JPS62127493A - 電気錫メツキ法 - Google Patents
電気錫メツキ法Info
- Publication number
- JPS62127493A JPS62127493A JP26608685A JP26608685A JPS62127493A JP S62127493 A JPS62127493 A JP S62127493A JP 26608685 A JP26608685 A JP 26608685A JP 26608685 A JP26608685 A JP 26608685A JP S62127493 A JPS62127493 A JP S62127493A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- bath
- electrolytic
- current
- supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、硫酸塩浴、硼弗化物浴等のメッキ浴を用いる
電気錫メッキ法の改善に関するものである。
電気錫メッキ法の改善に関するものである。
電子部品の露出金属部には防錆及び半田付は性を目的と
して電気錫メッキが施されている。この錫メッキには通
常硫酸塩浴、硼弗化物浴が用いられるが、このような錫
メッキ浴によりメッキした被膜はメッキ後数日してから
ホイスカーと称されるヒゲ状の結晶が発生することがあ
る。このようなホイスカーは電気回路の短絡等のトラブ
ルを生じる丸め極力抑制しなければならず、一般には特
殊な下地メッキを施したり、メッキ後に熱処理を行うな
どの方策が採られている。
して電気錫メッキが施されている。この錫メッキには通
常硫酸塩浴、硼弗化物浴が用いられるが、このような錫
メッキ浴によりメッキした被膜はメッキ後数日してから
ホイスカーと称されるヒゲ状の結晶が発生することがあ
る。このようなホイスカーは電気回路の短絡等のトラブ
ルを生じる丸め極力抑制しなければならず、一般には特
殊な下地メッキを施したり、メッキ後に熱処理を行うな
どの方策が採られている。
ところで、上記電気錫メッキ法において、メッキ中にメ
ッキ被膜表面に針状又は糸状の異常析出が発生すること
がある。これはホイスカーとは異なり、電着中に形成さ
れる多結晶体である。この異常析出発生のメカニズムに
ついてはいまり明うかではないが、カソード表面の結晶
構造、結晶の異方成長性、化学親和力等が原因となって
デンドライト前駆体が生成し、この前駆体に局部的に高
電流密度の電流が流れ加速度的に成長するためと考えら
れる。この異常析出は前記した錫メッキの場合のホイス
カーと同様に電気回路の短絡の原因となり電子部品等の
信頼性を損うので、これを確実に防止することが信頼性
確保の上からも、又メッキ製品歩留り向上のためにも強
く要請されていた。このような錫メッキにおける異常析
出を防止するために従来、被メッキ物の酸浸漬、電解脱
脂又は化学研磨等の前処理を施したり、下地メッキを施
したシする方法が採られているが、作業工程が増して製
造工程が煩雑になる上、異常析出を必ずしも十分に抑制
することができていないのが実状である。又、メッキ浴
に光沢剤を添加して光沢メッキとすればこの異常析出は
・防止できるが、無光沢錫メツキ仕様にはこの方法を適
用で＠ない。
ッキ被膜表面に針状又は糸状の異常析出が発生すること
がある。これはホイスカーとは異なり、電着中に形成さ
れる多結晶体である。この異常析出発生のメカニズムに
ついてはいまり明うかではないが、カソード表面の結晶
構造、結晶の異方成長性、化学親和力等が原因となって
デンドライト前駆体が生成し、この前駆体に局部的に高
電流密度の電流が流れ加速度的に成長するためと考えら
れる。この異常析出は前記した錫メッキの場合のホイス
カーと同様に電気回路の短絡の原因となり電子部品等の
信頼性を損うので、これを確実に防止することが信頼性
確保の上からも、又メッキ製品歩留り向上のためにも強
く要請されていた。このような錫メッキにおける異常析
出を防止するために従来、被メッキ物の酸浸漬、電解脱
脂又は化学研磨等の前処理を施したり、下地メッキを施
したシする方法が採られているが、作業工程が増して製
造工程が煩雑になる上、異常析出を必ずしも十分に抑制
することができていないのが実状である。又、メッキ浴
に光沢剤を添加して光沢メッキとすればこの異常析出は
・防止できるが、無光沢錫メツキ仕様にはこの方法を適
用で＠ない。
本発明の目的は、異常析出発生のトラブルを、前処理、
下地メッキ等の追加工程や光沢剤添加等の手段によらず
に解消し、安定的にかつ廉価に電気錫メッキを行ない得
る方法を提供することにある。
下地メッキ等の追加工程や光沢剤添加等の手段によらず
に解消し、安定的にかつ廉価に電気錫メッキを行ない得
る方法を提供することにある。
この目的を達成するため、本発明の方法は、硫酸塩浴、
硼弗化物浴等のメッキ浴を用いる電気錫メッキ法におい
て、通電を間欠的に停止又は逆転せしめる点に特徴があ
る。
硼弗化物浴等のメッキ浴を用いる電気錫メッキ法におい
て、通電を間欠的に停止又は逆転せしめる点に特徴があ
る。
本発明の方法において、メッキ形成の順方向の通電と、
該通電の停止もしくは逆転（逆方向への通電）を行つ。
該通電の停止もしくは逆転（逆方向への通電）を行つ。
通電および停止もしくは逆転の好ましい時間は、被メッ
キ物の材質、メッキ浴組成、電流密度等により影響され
るので一律には言えないが、通常の′電流密度である１
、５Ａ／ｄａ においては、通電が約８０秒以下、より
好ましくは２０〜６０秒を一単位とし、通電の停止もし
くは逆転は３秒以上、より好ましくは５〜２０秒を一単
位とする範囲である。
キ物の材質、メッキ浴組成、電流密度等により影響され
るので一律には言えないが、通常の′電流密度である１
、５Ａ／ｄａ においては、通電が約８０秒以下、より
好ましくは２０〜６０秒を一単位とし、通電の停止もし
くは逆転は３秒以上、より好ましくは５〜２０秒を一単
位とする範囲である。
異常析出防止の効果の点からすると通電の時間は短い程
、停止時間は長い程よいが、通電時間が短か過ぎたり停
止時間が長過ぎたりすると、メッキ形成の能率が低下し
好ましくない。又、通電時間が８０秒を超え九り、停止
時間が３秒未満と短か過ぎると、異常析出を十分に防止
することが困難である。通電を停止させないで間欠的に
逆転させる場合には、停止の場合よりも短かい時間で同
等の効果が得られる。
、停止時間は長い程よいが、通電時間が短か過ぎたり停
止時間が長過ぎたりすると、メッキ形成の能率が低下し
好ましくない。又、通電時間が８０秒を超え九り、停止
時間が３秒未満と短か過ぎると、異常析出を十分に防止
することが困難である。通電を停止させないで間欠的に
逆転させる場合には、停止の場合よりも短かい時間で同
等の効果が得られる。
上記のように通電を間欠的に停止又は逆転させることに
よる電流波形は特に限定されず、例えば矩形波、ステッ
プ波、三角波、鋸波など何れでありても良い。
よる電流波形は特に限定されず、例えば矩形波、ステッ
プ波、三角波、鋸波など何れでありても良い。
本発明の方法により異常析出が効果的に防止される理由
は必ずしも明らかではないが、次のように推測される。
は必ずしも明らかではないが、次のように推測される。
即ち、前述の諸因子により形成されたデンドライト前駆
体が異常析出へと成長する過檻には、カソードの近傍に
形成される拡散二重層が重要な役割を果し、カソード近
傍のカチオンが電着によシ消費されて拡散二重層の濃度
勾配が大きくなるためにデンドライト前駆体が突起状に
成長し、この突起に高電流密度の電流が流れて突起が加
速度的に成長し異常析出になる。本発明の方法により通
電を間欠的に停止すると停止時間中にカソード表面の沖
合から拡散二重層へカチオンの移動が起りて拡散二重層
の濃度勾配が緩和され、その結果デンドライト前駆体の
成長が抑制されるものと考えられる。通電を間欠的に逆
転させた場合には突起部に高密度の溶解電流が集中する
結果、デンドライト前駆体が溶解消滅すると考えられる
。
体が異常析出へと成長する過檻には、カソードの近傍に
形成される拡散二重層が重要な役割を果し、カソード近
傍のカチオンが電着によシ消費されて拡散二重層の濃度
勾配が大きくなるためにデンドライト前駆体が突起状に
成長し、この突起に高電流密度の電流が流れて突起が加
速度的に成長し異常析出になる。本発明の方法により通
電を間欠的に停止すると停止時間中にカソード表面の沖
合から拡散二重層へカチオンの移動が起りて拡散二重層
の濃度勾配が緩和され、その結果デンドライト前駆体の
成長が抑制されるものと考えられる。通電を間欠的に逆
転させた場合には突起部に高密度の溶解電流が集中する
結果、デンドライト前駆体が溶解消滅すると考えられる
。
以下に本発明の実施例を比較例と共に示す。
実施例・・・メッキ浴としてＳｎＳＯ４を３０ｇ／ｌ。
Ｈ，Ｓｏ、を１２０１１／１１スタータークルモ（レイ
ボルト■の錫メツキ用添加剤の商品名）を４０ｗ／Ｌ含
有せしめたものを用い、カソードロッカーを備えたメッ
キ装置で錫をアノードとし、カソードラックに取付けた
４２７０イのテストピースに錫メッキを行りた。メッキ
条件は極間距離２００閣、陰極電流密度１．５Ａ／ｄｍ
Ｌ温度２０℃とし、通電と通電停止の時間をそれぞれ６
０秒、５秒とした。この条件で９分間メッキしたが、異
常析出は認められなかった。
ボルト■の錫メツキ用添加剤の商品名）を４０ｗ／Ｌ含
有せしめたものを用い、カソードロッカーを備えたメッ
キ装置で錫をアノードとし、カソードラックに取付けた
４２７０イのテストピースに錫メッキを行りた。メッキ
条件は極間距離２００閣、陰極電流密度１．５Ａ／ｄｍ
Ｌ温度２０℃とし、通電と通電停止の時間をそれぞれ６
０秒、５秒とした。この条件で９分間メッキしたが、異
常析出は認められなかった。
比較例・・・実施例と同じメッキ浴、装置を用い、通常
の直流メッキとした外は実施例と同じメッキ条件に従っ
て８分間メッキを行なった。テストピース上に長さ約１
００μの針状析出が認められた。
の直流メッキとした外は実施例と同じメッキ条件に従っ
て８分間メッキを行なった。テストピース上に長さ約１
００μの針状析出が認められた。
本発明により電気錫メッキにおける針状、糸状の異常析
出が効果的に防止され、メッキ物の信頼性向上、製品歩
留向上に大きく寄与できた。本発明の方法は被メッキ物
の前処理や下地メッキが不要であり、又特別の添加剤を
使用しないので七の管理なども不要であり、簡便、低廉
でかつ安定した実用性の高い方法である。
出が効果的に防止され、メッキ物の信頼性向上、製品歩
留向上に大きく寄与できた。本発明の方法は被メッキ物
の前処理や下地メッキが不要であり、又特別の添加剤を
使用しないので七の管理なども不要であり、簡便、低廉
でかつ安定した実用性の高い方法である。
Claims (1)
- 硫酸塩浴、硼弗化物浴等のメッキ浴を用いる電気錫メッ
キ法において、通電を間欠的に停止又は逆転することを
特徴とする電気錫メッキ法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26608685A JPS62127493A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | 電気錫メツキ法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26608685A JPS62127493A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | 電気錫メツキ法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62127493A true JPS62127493A (ja) | 1987-06-09 |
| JPH0573837B2 JPH0573837B2 (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=17426141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26608685A Granted JPS62127493A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | 電気錫メツキ法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62127493A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03213658A (ja) * | 1990-01-18 | 1991-09-19 | Komatsu Ltd | エンジンの燃料噴射ポンプ |
| JPH04112821U (ja) * | 1991-03-14 | 1992-10-01 | 合同製鐵株式会社 | ベルトコンベヤー設備におけるベルト張力調整装置 |
| JPH0688285A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-03-29 | Iketsukusu Kogyo:Kk | 金属の電着方法 |
| JP2005320631A (ja) * | 2004-04-26 | 2005-11-17 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 改善されたメッキ方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5814520A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-27 | 松下電器産業株式会社 | アルミ電解コンデンサの製造方法 |
-
1985
- 1985-11-28 JP JP26608685A patent/JPS62127493A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5814520A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-27 | 松下電器産業株式会社 | アルミ電解コンデンサの製造方法 |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH03213658A (ja) * | 1990-01-18 | 1991-09-19 | Komatsu Ltd | エンジンの燃料噴射ポンプ |
| JPH04112821U (ja) * | 1991-03-14 | 1992-10-01 | 合同製鐵株式会社 | ベルトコンベヤー設備におけるベルト張力調整装置 |
| JPH0688285A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-03-29 | Iketsukusu Kogyo:Kk | 金属の電着方法 |
| JP2005320631A (ja) * | 2004-04-26 | 2005-11-17 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 改善されたメッキ方法 |
| EP1598449A3 (en) * | 2004-04-26 | 2007-01-31 | Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. | Improved plating method |
| US7582199B2 (en) | 2004-04-26 | 2009-09-01 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Plating method |
| JP4740632B2 (ja) * | 2004-04-26 | 2011-08-03 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー． | 改善されたメッキ方法 |
| KR101185194B1 (ko) | 2004-04-26 | 2012-09-24 | 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈, 엘.엘.씨. | 개선된 도금 방법 |
| US8945362B2 (en) | 2004-04-26 | 2015-02-03 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Plating method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0573837B2 (ja) | 1993-10-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |