PL72772B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL72772B1
PL72772B1 PL1970141640A PL14164070A PL72772B1 PL 72772 B1 PL72772 B1 PL 72772B1 PL 1970141640 A PL1970141640 A PL 1970141640A PL 14164070 A PL14164070 A PL 14164070A PL 72772 B1 PL72772 B1 PL 72772B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
roller
developer
developing
developing unit
image
Prior art date
Application number
PL1970141640A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Xerox Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xerox Corporation filed Critical Xerox Corporation
Publication of PL72772B1 publication Critical patent/PL72772B1/pl

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/06Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing
    • G03G15/08Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer
    • G03G15/0806Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer on a donor element, e.g. belt, roller
    • G03G15/081Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer on a donor element, e.g. belt, roller characterised by the developer handling means after the supply and before the regulating, e.g. means for preventing developer blocking
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/06Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing
    • G03G15/10Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a liquid developer
    • G03G15/101Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a liquid developer for wetting the recording material
    • G03G15/102Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a liquid developer for wetting the recording material for differentially wetting the recording material

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Wet Developing In Electrophotography (AREA)
  • Dry Development In Electrophotography (AREA)
  • Control Or Security For Electrophotography (AREA)

Description

Uprawniony z patentu: Xerox Corporation, Nowy Jork (Stany Zjednoczone Ameryki) Urzadzenie do wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego.Znane jast urzadzenie do wywolywania obrazów z materialu fotoprzewodzacego za pomoca srodków elektrostatycznych.Znanych jest wiele urzadzen do nakladania elektrostatycznego proszku ne wywolywany obraz. W urzadze¬ niach tych stosowane sa plynne wywolywacze i cala powierzchnia naswietlona stykac sie moze z plynnym wywolywaczem powodujac w ten sposób wzrost powstawania niepozadanych osadów na tle obrazu. Równiez stosunkowo niekontrolowany ruch materialu wywolywacza w urzadzeniu powoduje straty i jego nadmierne zuzycie z mozliwoscia oddzialywania chemicznego, na niektóre czesci urzadzenia oraz niepozadane brudzenie papieru przez material wywolujacy.Zarówno w suchym jak i w plynnym wywolywaniu obrazu elektrostatycznego, a zwlaszcza w plynnym wywolywaniu powierzchnia posrednia znajduje sie zwykle w ciaglym styku z czescia powierzchni swiatloczu¬ lych. Podczas przerw w wywolywaniu material wywolujacy znajdujacy sie na powierzchni posredniej oddzialy- wuje chemicznie na powierzchnie swiatloczula w wyniku czego powstaja uszkodzenia powodujac calkowite zniszczenie czesci tej powierzchni. Ponadto jakiekolwiek uszkodzenie powierzchni swiatloczulej powoduje równiez zanieczyszczenie wywolywacza. Kazde uszkodzenie tej powierzchni pociaga za soba uszkodzenie powierzchni posredniej a w przypadku gdy powierzchnia posiada siatke powoduje uszkodzenie tej siatki. Docisk powierzchni posredniej do powierzchni swiatloczulej powoduje powstawanie na stykajacych sie powierzchniach plaszczyzn, wglebien itp.Szczególne trudnosci przy stosowaniu pojedynczego elementu swiatloczulego polegaja na tym, ze cala naladowana czesc powierzchni swiatloczulej, która moze byc wieksza od naniesionego obrazu podlega wywolywaniu, w wyniku czego odbitki z tej powierzchni zawieraja osady i smugi w miejscach poza przeniesio¬ nym obrazem. ¦ Celem wynalazku jest usuniecie powyzszych wad i niedogodnosci znanych urzadzen do wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego, opracowanie prostego i pewnego w dzialaniu urzadzenia, w którym material wywolujacy styka sie jedynie z wywolywanymi miejscami naswietlanymi tej powierzchni, bez2 72 772 tworzenia niepozadanych osadów na kopiach o mniejszym zuzyciu materialu wywolujacego, w którym jest zmniejszona koniecznosc konserwacji urzadzenia do ciaglego wywolywania.Zgodnie z wynalazkiem urzadzenie do wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego w zamknietym zespole ma walec nakladajacy i walec doprowadzajacy z listwami zgarniajacymi ima krzywke do przysuwania i odsuwania walca nakladajacego wywolywacz w stosunku do swiatloczulej powierzchni umozliwiajac utrzymy¬ wanie wywolywania tylko na tych odcinkach swiatloczulej powierzchni, na których znajduje sie obraz przeznaczony do wywolania. Walec nakladajacy wywolywacza jest zamocowany obrotowo na trzpieniu. Walec zgarniajacy ma boczne listwy zgarniajace oraz glówna listwe zgarniajaca. Walec zgarniajacy dociskany liniowo do powierzchni walca nakladajacego jest zamocowany obrotowo i zapewnia zróznicowana obudowe predkosc na powierzchni elementu nakladajacego wzgledem walka zgarniajacego. Zespól wywolujacy jest wahadlowo zamocowany w osi wzdluznej i dociskany jest sprezyna do styku jego powierzchni posredniej z powierzchnia swiatloczula. Odsuwanie zespolu wywolujacego od powierzchni swiatloczulej dokonywane byc moze za pomoca na przyklad krzywki tak, zeby zespól wywolujacy stykal sie z powierzchnia swiatloczula jedynie na zalozonej dlugosci obwodowej tej powierzchni. To znaczy, ze powierzchnia posrednia odsuwana jest od powierzchni swiatloczulej na tej czesci powierzchni, która nie posiada utajonego obrazu. Powierzchnia posrednia styka sie wiec z powierzchnia swiatloczula tylko wtedy, gdy znajduje sie na niej wywolywany obraz.Przedmiot Wynalazku jest przedstawiony w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedsta¬ wia urzadzenie po odjeciu plyty bocznej w widoku z boku, fig. 2 i 3 - inne wykonanie wynalazku, fig. 4- urza¬ dzenie w widoku perspektywicznym oraz fig. 5 — schemat konwencjonalnego urzadzenia mechanicznego wedlug wynalazku. < Jak przedstawiono na fig. 1 zespól 10 wywolujacy zawiera obudowe 11, która wykonana byc moze z jednej czesci. Obudowa ta wykonana jest z wytloczonej blachy aluminiowej. Górna czesc zespolu wywolujace¬ go przykryta jest pokrywa 12 przykrecona nieruchomo do plyt bocznych (nie uwidocznionych na rysunku) za pomoca kilku srub 15 do bocznych powierzchni obudowy. W obudowie umieszczony jest walec nakladajacy 16 ulozyskowany obrotowo wokól swej podluznej osi w lozyskach umieszczonych w kazdej plycie bocznej.Ponadto w obudowie 11 umieszczony jest obrotowo, równiez ulozyskowany w lozyskach osadzonych w plyt¬ kach bocznych, walec doprowadzajacy 17.Do uchwytu 19 obudowy przykrecone sa srubami 38 narozne boczne listwy zbierajace 18. Glówna listwa zbierajaca 20 przymocowana jest do elementu noznego 21 zaciskiem 22 przykreconym srubami 23. Element nosny 21 osadzony jest na walku 24 i unieruchomiony za pomoca sruby 25. Walek 24 jest zakonczony cylindrycznymi czopami w celu regulowania jego polozenia i nacisków plaskiej sprezyny 26 za pomoca zespolu srub 27. Material wywolujacy podawany jest do zasobnika 28 za pomoca przewodu 29 prowadzacego do glównego zbiornika. Wywolywacz ten podawany moze byc do zasobnika przy wykorzystaniu sily ciezkosci.Zespól 10 wywolujacy, utrzymywany jest w styku z powierzchnia 31 swiatloczulego elementu przedstawionego na rysunku w postaci tasmy lub pasa prowadzonego na rolce nosnej 32. Styk ten regulowany jest napieciem sprezyny 30, która przymocowana jest do bocznej plyty 33 obudowy 11 za pomoca srub 15. Górna czesc plyty bocznej 33 zaopatrzona jest w powierzchnie slizgowa, po której slizga sie krzywka 35 i która powoduje podczas obrotu, obroty zespolu wywolujacego wokól osi, która moze stanowic na przyklad przedluzenie osi walka podajacego wylaczajac przez to walek posredni od styku z naswietlona powierzchnia tasmy.W przedstawionym przykladzie na fig. 1 podczas naswietlania zespól wywolujacy odsuniety od powierz¬ chni 'swiatloczulej moze byc uruchamiany dowolnym mechanicznym ukladem programujacym w celu nalozenia na powierzchnie walka posredniego materialu wywolujacego. Podczas takiego nakladania oraz podczas operacji wywolywania wirujacy walec podajacy, podaje material wywolujacy na wirujaca powierzchnie walca nakladaja¬ cego. Poniewaz w przedstawionym przykladzie wykonania nalozona warstwa wywolywana na powierzchni walca nakladajacego jest nierównej grubosci, to powierzchnia ta oczyszczana jest w pierwszym rzedzie przez narozne listwy zbierajace a nastepnie przez glówna listwe zbierajaca umieszczona na calej dlugosci walca nakladajacego.Powierzchnia walca nakladajacego, której osadzona jest odmierzona ilosc materialu wywolujacego przechodzi nastepnie do styku z powierzchnia swiatloczula. • Podczas naswietlania powierzchni swiatloczulej uklad napedzajacy powoduje ruch nakladania wywolywa¬ cza na powierzchnie posrednia jak równiez unieruchamia wszystkie czesci wirujace w celu zapewnienia lepszego powstania obrazu na powierzchni swiatloczulej. Po naswietleniu uklad programujacy nadaje ruch naswietlonej powierzchni swiatloczulej i przesuwa 9 w kierunku zespolu podajacego, a jednoczesnie uruchamia zespól wywolujacy. W momencie gdy pierwsza krawedz naswietlonej czesci powierzchni swiatloczulej zetknie sie z walkiem 32, na której nastepnie wywoluje obraz, uklad programujacy wylacza krzywke co powoduje docisniecie zespolu wywolujacego przez sprezyne 30 do styku z ta krawedzia powierzchni wywolywanej. Uklad programujacy jest tak uruchamiany, ze w wyniku zaprogramowania dlugosci swiatloczulego elementu przecho-72 772 3 dzacego przez punkt blisko zespolu naswietlajacego, etap wywolywania odpowiada polaczeniu powierzchni swiatloczulej wzdluz tej krawedzi obrazu przeznaczonej do wywolania, powierzchnia swiatloczula oraz powierzchnia posrednia przesuwaja sie w styku ze soba do chwili, az caly obraz zostanie wywolany. Po zakonczeniu wywolywania uklad programujacy uruchamia mechanizm krzywkowy obracajac zespól wywoluja¬ cy wokól jego osi dzieki czemu zespól ten jest wylaczony z pracy. W razie potrzeby wywolany obraz moze byc przeniesiony na arkusz papieru 36, stykajacy sie z ta powierzchnia w wyniku dociskania go przez walek 37.Mechaniczny uklad programujacy ponadto moze byc skostruowany tak aby zapewnial styk podczas wywolywa¬ nia miedzy elementem swiatloczulym a powierzchnia posrednia na dowolnej dlugosci tego elementu.Jednakze z wymienionych poprzednio powodów korzystne jest zastosowanie ukladu programujacego, który zapewnia styk okreslonej dlugosci oswietlonej tasmy tj. na okreslonej dlugosci wywolywanego obrazu.Mechanicznym ukladem programujacym moze byc dowolne urzadzenie, które dokladnie i cyklicznie sprzega wszystkie czesci urzadzenia w jeden uklad. Moze to byc proste urzadzenie-obrotowe z ustalona predkoscia posiadajace elementy uruchamiajace rozmieszczone w róznych czesciach calego cyklu dzieki czemu w jednym kompletnym cyklu pracy urzadzenie to uruchamia kolejno wszystkie wybrane zespoly. Elementy uruchamiajace wykonywane moga byc w dowolnym ksztalcie, aby zapewnialy niezbedna kolejnosc wlaczania i wylaczania poszczególnych zespolów w odpowiednim czasie. Walec nakladajacy oraz walec doprowadzajacy sa napedzane ukladem sprzezonym lub przekladnia zebata. Polozenie kól zebatych w powierzchni zebatej moze byc tak dobrane, zeby krzywka zazebiala sie przez caly czas poza czasem gdy walek posredni styka sie z naswietlona powierzchnia. Najkorzystniejsze jest polaczenie wszystkich czesci ruchomych kolami zebatymi bo stwarza to pewnosc unikniecia bledów, a takze narastania bledu w czasie. Przykladowy mechanizm elektromechaniczny jest przedstawiony na fig. 2.Fig. 2 przedstawia drugi przyklad wykonania wynalazku rózniacy sie od przedstawionego na fig. 1 zastosowaniem elementu swiatloczulego w postaci bebna, w którego poblizu umieszczone sa zespoly ladowania, naswietlania, wywolywania oraz oczyszczania. Druga róznica polega na zastosowaniu obrotowej powierzchni zbierajacej oraz uzycie cewki do odsuwania zespolu wywolujacego. Zespól wywolujacy w tym przykladzie zawiera obudowe 40 z pokrywa 41 przymocowana do niej za pomoca zacisku 42 i srub 43 tworzac w ten sposób w zasadzie zamkniety calkowicie zespól wywolujacy. Na plytach bocznych (nie uwidocznionych na rysunku) przymocowanych do czesci bocznych obudowy, zamocowany jest obrotowo walek z powierzchnia nakladajaca 44 walek podajacy 45 oraz walek zbierajacy 46 ponadto z powierzchnia skrajnej plyty 48 zespolu styka sie cewka 47. Zespól wywolujacy 43 przytrzymywany jest w styku z wywolywana powierzchnia za pomoca sprezyny 50. Podczas pracy urzadzenia material wywolujacy podawany jest do zbiornika zespolu za pomoca przewodu 51. Powierzchnia swiatloczula bebna 56 ladowana jest w miejscu 52, a nastepnie naswietlana w miejscu 53. Utajony obraz elektrostatyczny na powierzchni bebna wywolywany jest nastepnie podczas styku tego bebna z walkiem posrednim 44 w miejscu 58. Wywolywany obraz przenoszony jest na arkusz papieru 54 podczas jego styku z powierzchnia bebna walka dociskajacego 55. Powierzchnia swiatloczula bebna 56 oczyszczana jest w miejscu 57. Walek zbierajacy 56 stosowany w tym przykladzie moze byc typu slizgowego.Na fig. 3'przedstawiony jest nastepny przyklad wykonania wynalazku, w którym zarówno podawanie materialu wywolujacego na powierzchnie posrednia oraz zbieranie go z powierzchni uzyskano przez ten sam zespól. Tak wiec walek 60 spelnia obie funkcje podajace i zbierajace material wywolujacy na i z powierzchni posredniej. Zespól wywolujacy w tym przykladzie utworzony jest przez obudowe 62, która moze byc wykonana z jednej czesci. Na powierzchniach bocznych obudowy osadzone sa plyty boczne 63, w których osadzone sa obrotowo: walek podajacy i zbierajacy 60 stykajace sie z walkiem posrednim 61. Podawanie materialu wywolujacego do wewnatrz zespolu dokonywane jest przewodem 65. Zespól wywolujacy odchylany jest od styku z powierzchnia swiatloczula za pomoca krzywki 64 stykajaca sie z powierzchnia skrajna obudowy 63. W chwili gdy utajony obraz elektrostatyczny wytworzony na powierzchni swiatloczulej 67 zbliza sie do walka 68, sprezyna 66 powoduje docisniecie niezbedna sila zespolu wywolujacego do styku z wywolywana powierzchnia. Na fig. 4 przedstawiono zespól w widoku perspektywicznym przykladu wykonania wynalazku przedsta¬ wionego na fig. 1, w którym walek posredni 72 obrotowo osadzony jest w plytach bocznych 73 wokól jej podluznej osi 74 za pomoca lozysk 75. Walek ten moze byc napedzany ukladem napedowym (nie pokazanym na rysunku) za pomoca zebatego kola 76. Walek podajacy zamocowany jest równiez w plytach bocznych 73 wokól jej podluznej osi 77 za pomoca lozysk 78. Kolo zebate 79 napedzane jest zewnetrznymi ukladami napedowymi Do plyt bocznych 73 przymocowana jest za pomoca srub 81 pokrywa 80. Plyty boczne 73 z kolei przymocowane $a do budowy zespolu za pomoca samogwintujacych srub 82 dajac w ten sposób w zasadzie zamkniety zespól wywolujacy. W plytach bocznych osadzony jest ponadto obrotowo w lozyskach 84 walek 83 odchylanej glównej plyty zbierajacej. Ponadto na walku 86 oznaczona jest obrotowo krzywka 85 nieruchomo4 72 772 przymocowana do nieruchomego zewnetrznego elementu nosnego zespolu na przyklad obudowy. Uruchamiona krzywka 85 obraca sie na walku 86 stykajac sie z powierzchnia, 87. Na walku 89 osadzony jest obrotowo walek 88 podajacy arkusze papieru do zespolu wywolujacego. Walek ten moze byc napedzany zewnetrznym ukladem napedowym poprzez kolo zebate 90. Walek podajacy 88, walek 77, na którym osadzony jest wahadlowo zespól wywolujacy oraz krzywka 86 osadzone sa nieruchomo w sztywnej konstrukcji ramowej.Na fig. 5 przedstawiono uklad napedowy napedzajacy poszczególne elementy urzadzenia we wlasciwej kolejnosci i z wlasciwa predkoscia na przyklad kolo zebate 92 moze byc osadzone na mechanizmie przesuwaja¬ cym powierzchnie swiatloczula w miejscu ladowania lub naswietlania. Kolo zebate 92 napedza kolo 93, które z kolei napedza kolo 95 osadzone na walku podajacym. Kolo 95 zazebia sie z kolem 94 osadzonym na koncu walka wywolujacego oraz z kolem 96. Kolo 96 zazebiane jest z kolem 97 osadzonym na walku krzywki 98.W celu napedzania kolejnych czesci zespolu wywolujacego we wlasciwej kolejnosci zastosowana moze byc dowolna przekladnia zebata. Równiez w tym celu stosowany moze byc inny uklad mechaniczny napedowy na przyklad przekladnia pasowa. Przekladnia zebata wybrana zostala ze wzgledu na uzyskiwanie w niej doklad¬ nych wartosci przelozen.Powierzchnia posrednia moze byc dowolnego ksztaltu oraz dowolnych rozmiarów oraz posiadac moze ksztalt zamocowanego bebna jak przedstawiono na kilku figurach lub moze byc wykonana w postaci pasa lub tasmy bez konca. Powierzchnia ta moze byc gladka albo korzystnie jest gdy posiada równomierna siatke z czesciami wybrzuszonymi i z zaglebieniami. Typowa powierzchnia posrednia wykonana jest jako walek cylindryczny, na którym naniesiona jest siatka linii trójzwojowych, skosnych lub przecinajacych sie pod katem prostym. Dobsej jakosci odbitka oraz stosunkowo latwa i szybka praca urzadzenia uzyskiwana jest zwlaszcza przy stosowaniu powierzchni posredniej posiadajacej siatke utworzona z linii srubowych od 30 do 120 linii na 1 cm, przy czym szczególnie korzystnie od 70 do 100 linii na 1 cm. Unie te naciete powinny byc pod katem kolo 30° do 60° najkorzystniej okolo 45° do podluznej osi walka. Glebokosc linii wynosic powinna od 1,5-6 mm. Walek posredni moze byc wykonany z takiego materialu jak stal, braz, aluminium lub nylon.Korzystnie jest gdy walek posredni wykonany jest z materialu, na którym osadzona jest z innego materialu tuleja. Przykladowo walek taki moze miec srednice 25 mm a dlugosc 225 mm. Gdy powierzchnia posrednia jest z paska lub tasmy, korzystne jest ale nie zawsze niezbedne, aby powierzchnia ta w miejscach poprzednich wymienionych (ladowanie, naswietlanie, wywolywanie, oczyszczanie) podtrzymywana byla przez rolki podpie¬ rajace lub inne podpory. Stosowanie takiej podpory zapewnia równomierne nalozenie materialu wywolujacego na powierzchnie posrednia przez walek podajacy, wlasciwe zebranie nadmiaru materialu wywolujacego, a nastepnie uzyskanie dobrej jakosci wywolanego obrazu.Powierzchnia podajaca na material wywolujacy wykonana moze byc w dowolnym ksztalcie i w dowol¬ nych wymiarach. Stanowic moze ona równiez obrotowo zamocowana rolke lub wspomniany pas lub tasme bez konca. Stosowane materialy na powierzchnie padajaca powinny odporne byc na scieranie, starzenie oraz odporne na dzialanie chemiczne wywolywacza. Wybór materialów, z których wykonana byc moze rolka podajaca gdy spelnia ona jedynie funkcje podawania materialu wywolujacego jest dosc szeroki. Gdy rolka stosowana jest jedynie do podawania i nakladania w nieodmierzonej ilosci i w postaci nierównej warstwy materialu wywolujace¬ go na powierzchnie posrednia, stosowany byc moze dowolny uklad podawania tego materialu.Gdy powierzchnia podajaca spelnia obie funkcje podawania materialu wywolujacego i zbierania jego nadmiaru, powierzchnia podajaca powinna byc stosunkowo gladka, w celu unikniecia jakichkolwiek zabrudzen wywolywacza na powierzchni posredniej, z która styka sie podczas zbierania wywolywacza z^tej powierzchni.Równiez material stosowany na taka rolke spelniajaca obie powyzej wymienione funkcje powinien byc stosunkowo odporny na scieranie o twardosci Shora (skala A) od okolo 40-90. Optymalna jakosc odbitek uzyskuje sie przy twardosci okolo 50-60. Jako material rolki podajacej stosowany byc moze material z powyzej podanych materialów na powierzchnie podajaca na przyklad stal, kauczuk, silikonowy, kauczuk fiuorosilikono¬ wy, kauczuk typu Buna N, neopren, uretan i poliuretan. Rolka zbierajaca wykonana moze byc ze zwyklego elastomeru, na przyklad fluorosilikon lub silastic. Materialem takim moga byc równiez poliuretany lub kopolimer nitrylowy.W przypadku, gdy powierzchnia podajaca i zbierajaca wykonane sa w postaci cylindrycznego walka powinna byc dokladnie ulozyskowana w jej osi wzdluznej w celu uzyskania równomiernego styku z powierzch¬ nia posrednia. Przykladowo walek o srednicy 19 mm moze byc wykonany ze stali, na którym umieszczona jest tuleja o grubosci 3 mm z elastomeru dajac w ten sposób srednice zewnetrzna koncówki okolo 25 mm.Zbieranie nadmiaru materialu wywolujacego z powierzchni rolki posredniej dokonywane byc moze równiez za pomoca listew zbierajacych. Glówna listwa zbierajaca umieszczona wzdluz calej dlugosci powierz¬ chni posredniej stosowana byc moze ponadto z pomocniczymi naroznymi powierzchniami zbierajacymi. Listwy zbierajace wykonane byc moga z dowolnego materialu odpornego na zuzycie i dzialanie chemiczne wywolywa-72 772 5 cza. Na przyklad materialami takimi moga byc stal, kauczuk silikonowy, kauczuk fluorpsilikonowy, uretany, poliuretany, poliestry. Listwy powinny byc stosunkowo sztywne i odporne na wzrosty cisnienia w wyniku zbierania nadmiaru wywolywacza. Glówna listwa zbierajaca powinna stykac sie z powierzchnia posrednia wzdluz waskiej linii w celu pozostawienia odmierzonej ilosci wywolywacza na tej powierzchni. Narozne listwy zbierajace powinny stykac sie z obydwoma powierzchniami naroznymi powierzchni posredniej, i powinny zbierac nadmiar wywolywacza i zabezpieczac przed zbieraniem sie tego materialu wywolujacego na krawe¬ dziach.Material wywolujacy stosowany w powyzszych przykladach moze byc dowolnego rodzaju. Stosowane moga byc spolaryzowane lub niespolaryzowane plyty wywolujace, suchy material sproszkowany znany powszechnie jako pigment lub inny dowolny material drobnoziarnisty przyjmujacy ladunki elektryczne.Pozadane jest aby poszczególne materialy wywolujace posiadaly wlasciwy stopien przylegania do powierzchni podczas pracy zespolu wywolujacego. Plynne materialy wywolujace moga posiadac zawieszone w nich barwniki lub rozpuszczone proszki, na przyklad plynami takimi moga byc ogólnie dostepne wodne, olejne lub alkoholowe tusze lub oparte moga byc na podstawie olejów mineralnych, kwasów oleinowych, glikolu propylenowego, benzyny lakowej, gliceryny, sarbitu.Suche materialy sproszkowane zawierac moga na przyklad wegiel drzewny, czern weglowa lub inny znany barwnik. Ponadto zawierac moga równiez inne dowolne wybrane barwniki/Przykladowymi barwnikami moga byc czern weglowa lub inne postacie wegla, tlenek zelaza, tlenek cynku, dwutlenek tytanu, blekit metylowy, fiolet metylowy oraz ultrameryne. Dodane tez moga byc rózne rozpuszczalniki, srodki zmniejszajace lub zwiekszajace lepkosc itp.W celu zmniejszenia do minimum zanieczyszczenia materialu wywolujacego zespól wywolujacy powinien byc w zasadzie calkowicie zamkniety i chroniony przed wplywem zewnetrznym za wyjatkiem wylotu zewne¬ trznego podajacego material wywolujacy do wewnatrz zespolu oraz otworu niezbednego dla umieszczenia walka posredniego stykajacego sie z powierzchnia fotoprzewodzaca. Obudowa zespolu wywolujacego jak przedstawio¬ no na fig. 1 moze byc wykonana w postaci jednej czesci konstrukcyjnej na przyklad wytloczki aluminiowej.W celu zapewnienia dlugiego czasu pracy zespolu materialy na jego budowe powinny byc odporne na dzialanie chemiczne poszczególnych wywolywaczy.Caly zespól wywolujacy zamocowany jest wahadlowo na walku umieszczonym wzdluz zespolu.Przykladowo walek ten pokrywac sie moze z walkiem rolki podajacej lub moze stanowic z nich jedna calosc tak, ze gdy krzywka dociska do powierzchni slizgowej listw bocznych, walek posredni odsuwany jest od powierzchni fotoprzewodzacej. Moga byc równiez stosowane inne srodki napedzajace wahadlowo zespól wywolujacy. Zespól wywolujacy dociskany jest do powierzchni fotoprzewodzacej odpowiednia sprezyne w celu uzyskania dostatecznego docisku do powierzchni fotoprzewodzacej. Powierzchnia posrednia oraz fotoprzewodza¬ ca stykaja sie normalnie wzdluz linii na bardzo waskiej powierzchni, przy czym styk ten moze byc pod cisnieniem. Cisnienie wywolywane na linii styku obu tych powierzchni moze zmienic sie wraz z powierzchnia wywolywania wraz z twardoscia stykajacych sie powierzchni i powierzchni rolki podpierajacej podajacej arkusze papieru. < Zespól wywolujacy opisany powyzej moze byc stosowany do urzadzen wywolujacych osiagajacych wywolywanie o predkosci do 50 cm/sek. Wywolywanie moze tez byc dokonywane z mniejsza predkoscia nawet ponizej 5 cm/sek. Predkosc ta jednak nie jest praktycznie stosowana. Odbitki dobrej jakosci uzyskuje sie z predkosciarni wywolywania od okolo 12,5 cm do okolo 38 cm/sek, przy czym optyczna jakosc odbitek uzyskiwana jest przy predkosciach okolo 20 do 30 cm/sek.Zespól wywolujacy, w którym zastosowane jest podawanie i zbieranie materialu wywolujacego jednym walkiem wywoluje utajony obraz elektryczny z predkoscia do okolo 640 cm/sek. W zbiorniku zespolu wywolujacego umieszczony jest material wywolujacy o skladzie podanym ponizej: Lekki olej mineralny 45 czesci wagowych mierolithCT 27 czesci wagowych GanexV216 23 czesci wagowych VM 550 Methyl. Taunate 4czesci wagowe Paraflint RGWax 1 czesc wagowa Papier pokryty tlenkiem cynku, na który nakladany jest obraz przesuwany jest za pomoca rolki podpierajacej przy czym w chwili gdy pierwsza krawedz arkusza papieru przesunieta zostanie do poczatkowej powierzchni obszaru wywolywania powierzchnia posrednia przesuwana jest do styku z powierzchnia fotoprzewo- dzaca przez obrót krzywki która slizga sie po powierzchni slizgowej obudowy. Wywolywanie nastepuje z predkoscia okolo 30 cm/sek, przy czym powierzchnia posrednia wiruje z predkoscia 30 cm/sek wykonuje 1,85 obrotów razy wiecej od rolki podajacej. Wywolywacz przenoszony jest nastepnie w postaci wywolanego obrazu na arkusz papieru Xerox 4024. Uzyskano zageszczenie 0,8 oraz tlo 0,005 druku.6 72 772 »¦ PL PL PL PL

Claims (10)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie do wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego, skladajace sie z elementów przesuwajacych swiatloczula powierzchnie, z walca nakladajacego wywolywacz do wywolania obrazu na swiatloczulej powierzchni, oraz z oddzielnych lub polaczonych elementów doprowadzajacych i zgarniajacych wywolywacz, z n a m,i e n n e tym, ze w zamknietym zespole (10) ma walec nakladajacy (16) i walec doprowadzajacy (17) z listwami zgarniajacymi (18, 20) i ma krzywke (35) do przysuwania i odsuwania walca nakladajacego (16) wywolywacz w stosunku do swiatloczulej powierzchni (31) umozliwiajac utrzymywanie wywolywania tylko na tych odcinkach wiatloczulej powierzchni (31), na których znajduje sie obraz przeznaczony do wywolania.
2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze walec nakladajacy (16) wywolywacz jest zamocowany obrotowo na trzpieniu.
3. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze cylindryczny walec zgarniajacy ma boczne listwy zgarniajace (18) oraz glówna listwe zgarniajaca (20).
4. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, lub 3, znamienne tym, ze walec (46, 60) zgarniajacy dociskany liniowo do powierzchni (44) walca nakladajacego (16) jest zamocowany obrotowo i zapewnia zróznicowana obwodowa predkosc na powierzchni (44) elementu nakladajacego wzgledem walka zgarniajacego.
5. Urzadzenie wedlug zastrz. 4, zna mi enne tym, ze obrotowy cylindryczny walek zgarniajacy (60) stanowi takze element doprowadzajacy wywolywacz.
6. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, albo 2, znamienne tym, ze zespól (10) wywolujacy zamocowany jest wahadlowo na podporze wokól walca doprowadzajacego (17) wywolywacz, zas walec nakladajacy (16) wywolywacz jest zamocowany obrotowo ima powierzchnie jednolicie pokryta wypuklymi i wglebionymi obszarami, przy czym walec nakladajac/, walec doprowadzajacy oraz listwa zgarniajaca utrzymuja wzgledem siebie stale polozenie.
7. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze walec nakladajacy (16) ma na swej powierzchni 3-zwojowe naciecia ulozone z 30 do 120 linii nacietych pod katem od 30° do 60° wzgledem wzdluznej osi na glebokosci od 0,013 do 1,152 mm. <
8. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze ma krzywke (35) do przesuwania zespolu (10) wywolujacego.
9. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, z amienne tym, ze ma uklad programowania, który przez mechanizm napedza krzywke (35) do doprowadzenia wywolywacza na swiatloczula powierzchnie na dlugosci naswietlonego obrazu.
10. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze walec doprowadzajacy (17) wywolywacz jest polaczony ze zbiornikiem wywolywacza natomiast walec„doprowadzajacy (17) i walec nakladajacy (16) sa obrotowo zamocowane we wspólnej podporze tak, ze ich wzdluzne osie sa wzgledem siebie równolegle.72 772 ^ f- ^ & 23/2 52-e$ Ó6 o 65 ÓS o k^~ / \y4047 o ^ n 44 45" Sf- S0 4S ^T*72 772 72 75^73^77/-,J F/9.S. Prac. Poligraf. UP PRLNaklad 120 + 18 egz. Cena 10 zl PL PL PL PL
PL1970141640A 1969-07-01 1970-06-27 PL72772B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US83814269A 1969-07-01 1969-07-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL72772B1 true PL72772B1 (pl) 1974-08-30

Family

ID=25276371

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1970141640A PL72772B1 (pl) 1969-07-01 1970-06-27

Country Status (12)

Country Link
JP (1) JPS5028177B1 (pl)
AT (1) AT311791B (pl)
BE (1) BE752802A (pl)
CH (1) CH513437A (pl)
DE (1) DE2031500A1 (pl)
ES (1) ES381297A1 (pl)
FR (1) FR2056398A5 (pl)
GB (1) GB1320509A (pl)
NL (1) NL7009758A (pl)
PL (1) PL72772B1 (pl)
SE (1) SE357269B (pl)
ZA (1) ZA704474B (pl)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1483489A (en) * 1974-11-20 1977-08-17 Xerox Corp Developer assembly support
GB2081135B (en) * 1977-09-10 1982-09-08 Canon Kk Developing apparatus for electrostatic image
JPS5560960A (en) * 1978-10-31 1980-05-08 Agfa Gevaert Nv Composition for developing electrostatic image and method of development
JPS59153527U (ja) * 1983-03-31 1984-10-15 富士写真フイルム株式会社 レンズ切替カメラの露出調節装置
US4801966A (en) * 1985-04-06 1989-01-31 Canon Kabushiki Kaisha Image forming apparatus with movable developing device
JPS62976A (ja) * 1985-06-27 1987-01-06 Ricoh Co Ltd 現像装置

Also Published As

Publication number Publication date
ZA704474B (en) 1971-06-30
AT311791B (de) 1973-12-10
FR2056398A5 (pl) 1971-05-14
DE2031500A1 (de) 1971-01-21
GB1320509A (en) 1973-06-13
SE357269B (pl) 1973-06-18
BE752802A (fr) 1970-12-16
ES381297A1 (es) 1972-11-16
JPS5028177B1 (pl) 1975-09-12
NL7009758A (pl) 1971-01-05
CH513437A (de) 1971-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2166669C3 (de) Reinigungseinrichtung in einem elektrophotographischen Gerät
PL71022B1 (pl)
DE69925329T2 (de) Von einem Bilderzeugungsgerät abnehmbarer Behälter, Bilderzeugungsgerät, und Verfahren zur Steuerung eines solchen Gerätes
US9372444B2 (en) Wet type developing apparatus and wet type developing method
DE69925405T2 (de) Reinigungsgerät mit einer Rollenbürste, Arbeitseinheit, und Bilderzeugungsgerät
DE3249767C2 (pl)
EP0092107B1 (de) Elektrofotografisches Kopierverfahren und Vorrichtung zum Entfernen der Entwicklerflüssigkeit von einer Fotoleiteroberfläche
DE1772387C3 (de) Vorrichtung zur Entwicklung von Ladungsbildern mittels Pulverentwickler
DE1943147B2 (pl)
NO128683B (pl)
JPS644180B2 (pl)
US4410260A (en) Toning apparatus and method
PL72772B1 (pl)
JP2005087971A (ja) 円筒状基体に対する塗工液の塗布方法および塗布装置ならびに電子写真感光体の製造方法およびその製造方法により製造される電子写真感光体
DE60026242T2 (de) Dosierplatte mit geringer Reibung
US3942474A (en) Developing systems
US4252882A (en) Developing electrophotographic images using aqueous ink and treating smooth, hydrophobic image surface with cleaning liquid
DE69333296T2 (de) Entwicklungsvorrichtung und Bilderzeugungsgerät
CN211180538U (zh) 一种硒鼓刮刀结构
KR970007534A (ko) 전자사진 프로세서의 화상 형성 장치
DE19606477C2 (de) Entwicklungsvorrichtung für ein elektrophotographisches Verfahren
JPH0572585B2 (pl)
DE69821085T2 (de) Elektrophotographischer Drucker mit flüssigem Entwickler
DE3045630A1 (de) Elektrophotographisches nasskopiergeraet
DE69920637T2 (de) Verfahren zum Entspannen eines Photorezeptor-Bandes