PL51628B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL51628B1 PL51628B1 PL106481A PL10648164A PL51628B1 PL 51628 B1 PL51628 B1 PL 51628B1 PL 106481 A PL106481 A PL 106481A PL 10648164 A PL10648164 A PL 10648164A PL 51628 B1 PL51628 B1 PL 51628B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- layer
- solution
- minutes
- water
- plate
- Prior art date
Links
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004208 shellac Substances 0.000 claims description 2
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 claims description 2
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 claims description 2
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
Description
Opublikowano: 15.VIII.1966 51628 KI. "hS/JG MKP G 03 c 4/fe UKD BIBLIOTEKA .Urzedu Patentowego] lftl3fcjfj 63gpgftl!ts| ISfeWjt Twórca wynalazku: mgr inz. Zbigijiiew Lazewski Wlasciciel patentu: Instytut Geodezji i Kartografii, Warszawa (Polska) Sposób wytwarzania warstwy podkladowej swiatloczulej warstwy zrywanej Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia warstwy podkladowej swiatloczulej warstwy zrywanej. Warstwa wytworzona sposobem wedlug wynalazku zapewnia dobre kopiowanie i rytowanie linii cienkich o grubosci ponizej 0,1 mm i dobre odchodzenie warstwy swiatloczulej przy jej zrywa¬ niu na przyklad w procesie przyrzadzania klisz do kolorowania wybranych powierzchniowych ele¬ mentów mapy.Dotychczas stosowano do tego celu warstwe pod¬ kladowa z nitrocelulozy napylonej talkiem. Tego rodzaju podklad ma jednak dwie zasadnicze wady, a mianowicie — przy roztworze nitrocelulozy roz¬ puszczalniki sa bardzo lotne (aceton i eter) wobec czego roztwór ten szybko sie zageszcza i trzeba duzej wprawy by dokonac równomiernego oblewu.Poza tym, taka warstwa nitrocelulozy utrudnia otrzymywanie czystych i cienkich linii o grubosci ponizej 0,1 mm a jej wlasciwosci zrywowe zaleza od równomiernosci oblewu i talkowania, co nawet przy duzej wprawie i starannosci w wykonaniu, w niektórych przypadkach miejscami daje zle wy¬ niki.Zagadnienie to rozwiazuje warstwa podkladowa wytworzona sposobem wedlug wynalazku, która pozwala na dobre kopiowanie i rytowanie linii o grubosci ponizej 0,1 mm, a jednoczesnie zapew¬ nia dobre wlasciwosci zrywowe bez talkowania, upraszczajac i ulatwiajac cala manipulacje.Wedlug wynalazku warstwe podkladowa stanowi cienka warstwa zywicy typu szelaku, nalozona 10 20 25 so w dowolny sposób w postaci alkoholowego roz¬ tworu, najkorzystniej przez polewanie na wirówce, przy czym stosuje sie oblew na zimno, przefiltro- wanym 1—2% roztworem zywicy w alkoholu da¬ jacym powierzchnie matowa. Po wyschnieciu tej warstwy nalezy zanurzyc plyte na 15—30 minut w 10% roztworze lugu sodowego, co ulatwia póz¬ niejszy równomierny oblew emulsja. Po lugowaniu plyte splukuje sie woda i ewentualnie ponownie suszy. Przy lugowaniu i splukiwaniu woda czesc zywicy zostaje zmyta, ale pozostala bardzo cienka warstwa podkladowa w zupelnosci wystarcza.Zastosowanie warstwy wytworzonej sposobem wedlug wynalazku ogromnie przyspiesza wyrób plyt gdyz juz po 30—60 minutach taki podklad jest gotowy do oblewu emulsja, podczas gdy po¬ przednio trzeba bylo plyty suszyc w ciagu doby i to przy zapewnieniu atmosfery wolnej od pylu.Poza tym wyeliminowano talkowanie, które w praktyce bylo przyczyna róznych trudnosci. PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania warstwy podkladowej swia¬ tloczulej warstwy zrywanej znamienny tym, ze plyte przeznaczona do oblewu emulsja, oblewa sie na zimno, najkorzystniej na wirówce, przefil- trowanym 1—2% roztworem zywicy typu szelaku w alkoholu, po czym po wysuszeniu tej warstwy zanurza sie plyte na 15—30 minut w 10% roztworze lugu sodowego i splukuje woda. •x«* 51628 PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL51628B1 true PL51628B1 (pl) | 1966-06-25 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2961746A (en) | Printed circuits | |
| PL51628B1 (pl) | ||
| JPS57192955A (en) | Developing method | |
| US3669665A (en) | Process for making resist stencils from photographic stripping films and for using same | |
| US3745011A (en) | Novel photo resist composition containing cyclic polycarboxylic acids | |
| US992898A (en) | Preparation of surfaces suitable for photo-engraving or photo-etching. | |
| ES415643A1 (es) | Un metodo de preparar aluminio para utilizarlo en la pro- duccion de placas litograficas. | |
| US3046114A (en) | Diazo compounds and printing plates manufactured therefrom | |
| US3532607A (en) | Production of anodised surfaces of aluminum or aluminum alloys | |
| JPS5852813B2 (ja) | 成形型より成形物を剥離する方法 | |
| US2927021A (en) | Method of producing a relief image | |
| US3020156A (en) | Method of coating metal on dielectric material | |
| US3945826A (en) | Method of chemical machining utilizing same coating of positive photoresist to etch and electroplate | |
| DE1547849A1 (de) | Lichtempfindliche Masse | |
| US1881714A (en) | Method of electrolytic reproduction | |
| JPH02285088A (ja) | パターン金属の製造方法 | |
| DE2448821A1 (de) | Verfahren zum aufbringen einer kopierschicht | |
| US3156562A (en) | Reproduction of photographic images on ceramic surfaces | |
| US33485A (en) | Dinand lair | |
| GB597964A (en) | Improvements in or relating to a process for making reticles and reticles produced thereby | |
| CN1021975C (zh) | 模具型腔内壁花纹镂蚀法 | |
| JPS5947377A (ja) | 装身具の表面処理方法 | |
| DE750242C (de) | Verfahren zum photomechanischen Herstellen von Flach- und Offsetdruckformen | |
| Lacalli | Composition of the primary wall in Micrasterias rotata | |
| EP0303967A3 (de) | Aufzeichnungsmaterial mit einer Kontrastverstärkungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsmaterials mit einer darauf aufgebrachten Maske |