PL189018B1 - Otwarty reaktor kontaktowy - Google Patents

Abstract

1 . Otwarty reaktor kontaktow y w postaci zbiornika, w którym jest umieszczonych szereg dysz rozpylajacych bardzo rozdrobniony plyn, zas przez zbiornik przepusz- cza sie gaz w glównym kierunku przeplywu, do styku z bardzo rozdrobnionym plynem, przy czym dysze rozpyla- jace sa umieszczone na róznych poziomach, z odstepem od siebie w kierunku glównego przeplywu gazu, znamienny tym, ze dysze rozpylajace (2) na kazdym poziomie (L1, L2, L3) sa usytuowane w drodze przeplywu glównego stru- mienia gazu, a ich wyloty sa skierowane równolegle do kierunku (P) przeplywu glów nego strum ienia gazu, zas wzdluz czesci obwodu zbiornika (1) sa umieszczone ele- menty prowadzace (3) gaz, a ich wyloty sa skierowane od scian zbiornika (1) do jego wnetrza, w przyblizeniu prosto- padle do glównego kierunku przeplywu gazu (P), przy czym elementy prowadzace (3) gaz sa rozmieszczone po- miedzy poziomami (L1, L2, L3) w co najmniej jednej parze sasiednich poziomów dysz (L1-L2), (L2-L3), zas dysze rozpylajace (2) sa równomiernie rozstawione na po- wierzchni przekroju zbiornika (1), w miejscach poza usytu- owaniem elementów prowadzacych (3), przy czym ele- menty prowadzace (3) sa usytuowane w odleglosci od sciany zbiorniku (1). która to odleglosc, w glównej czesci obwodu sciany zbiornika (1). w kazdym punkcie w którym elementy prowadzace (3) gaz sa umieszczone, jest równa 10 do 90% odleglosci pomiedzy sciana zbiornika (1) i dy- szami rozpylajacymi (2), umieszczonymi najblizej odpo- wiednich punktów usytuowania elementów prowadzacych (3) gaz. Fig. 1 PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest otwarty reaktor kontaktowy.

Reaktory tego typu są stosowane, zwłaszcza w procesie oczyszczania gazów zawierających zanieczyszczenia gazowe i dla chłodzenia/grzania gazów'.

Znane są otwarte reaktory kontaktowe w postaci zbiornika, w którym jest umieszczonych szereg dysz. Za ich pomocą rozpylany jest bardzo rozdrobniony płyn. Poprzez zbiornik przepuszcza się gaz w oznaczonym głównym kierunku przepływu do styku z bardzo rozdrobnionym płynem. Dysze rozpylające są umieszczone na różnych poziomach, z odstępem od siebie w kierunku głównego przepływu gazu.

Z opisu patentowego PL nr 183 592 znany jest reaktor kontaktowy w postaci wieży, zawierający dysze natryskowe kolektora, które są umieszczone pod kątem prostym do drogi przepływu strumienia gazu. Urządzenie to zawiera półki. Dysze natryskowe kolektora są umieszczone poniżej półek. Półki mają za zadanie zatrzymać cząsteczki płynu przed scalaniem i drenować je wzdłuż ścian wierzy do pierwszego zbiornika. Główną cechą tego rozwiązania jest to, że zawiesina nie płynie przeciwprądowo do spalin gazowych, jak to jest wymagane w stanie techniki w przypadku kontaktorów ciekłego gazu, ale w przeciwieństwie do tego przemieszcza się w tym samym kierunku, co gazy płynące przez wierzę, przy czym występuje tu raczej iniekcja zawiesiny pod kątem prostym do drogi przepływu głównego strumienia gazu.

Otwarty reaktor kontaktowy, według wynalazku, mający postać zbiornika, w którym jest umieszczonych szereg dysz rozpylających bardzo rozdrobniony płyn, zaś przez zbiornik przepuszcza się gaz w głównym kierunku przepływu do styku z bardzo rozdrobnionym płynem, przy czym dysze rozpylające są umieszczone na różnych poziomach, z odstępem od siebie w kierunku głównego przepływu gazu charakteryzuje się tym, że dysze rozpylające na każdym

189 018 poziomie są usytuowane w drodze przepływu głównego strumienia gazu, a ich wyloty są skierowane równolegle do kierunku przepływu głównego strumienia gazu. Wzdłuż części obwodu zbiornika są umieszczone elementy prowadzące gaz, a ich wyloty są skierowane od ścian zbiornika do jego wnętrza, w przybliżeniu prostopadle do głównego kierunku przepływu gazu. Elementy prowadzące gaz są rozmieszczone pomiędzy poziomami, w co najmniej jednej parze sąsiednich poziomów dysz, zaś dysze rozpylające są równomiernie rozstawione na powierzchni przekroju zbiornika, w miejscach poza usytuowaniem elementów prowadzących, przy czym elementy prowadzące są usytuowane w odległości od ściany zbiorniku, która to odległość, w głównej części obwodu ściany zbiornika, w każdym punkcie, w którym elementy prowadzące gaz są umieszczone, jest równa 10 do 90% odległości pomiędzy ścianą zbiornika i dyszami rozpylającymi, umieszczonymi najbliżej odpowiednich punktów usytuowania elementów prowadzących gaz.

Korzystnym jest, gdy elementy prowadzące gaz są umieszczone pomiędzy poziomami w każdej parze sąsiednich poziomów dysz.

Zaletą proponowanego reaktora jest jego zwiększona sprawność, to znaczy zwiększona wydajność odpowiednio dla oczyszczania i chłodzenia/grzania gazów, w porównaniu z reaktorami znanymi ze stanu techniki. Przedstawione tu rozwiązanie dotyczące, zwłaszcza rozmieszczenia dysz rozpylających jak i możliwości kierowania ich wylotów zapewnia to, że rozpylenie może także być kierowane w górę lub zarówno w górę jak i w dół.

Przedmiot wynalazku jest opisany w przykładach wykonania na podstawie rysunku, na którym fig. 1 przedstawia widok uproszczonego przekroju poprzecznego reaktora według wynalazku, fig. 2 - uproszczony widok przekroju wzdłuż linii II-II oznaczonej na fig. 1.

Przedstawiony częściowo na fig. 1 otwarty reaktor kontaktowy ma postać pionowego, zasadniczo kołowo-cylindrycznego zbiornika 1.

W zbiorniku 1 jest umieszczony szereg dysz rozpylających 2, za pomocą których rozpyla się bardzo rozdrobniony płyn. Dysze rozpylające 2 są umieszczone na wielu rozstawionych w odległości, w pionie, poziomach LI, L2, L3.

Dysze rozpylające 2 na każdym poziomie LI, L2, L3 są równomiernie rozłożone na powierzchni przekroju zbiornika 1, za wyjątkiem części zbiornika usytuowanej najbliżej obwodu zbiornika 1, w której to części nie umieszczono dysz rozpylających 2 i/lub części dysz rozpylających 2, które mogły by wpływać na równomierny rozkład na całym przekroju. Każda dysza 2 ma okrężne stożkowe działanie, co tu oznacza, że rozpyla ona płyn w przybliżeniu równomiernie rozłożony w wybranym stożku lub w wybranym stożku ściętym.

W przedstawionym przykładzie wykonania wynalazku rozpylenie z dysz rozpylających 2 jest kierowane w dół.

W omawianym przykładzie wykonania wynalazku reaktor jest stosowany w procesie oczyszczania gazów zawierających zanieczyszczenia gazowe. Czyszczone gazy są kierowane w przybliżeniu pionowo poprzez zbiornik 1 w kierunku strzałek P, do styku z drobno rozproszonym płynem doprowadzanym z dysz 2. W innym zastosowaniu gazy mogą być kierowane przez zbiornik 1 w kierunku przeciwnym do kierunku oznaczonym strzałkami P. W tym przykładzie wykonania wynalazku płyn zawiera wodę i rozpuszczony lub zawieszony w wodzie pochłaniacz, który reaguje z zanieczyszczeniami gazowymi w procesie oczyszczania gazów.

Pomiędzy poziomami w każdej parze sąsiednich poziomów LI, L2, L3 są umieszczone, na obwodzie zbiornika 1, elementy prowadzące 3 gaz ułożone wzdłuż obwodu zbiornika 1. Elementy prowadzące 3 gaz kierują strumień gazu płynącego najbliżej ścian zbiornika 1 do osi środkowej zbiornika 1, w przybliżeniu prostopadle do niej, a więc do głównego kierunku przepływu P gazu.

Każdy element prowadzący 3 gaz ma postać prostego, obwodowego, poziomego kołnierza, ale w celu kierowania strumienia gazu do osi środkowej zbiornika może mieć także inny kształt w zależności od potrzeb. Na przykład element prowadzący 3 gaz może mieć przekrój wygięty w łuk, ale może także mieć bardziej złożony kształt i składać się na przykład z szeregu elementów prowadzących 3 gaz w kształcie czerpaków umieszczonych obok siebie, wzdłuż obwodu zbiornika 1. Elementy prowadzące 3 gaz działają w pewnym stopniu także

189 018 jako elementy prowadzące płyn, ponieważ kierując strumień gazu do osi środkowej zbiornika 1, pociągają płyn, który gromadzi się na ścianie zbiornika 1.

W przedstawionym przykładzie wykonania wynalazku, elementy prowadzące 3 gaz są umieszczone w zbiorniku 1 w takiej odległości od jego ściany, która na większej części obwodu ściany, w każdym punkcie, odpowiada około 50% odległości pomiędzy dyszami rozpylającymi 2 umieszczonymi najbliżej odpowiedniego punktu ściany. Jak przedstawiono na fig. w pokazanym przykładzie wykonania wynalazku oznacza to, że obwodowy, poziomy kołnierz ma szerokość poziomą zmieniającą się wzdłuż obwodu. Ta odległość elementów prowadzących 3 gaz jest w zakresie 10 do 90% odległości pomiędzy dyszami rozpylającymi 2, a korzystnie jest pomiędzy 30 i 65%.

Stwierdzono, że ułożenie elementów prowadzących 3 gaz zwiększa w korzystny sposób sprawność reaktora.

Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 50 egz.

Cena 2,00 zł.

Claims (2)

Zastrzeżenia patentowe

1. Otwarty reaktor kontaktowy w postaci zbiornika, w którym jest umieszczonych szereg dysz rozpylających bardzo rozdrobniony płyn, zaś przez zbiornik przepuszcza się gaz w głównym kierunku przepływu, do styku z bardzo rozdrobnionym płynem, przy czym dysze rozpylające są umieszczone na różnych poziomach, z odstępem od siebie w kierunku głównego przepływu gazu, znamienny tym, że dysze rozpylające (2) na każdym poziomie (LI, L2, L3) są usytuowane w drodze przepływu głównego strumienia gazu, a ich wyloty są skierowane równolegle do kierunku (P) przepływu głównego strumienia gazu, zaś wzdłuż części obwodu zbiornika (1) są umieszczone elementy prowadzące (3) gaz, a ich wyloty są skierowane od ścian zbiornika (1) do jego wnętrza, w przybliżeniu prostopadle do głównego kierunku przepływu gazu (P), przy czym elementy prowadzące (3) gaz są rozmieszczone pomiędzy poziomami (LI, L2, L3) w co najmniej jednej parze sąsiednich poziomów dysz (L1-L2), (L2-L3), zaś dysze rozpylające (2) są równomiernie rozstawione na powierzchni przekroju zbiornika (1), w miejscach poza usytuowaniem elementów prowadzących (3), przy czym elementy prowadzące (3) są usytuowane w odległości od ściany zbiorniku (1), która to odległość, w głównej części obwodu ściany zbiornika (1), w każdym punkcie w którym elementy prowadzące (3) gaz są umieszczone, jest równą 10 do 90% odległości pomiędzy ścianą zbiornika (1) i dyszami rozpylającymi (2), umieszczonymi najbliżej odpowiednich punktów usytuowania elementów prowadzących · (3) gaz.

2. Otwarty reaktor według zastrz. 1, znamienny tym, że elementy prowadzące (3) gaz są umieszczone pomiędzy poziomami (LI, L2, L3) w każdej parze sąsiednich poziomów dysz (L1-L2), (L2-L3).