PL47265B1 - - Google Patents

Description

* ^ a l™*e.feiapfikM,^,,J POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 47265 KI. 39.T80fflT KI. internat. C 08 g Zaklady Chemiczne „Oswiecim"*) Oswiecim, Polska Sposób usuwania osadu z aparatury do polimeryzacji butadienu Patent trwa od dnia 25 sierpnia 1962 r.Przy polimeryzacji butadienu i kopolimeryza- cji butadienu z innymi monomerami prowadzo¬ nych metoda emulsyjna osadza sie na scianach naczyn reakcyjnych czyli polimeryzatorów, na wezownicach, mieszadlach itp. warstwa kauczu¬ ku wydzielajacego sie z lateksu. Warstwa ta utrudnia wymiane cieplna i pogarsza warunki mieszania i z biegiem czasu uniemozliwia pra¬ widlowe prowadzenie procesu polimeryzacji.W celu przywrócenia nalezytej sprawnosci poli- meryzator wymaga okresowego czyszczenia.Oczyszczanie polega na recznym zeskrobywaniu polimeru. Do pracy tej mozna przystapic po dlu¬ gotrwalym przygotowaniu aparatu w celu umo- *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze wspól¬ twórcami wynalazku sa mgr inz. Stanislaw Radwanski, mgr inz. Stanislaw Gibinski, mgr inz. Jerzy Kopytowski, mgr inz. Bogdan Kra¬ jewski. zliwienia wejscia pracownika do wnetrza apa¬ ratury bez narazania go na niebezpieczentswo zatrucia. Jednakze nawet najstaranniejsze przy¬ gotowanie aparatu i zastosowanie wszelkich za¬ bezpieczen stojacych do dyspozycji nie wyklu¬ czaja niebezpieczenstwa i szkodliwosci dla zdro- zdrowia, które stwarza tego rodzaju praca. Je¬ dnorazowe wylaczenie polimeryzatora z baterii czynnych aparatów trwa wlacznie z oczyszcze¬ niem kilka dni, co zmniejsza wydajnosc baterii polimeryzacyjnej o okolo 10% w porównaniu z wydajnoscia teoretyczna wyliczona przy zalo¬ zeniu, ze oczyszczanie nie bylo by potrzebne.Sposób wedlug wynalazku polega na rozpu¬ szczaniu osadu w normalnej temperaturze w ciagu bardzo krótkiego czasu, bez wprowadza¬ nia pracownika do wnetrza polimeryzatora. Do oczyszczania przystepuje sie natychmiast po wy¬ laczeniu polimeryzatora z pracy, gdyz nie jest potrzebne przygotowywanie go, o którym bylamowa powyzej. Wynalazek polega na znalezieniu specyficznego rozpuszczalnika, który umozliwia rozpuszczanie osadu w krótkim czasie bez pod¬ wyzszania temperatury. Typowe rozpuszczalniki organiczne, jak: benzyna, benzen, toluen, trój¬ chloroetylen itp. jak sie okazalo rozpuszczaja ten osad tak wolno, ze rozpuszczanie nimi nie moze miec praktycznego zastosowania. Specyfi¬ cznym rozpuszczalnikiem wedlug wynalazku jest produkt uboczny, otrzymywany przy pro¬ dukcji butadienu z alkoholu na katalizatorze tak zwana metoda Lebiediewa. Surowy produkt otrzymany w reakcji katalitycznej poddaje sie rektyfikacji, przy której odbiera sie tzw. frak¬ cje weglowodorowa, destylujaca w granicach 40 — 180°C pod cisnieniem okolo 4 atmosfer.Frakcja ta zawiera rózne weglowodory prze¬ waznie nienasycone, miedzy innymi nizsze po¬ limery diolefinów, dzieki którym prawdopodob¬ nie odznacza sie szczególna zdolnoscia rozpusz¬ czania osadu o charakterze kauczuku.W celu oczyszczania polimeryzatora w sposób wedlug wynalazku po spuszczeniu z niego latek¬ su wlewa sie rozpuszczalnik i uruchamia mie¬ szadlo na przeciag 10 — 40 godzin w zaleznosci od grubosci powstalego osadu. Po spuszczeniu rozpuszczalnika polimery za tor jest gotów do przyjecia nastepnej szarzy produkcyjnej..Specyficzny rozpuszczalnik zastosowany do powyzszego celu nie ma dotychczas korzystnego zastosowania ze wzgledu na wieloskladnikowosc i szerokie granice wrzenia i dlatego jest bardzo nisko ceniony. Po przemyciu paru polimery za¬ torów jedna porcja rozpuszczalnika i stwierdze¬ niu, ze zdolnosc do dalszego rozpuszczania osa¬ du zmalala, rozpuszczalnik nadaje sie jedynie do spalenia. Jego regeneracja jest nieoplacalna ze wzgledu na niska cene swiezego rozpuszczal¬ nika. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób usuwania osadu z aparatury do polime¬ ryzacji i kopolimeryzacji butadienu przez roz¬ puszczanie w rozpuszczalniku organicznym, zna¬ mienny tym, ze jako rozpuszczalnik stosuje sie frakcje otrzymywana przy rektyfikacji surowe¬ go syntetycznego butadienu, otrzymanego kata¬ litycznie z alkoholu, odbierana w granicach temperatury 40 — 180°C pod cisnieniem 4 atn. Zaklady Chemiczne „Oswiecim" Zastepca: mgr inz. Witold Hennel rzecznik patentowy ZG „Ruch" WrWa, zam. 600-63 naklad 100 «gz. PL