PL37003B1 - - Google Patents

Description

Przy elektrorafinacji miedzi elektrolit zanie¬ czyszcza sie miedzy innymi w znacznych ilos¬ ciach siarczanem niklu. W zwiazku z tym pew¬ na czesc elektrolitu, jako lug odpadowy, jest stale wycofywana i zastepowana swiezym. Z lu¬ gów odpadowych mozna otrzymywac siarczan ni¬ klu znanymi sposobami, np. przez ich elektro¬ lityczne odmiedziowanie, odparowanie i krysta¬ lizacje. Uzyskany w ten sposób siarczan niklu jest jednak mocno zanieczyszczony. Znane spo¬ soby oczyszczania siarczanu niklu, usuwajace z niego takie domieszki jak jony zelaza, miedzi, cynku, glinu, olowiu, arsenu i antymonu, nie pozwalaja na pozbycie sie jonów wapnia i mag¬ nezu.*) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze twórca wynalazku jest mgr inz. Krystyna Krzysztofo- wicz.Sposób wedlug wynalazku umozliwia oczysz¬ czenie siarczanu niklu, bedacego produktem ubocznym przy elektrorafinacji miedzi/ od jo¬ nów wapnia i magnezu.Oczyszczony sposobem wedlug wynalazku siarczan niklu stanowi techniczny siarczan niklu i, jako taki, staje sie cennym produktem stoso¬ wanym w przemysle stopów twardych, akumu¬ latorowym, tluszczowym i perfumeryjnym oraz moze byc uzyty do niklowania.Sposób wedlug wynalazku polega na zadawa¬ niu roztworu siarczanu niklu (oczyszczonego uprzednio od innych zanieczyszczen jedna ze znanych metod) przygotowanym uprzednio roz¬ tworem fluorku niklu. Fluorek niklu dozuje sie w okolo 5-krotnym nadmiarze w stosunku do znajdujacych sie w siarczanie niklu zanieczysz¬ czen wapnia i magnezu. Procentowe zawartosci wapnia f magnezu w siarczanie niklu" przed oczyszczaniem fluorkiem niklu oraz po oczysz¬ czaniu podaje ponizsze zestawienieStan czystosci #f^- przed oczyszczeniem 20,6 po oczyszczeniu 20,6 .. , rtffWHijjw f, 0,23 0,042 ' 0,3* if-fu" i-itt 0,007; — I przed oczyszczen*^ 28e j 2,03$! JUi po oczyszczenia 20,6 QA$t[ 0,19 — Norma . \ GOST W 51 20,6 0,05 inorma 2665—44 W 52 ! 20,6 0,05 |nie Ttclin. W fo 20,6 0,1 'prze- NiSOr :"'¦'" i Iwi- duje * ¦ *•¦"'» i--i ' ' ¦ -—¦—¦—^——- fluorek niklu NiFt otrzymuje sie z zasadowe¬ go wejglanu niklu i fluorowodoru. Fluorek niklu jept rozpuszczalny w wodzie. Zasadowy weglan niHlu bioracy udzial w tej reakcji sporzadza sie z oczyszczonego siarczanu niklu oraz technicz¬ nego weglanu sodu w nastepujacy sposób.Siarczan niklu rozpuszcza sie w temperaturze okolo 70DC w wodzie wodociagowej w stosunku 500 g krysztalów w 1500 cm3 wody i mieszajac ciagle dolewa sie w tej temperaturze 20%-wy roztwór weglanu sodu. Temperatura nie powin¬ na, byc nizsza, bo inaczej weglan zle sie dekan- tuje. Wytracony zasadowy weglan niklu znaj¬ duje sie w roztworze w postaci zawiesiny która przemywa sie woda wodociagowa i dekantuje wielokrotnie tak dlugo, dopóki pH nie wyniesie 7 W celu otrzymania fluorku niklu zawiesine zasa- jfawego weglanu niklu podgrzewa sie do tempe¬ ratury okolo 70°C i na goraco wlewa sie fluoro¬ wodór 40%-wy, az do momentu rozpuszczenie za¬ wiesiny.Roztwór wykazuje wtedy jedynie lekkie zmet¬ nienie spowodowane wytraceniem Cafo i MgFz z wody, które jest bez znaczenia dla dalszego ciagu procesu.Tak przygotowany roztwór fluorku niklu wle¬ wa sie w temperaturze 70°C do roztworu siarcza¬ nu niklu wolnego do innych zanieczyszczen po¬ za wapniem i magnezem. Wypada wtedy galare¬ towaty,bialy osad fluorków Ca i Mg, który od¬ sacza sie.Nadmiar fluorku niklu po odsaczeniu szlamu CaF2 i MgFz oddziela sie droga krystalizacji.Lug pokrystaliczny zawierajacy calkowita ilosc jonów F zawraca sie do sporzadzania zasado¬ wego weglanu niklu* z którego droga wymywa¬ nia i dekantacji usuwa sie jony F. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób usuwania jonów wapnia i magnezu z siarczanu niklu, zwlaszcza z siarczanu niklu otrzymywanego z lugów odipadowych po elektrora¬ finacji miedzi, znamienny tym, ze po wytrace¬ niu wszystkich zanieczyszczen oprócz jonów wapnia i magnezu roztwór siarczanu niklu trak¬ tuje sie fluorkiem niklu N i F*. Instytut Metali Niezelaznych „Pr-fiifea" St-gród, 4811 — 25. 3. 54 — R-6-9&32 Bi bezdrz 100 g — 150. PL