przyklad jako nosniki informacji. { Znany sposób • wytwarzania warstw metalowych, w szczególnosci kobalfowo-fosforowych lub z kobaltowo- niklowo-fosforowych polega na tym, ze na elastyczna tas¬ me nanosi sie warstwe metaliczna droga parowania pod zmniejszonym cisnieniem, metalizacje katodowa itd, a na¬ stepnietakobrobiona wstepnie tasmeelastyczna przylacza sie jako katode do bieguna ujemnego zródla pradu stalego i przeciaga ze stala szybkoscia przez kapiel elektrolitycz¬ na. Jako elektrolit stosuje sie roztwory odpowiednich soli metali.Wskutek dzialania pradu stalego na metalicznej wars¬ twie tasmy elastycznej osadza sie warstwa metalu magne¬ tycznie twarda. Wytworzone tym sposobem magnetycznie twarde warstwy metalu majamalatwardosc magnetyczna.Najwieksze uzyskiwane natezenie powsciagajaceindukcji , wystepuje przy okolo 800 erstedów. Stosunek indukcji szczatkowej do indukcji nasycenia wynosi w najkorzyst¬ niejszym przypadku 0,6. Przy takich wlasciwosciach ma¬ gnetycznych powstajaca gestosc pamieci w tego rodzaju warstwach jest niewielka.Celem wynalazku jest podwyzszenie gestosci pamieci magnetycznie twardych watstw metalu oraz opracowanie sposobu wytwarzania cienkich warstw metalowych ma¬ gnetycznie twardych na podlozu elastycznym, któreposia¬ la daja wysokie natezenie powsciagajace indukcji i duza indukcje szczatkowa.Cel ten osiagnietodzieki temu, zecienkiewarstwymeta¬ lowe magnetycznie twarde, zwlaszczana bazie kobaltowo- fosforowej lub kobaltowo-niklowo-fosforowej osadza sie elektrolitycznie na podlozu elastycznym, w szczególnosci na tasmie poliestrowej, w ten sposób, ze podloze pokryte warstwa metalowa umieszcza sie w kapieli elektrolitycz¬ nej, która zawiera jako elektrolit roztwór soli metalu, przylacza sie jako katode do bieguna ujemnego zródla pradu a nastepnie przeciaga sie przez ta kapiel ze stala szybkoscia.Do elektrolitu dodaje sie od 2 do 30 g/litrsoli dwusodo- wej kwasu etylenodwuaminoczterooctowego (komplekson III) a jego wartosc pH ustalasieznanym sposobemwgrani¬ cach pomiedzy 2,5 do 6. Nastepnie podloze zanurzone w elektrolicie poddaje sie dzialaniu pradu impulsowego o charakterystyce prostokatnej, i o czestotliwosci wgrani¬ cach pomiedzy 2 do 10 Hz, amplitudzie zmieniajacej sie od wartosci ujemnych do dodatnich i o stosunku impulsowa¬ nia w granicach 2 do 4 dla którego wazna jest zaleznosc . t- T-8 wzór nr 1 gdzie T oznacza czas trwania jednego okresu, a 6 czas, w którym czynna jest w ciagu jednego okresu gestosc katodowa pradu i^, oraz o czynnej gestosci praduiw od 0,5 8548585485 do 7 A/dm1. Przy tym gestosc anodowa pradu iBl wynika z zaleznosci "*-¦ r- wzór nr 2 5 1- Prad impulsowy powoduje zmiane pomiedzy katodo¬ wym pokrywaniem, a anodowym ubywaniem przez co 10 osadza sie drobnokrystaliczna warstwa, która stwarza warunki dla ustalenia sie korzystnychwlasciwosci magne¬ tycznych w plaszczyzniewarstwy. Przez zmiane czestotoli- wosci, stosunku impulsowania i czynnej wzglednie kato¬ dowej gestosci pradu oddzialywuje sie na osadzaniewars- 15 twy. W zaleznosci od celu zastosowania cienkiej warstwy magnetycznie twardej nastawia sie maksymalne wartosci natezeniapowsciagajacego indukcjilubindukcjiszczatko¬ wej wzglednie optymalne wartosci obu tych parametrów.Po elektrolitu dodaje sie najkorzystniej 10 g/litr soli dwu- 20 sodowej kwasu efylsnodwuaminoczterooctowego a wartosc pH ustala sie przy kapielach chlorkowych najkorzystniej 3,5 a przy kapielach siarczkowych najkorzystniej na 5,5.Korzystnejestprzeprowadzanie sposobu zwlaszczaprzy czestotliwosciach 4 Hz i przy stosunku impulsowania 3, 29 przy czynnej gestosci pradu 1,5 A/dm'. Korzystnym jest realizowanie sposobu przy temperaturze kapieli elektroli¬ tycznej w granicach 15 do 30°C, szczególnie przy 22°C.Sposób wedlug wynalazku umozliwiaekonomiczne wy¬ twarzania cienkich warstw magnetycznie twardych, o na- 30 tezeniu powsciagajacym indukcji 1500 erstedów i o sto¬ sunku indukcji magnetycznej szczatkowej 0,7.Wedlug tego sposobu mozna równiez wytwarzac tego rodzaju warstwy na bazie kobaltowo-wolframowej lub kob*ltowc~niklowo-wolframowej. Dla osadzania czastek 33 metalu mozna stosowac zarówno sole chlorków metali, jak równiez sole siarczków metali. Szczególna zaleta tego sposobu jest to, ze elektrolize mozna przeprowadzac w temperaturze pokojowej, a zatem nie jest potrzebne dodatkowe podgrzewanie elektrolitu. Sposób wedlug wy- 40 nalazku mozna równiez stosowac w celu wytwarzania elastycznego podloza z naniesiona dwustronnie warstwa magnetyczna.Sposób wedlug wynalazku jest przedstawiony w przy¬ kladzie orazna rysunku, który przedstawia przebieg pradu 45 impulsowego.Przyklad. Jednostronnie pokryta miedzia tasme polie¬ strowa o szerokosci 1/4 cala umieszcza sie w kapieli elek¬ trolitycznej i przylacza sie do ujemnego bieguna zródla pradu jako katode. Elektrolit ma nastepujacysklad: so 100 g/litr Go S04 7H,0 o najwyzszym stopniu czystosci 50 g/litr NiSC4 7H,0 o najwyzszym stopniu czystosci 55 g/litr NaHtPO H*0 o najwyzszym stopniu czystosci g/litr (NHJ, S04 o najwyzszym stopniu czystosci g/litr soli dwusodowej kwasu etylenodwuaruinocztero- eo octowego i temperature 20*C. Wartosc pHelektrolitu usta¬ la sie na 5,5. Jako zródlo pradu stosuje sie zasilacz stabili¬ zowany elektronicznie, dostarczajacy impulsów prosto¬ katnych ujemnych 1 i dodatnich 2. Prad impulsowania ma czestotliwosc 4 Hz i stosunek impulsowania 4:1. Czynna 65 gestosc pradu wynosi 1,5 A/dm2, a katodowa gestosc pra¬ du isk ,-10,5 A/dm2.Wedlug wzoru nr 2 ustala sie anodowa gestosc pradu if„ wynoszaca 34,5 A/cm*. Po wlaczeniupradu impulsowania przeciaga sie nieprzerwanie tasme przez kapiel ze stala szybkoscia 23,4 cm/minute. Na podlozu pokrytym miedzia osadza sie przy tym warstwa koballowo-niklowo-fosforo- wa o grubosci 0,1 mikrona. Warstwa ta charakteryzuje sfe natezeniem powsciagajacym indukcji 1530 erstedów i sto¬ sunkiem indukcji magnetycznej szczatkowej 0,76. Wprzy¬ padku powlekania pradem stalym z tego samego elektroli¬ tu naniesiona zostaje warstwa, która wykazuje jedynie natezenie powsciagajace indukcji 800 erstedów przy sto¬ sunku indukcji magmetycznej szczatkowej 0,6. PL
Claims (7)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania cienkich warstw metalowych magnetycznie twardych, zwlaszcza na bazie kobaltowo- fosforowej lub kobaltowo-niklowo-fosforowej, droga ele¬ ktrolizy na elastycznym podlozu, w szczególnosci na tas¬ mie poliestrowej, przy czym elastyczne podloze pokryte metaliczna warstwa umieszcza siew kapieli elektrolitycz¬ nej zawierajacej jako elektrolit roztwórsolimetali, przyla¬ cza sie je jako katode do ujemnego bieguna zródla pradu a nastepnie przeciaga sie przez kapiel ze stala szybkoscia, znamienny tym, ze do elektrolitu dodaje sie 2 do 30 g/litr soli dwusodowej kwasu etylenodwuaminoczterooctowego a jego wartosc pH ustala sie w znany sposób w przedziale 2,5 do 6, a nastepnie poddaje sie dzialaniu pradu impulso¬ wego o charakterystyce prostokatnej i czestotliwosci w przedziale 2 do 10 Hz, o amplitudziezmieniajacej sie od wartosci ujemnych (1) do dodatnich (2) i o stosunkuimpul¬ sowania w przedziale pomiedzy 2 do 4, który ustala sie wedlug zaleznosci gdzie T oznacza czas trwania jednego okresu, a 6 czas, w którym czynna jest w ciagu jednego okresu gestosc katodowa pradu i8k, oraz o czynnej gestosci pradu (Iw) od 0,5 do 7 A/dm2 przy gestosci katodowej pradu (v) wyno¬ szacej co najmniej 10 A, przy czym gestosc anodowa pradu (i,,) ustala sie wedlug zaleznosci U- 1- T
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1 inamiasmy tym, ze do elek¬ trolitu dodaje sie najkorzystniej 10 g/litr czterooctanu soli dwusodowej kwasu etylenodwuaminoczterooctowego.
- 3. Sposób wedlug zastrz. 2, zaamiamy tym, ze wartosc pH dla kapielichlorkowychustala sienajkorzystniej na3,5 a dla kapieli siarczkowych na 5,5.
- 4. Sposób wedlug zastrz. 1, amunlssmytym, zeeaastotii- wosc pradu impulsowania o charakterystyce prostokatnej ustala sie najkorzystniej na 4 Hz.
- 5. Sposób wedlug zastrz.' 1 i 4, masaUwpy tym, ze stosunek impulsowania ustala sie najkorzystniej na 3.
- 6. Sposób wedlug zastrz. 1, 4 i 5, mami—my tym, ze czynna gestosc pradu ustala sie najkorzystniej n% 1,5 A/dm*.
- 7. Sposób wedlug zastrz. 1, mamlemy tyba, ze tempera¬ ture kapieli elektrolitycznej utrzymuje sie w przedziale 15 do 30°C, najkorzystniej 22°C.85485 PM —£ E __.J._i. 'M. J PL
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD160540A DD106414A1 (pl) | 1972-01-27 | 1972-01-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL85485B1 true PL85485B1 (pl) | 1976-04-30 |
Family
ID=5485164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1972159977A PL85485B1 (pl) | 1972-01-27 | 1972-12-29 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD106414A1 (pl) |
| DE (1) | DE2301210A1 (pl) |
| FR (1) | FR2169147A1 (pl) |
| NL (1) | NL7300122A (pl) |
| PL (1) | PL85485B1 (pl) |
| SE (1) | SE379801B (pl) |
| SU (1) | SU496335A1 (pl) |
-
1972
- 1972-01-27 DD DD160540A patent/DD106414A1/xx unknown
- 1972-12-29 PL PL1972159977A patent/PL85485B1/pl unknown
-
1973
- 1973-01-04 NL NL7300122A patent/NL7300122A/xx unknown
- 1973-01-11 DE DE2301210A patent/DE2301210A1/de active Pending
- 1973-01-12 SE SE7300475A patent/SE379801B/xx unknown
- 1973-01-23 FR FR7302259A patent/FR2169147A1/fr active Granted
- 1973-01-26 SU SU1877321A patent/SU496335A1/ru active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2169147B3 (pl) | 1976-01-30 |
| FR2169147A1 (en) | 1973-09-07 |
| DE2301210A1 (de) | 1973-09-20 |
| DD106414A1 (pl) | 1974-06-12 |
| NL7300122A (pl) | 1973-07-31 |
| SU496335A1 (ru) | 1975-12-25 |
| SE379801B (pl) | 1975-10-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4652348A (en) | Method for the production of alloys possessing high elastic modulus and improved magnetic properties by electrodeposition | |
| Brenner et al. | Electrodeposition of alloys of phosphorus with nickel or cobalt | |
| US5433797A (en) | Nanocrystalline metals | |
| Yahalom et al. | Formation of composition-modulated alloys by electrodeposition | |
| JPH08503522A (ja) | ナノ結晶金属 | |
| JPS59136491A (ja) | 非シアン化物浴による銅めっき方法 | |
| EP0293107A2 (en) | An aqueous electrolytic cobalt-iron plating bath and a method of electrodeposition using same | |
| CN105780068A (zh) | 单脉冲电沉积Ni-Fe合金磁性镀层的方法 | |
| US4159926A (en) | Nickel plating | |
| US3802854A (en) | Process for forming magnetic metal deposits on a flexible base for use as information data carrier product thereof | |
| PL85485B1 (pl) | ||
| JPS58177494A (ja) | アルミニウム被覆部品の陽極酸化浴および陽極酸化方法 | |
| US20080197021A1 (en) | Method to make superior soft (low Hk), high moment magnetic film and its application in writer heads | |
| Popov et al. | Fundamental aspects of pulsating current metal electrodeposition VI: The comparison of electrode surface roughening in pulsating current and periodic reverse current electrodeposition of metals | |
| Vértes et al. | A comparative study of Mössbauer spectroscopy and X-ray diffraction for the elucidation of the microstructure of electrodeposited Fe Cr Ni alloys | |
| Djokić et al. | Electrodeposition of nickel-iron alloys | |
| RU2133305C1 (ru) | Электролит блестящего никелирования | |
| GB1396436A (en) | Process for the electrolytic production of hard-magnetic layers | |
| JPH0230790A (ja) | 合金電着方法 | |
| ES2089460T3 (es) | Baño y procedimiento electrolitico de deposito de un revestimiento instantaneo de una aleacion de hierro-cinc con elevado porcentaje en hierro sobre un sustrato galvanizado aleado. | |
| US3374154A (en) | Electroforming and electrodeposition of stress-free nickel from the sulfamate bath | |
| SU1758091A1 (ru) | Способ получени железо-ванадиевого покрыти | |
| RU2349686C1 (ru) | Способ электроосаждения покрытий сплавом кобальт-никель | |
| US3506547A (en) | Nickel-iron electrolytes containing hydrolyzing metal ions and process of electro-depositing ferromagnetic films | |
| Djokić et al. | The effect of ac superimposed on dc and pulsating potential on the coercivity of electrodeposited Ni-Fe alloy thin films |