ES2213268T3 - Reactor de contacto abierto. - Google Patents

Abstract

UN REACTOR POR CONTACTO ABIERTO SE ENCUENTRA EN FORMA DE UN TANQUE (1), EN EL QUE ESTAN DISPUESTAS UNA PLURALIDAD DE BOQUILLAS DE PULVERIZACION (2) PARA PULVERIZAR LIQUIDO FINAMENTE DIVIDIDO, Y A TRAVES DEL QUE DEBE CONDUCIRSE UN GAS EN UN SENTIDO PRINCIPAL DE FLUJO DEL GAS (P), PARA ENTRAR EN CONTACTO CON EL LIQUIDO FINAMENTE DIVIDIDO, ESTANDO DISPUESTAS LAS BOQUILLAS DE PULVERIZACION (2) EN DISTINTOS NIVELES DE BOQUILLA (L1, L2, L3) SEPARADOS EN EL SENTIDO PRINCIPAL DE FLUJO DEL GAS, Y ESTANDO DISTRIBUIDAS DE MANERA SUSTANCIALMENTE UNIFORME LAS BOQUILLAS DE PULVERIZACION (2) EN CADA NIVEL, SOBRE LA SECCION TRANSVERSAL DEL TANQUE. UN ELEMENTO GUIA DEL GAS (3), QUE SE EXTIENDE A LO LARGO DE LA CIRCUNFERENCIA DEL TANQUE (1) Y ADAPTADO PARA GUIAR EL FLUJO DE GAS QUE ESTA MAS CERCA DE LA PARED DEL TANQUE, HACIA EL INTERIOR DEL MISMO, FUNDAMENTALMENTE PERPENDICULAR AL SENTIDO PRINCIPAL DE FLUJO DEL GAS (P), ESTA DISPUESTO ENTRE NIVELES, POR LO MENOS EN UN PAR DE NIVELES YUXTAPUESTOS DE BOQUILLA(L1-L2, L2-L3). EL ELEMENTO GUIA (3) SE EXTIENDE DENTRO DEL TANQUE (1) A UNA DISTANCIA DESDE SU PARED, QUE SOBRE LA MAYOR PARTE DE LA CIRCUNFERENCIA DE LA PARED EN CADA PUNTO, ES UN 10-90 % DE LA DISTANCIA ENTRE LA BOQUILLA (2) COLOCADA MAS CERCA DEL PUNTO RESPECTIVO Y LA PARED.

Description

Reactor de contacto abierto.

La presente invención se refiere a un reactor de contacto abierto que tiene forma de depósito, en el que está dispuesta una pluralidad de boquillas de pulverización para pulverizar líquido finamente dividido y a través de las cuales ha de ser conducido un gas en un sentido de flujo de gas principal para ser puesto en contacto con el líquido finamente dividido, estando dispuestas las boquillas de pulverización en diferentes niveles de boquilla que están espaciados en el sentido de flujo de gas principal, y estando distribuídas en esencia uniformemente las boquillas en cada nivel sobre la sección transversal del depósito.

Los reactores de este tipo se utilizan para diversos fines. Por ejemplo, pueden utilizarse para la limpieza de gases de tratamiento que contienen contaminantes gaseosos, y para el enfriamiento/calentamiento de gases. En estas dos aplicaciones, parece posible mejorar el rendimiento del reactor, es decir, aumentar la capacidad del reactor de respectivamente limpiar y enfriar/calentar los gases.

Por consiguiente, el objeto de la presente invención es proporcionar un reactor de contacto abierto, que tiene un rendimiento mejorado en relación con los reactores de la técnica anterior.

El documento US-A-2 974 936 describe un reactor que tiene medios de guía de gas en forma de conos anulares que se extienden desde la pared de reacción.

De acuerdo con la invención, este objeto se consigue mediante un reactor de contacto abierto, que es del tipo descrito a modo de introducción o a título de introducción y que se caracteriza porque entre los niveles en al menos un par de niveles de boquilla yuxtapuestos están dispuestos medios de guía de gas, que se extienden a lo largo de la circunferencia del depósito y están destinados a guiar el flujo de gas más próximo a la pared del depósito hacia el interior del depósito en esencia perpendicularmente al sentido de flujo de gas principal, extendiéndose los medios de guía dentro del depósito a cierta distancia de la pared del mismo, que en la mayor parte de la circunferencia de la pared en cada punto es del 10-90% de la distancia entre la boquilla situada más próxima al respectivo punto y la pared.

Entre los niveles de cada par de niveles de boquilla yuxtapuestos están dispuestos preferiblemente medios de guía de gas.

Se describirá ahora la invención con más detalle haciendo referencia al dibujo que se acompaña, en el que:

La figura 1 es una vista en sección vertical esquemática e ilustra una parte de un reactor de contacto abierto de acuerdo con la invención, y

La figura 2 es una vista en sección transversal esquemática a lo largo de la línea II-II de la figura 1.

El reactor de contacto abierto mostrado en el dibujo tiene forma de depósito vertical, esencialmente circular-cilíndrico 1, del cual se ilustra simplemente una parte en la figura 1.

En el depósito 1 está dispuesta una pluralidad de boquillas de pulverización 2 para pulverizar líquido finamente dividido. Las boquillas de pulverización 2 están dispuestas sobre una pluralidad de niveles verticalmente espaciados L1, L2, L3, estando uniformemente distribuídas las boquillas en cada nivel sobre la sección transversal del depósito 1, excepto en la parte situada más próxima a la circunferencia del depósito 1, en cuya parte no hay boquillas de pulverización ni/o partes de boquillas de pulverización que implicaría una distribución uniforme sobre toda la sección transversal. Cada boquilla 2 tiene una acción de pulverización cónica circunferencial, por la que se quiere dar a entender aquí que pulveriza líquido en esencia uniformemente distribuído sobre un cono previsto o un tronco de cono previsto.

En la realización mostrada, la acción de pulverización de las boquillas 2 es dirigida hacia abajo. Sin embargo, se apreciará que su acción de pulverización puede ser dirigida también hacia arriba o ser dirigida hacia arriba y hacia abajo.

En la realización mostrada, el reactor se utiliza para limpiar gases de tratamiento que contienen contaminantes gaseosos. Los gases de tratamiento son conducidos en esencia verticalmente a través del depósito 1 en el sentido de las flechas P a fin de que hagan contacto con el líquido finamente dividido. En otras aplicaciones, los gases de tratamiento pueden ser conducidos a través del depósito 1 en el sentido opuesto al sentido de las flechas P. En esta realización, el líquido consiste en agua y una absorbente disuelto o suspendido en ella, que reacciona con los contaminantes gaseosos que hay en los gases de tratamiento.

Entre los niveles de cada par de niveles yuxtapuestos L1, L2, L3 están dispuestos unos medios de guía de gas circunferenciales 3 que se extienden a lo largo de la circunferencia del depósito 1. Los medios de guía de gas 3 están destinados a guiar el flujo de gas más próximo a la pared del depósito 1 hacia el eje central del depósito en esencia perpendicularmente al mismo y, por tanto, en esencia perpendicularmente al sentido de flujo de gas principal P.

Cada uno de los medios de guía de gas 3 tiene forma de pestaña horizontal circunferencial sencilla, pero, para guiar el flujo de gas hacia el eje central del recipiente 1, puede tener también otra forma que resulte adecuada para ese fin. Por ejemplo, los medios de guía de gas 3 pueden tener sección transversal arqueada, pero pueden tener también una configuración más compleja y consistir en, por ejemplo, una serie de elementos de guía de gas en forma de cangilón que estén yuxtapuestos a lo largo de la circunferencia del depósito 1. Los medios de guía de gas 3 funcionan en cierta medida también como medios de guía de líquido por el flujo de gas guiado hacia el eje central del depósito 1 que arrastra líquido que es recogido en la pared del depósito 1.

En la realización ilustrada, los medios de guía de gas 3 se extienden dentro del depósito 1 a cierta distancia de su pared, cuya distancia en la mayor parte de la circunferencia de la pared en cada punto corresponde a aproximadamente el 50% de la distancia entre la boquilla 2 situada más próxima al respectivo punto y la pared. Como se muestra en el dibujo, esto significa en la realización mostrada que la pestaña horizontal circunferencial tiene una anchura horizontal que varía a lo largo de la circunferencia. Sin embargo, dicha distancia de los medios de guía de gas 3 puede variar entre el 10 y el 90% de dicha distancia de boquilla y preferiblemente se halla comprendida entre el 30 y el 65%.

Se ha visto que la disposición de los medios de guía de gas 3 aumenta el rendimiento del reactor de una manera favorable.

Claims (2)

1. Un reactor de contacto abierto que tiene forma de un depósito (1), en el que está dispuesta una pluralidad de boquillas de pulverización (2) para pulverizar líquido finamente dividido y a través del cual ha de ser conducido un gas en un sentido de flujo de gas principal (P) para ponerse en contacto con el líquido finamente dividido, estando dispuestas las boquillas de pulverización (2) en niveles de boquilla diferentes (L1, L2, L3) que están espaciados en el sentido de flujo de gas principal, y estando las boquillas (2) en cada nivel en esencia uniformemente distribuídas sobre la sección transversal del depósito, caracterizado porque entre los niveles de al menos un par de niveles de boquilla yuxtapuestos (L1, L2, L2-L3), están dispuestos unos medios de guía de gas (3), que se extienden a lo largo de la circunferencia del depósito (1) y están destinados a guiar el flujo de gas más próximo a la pared del depósito hacia el interior del depósito en esencia perpendicularmente a la dirección de flujo de gas principal (P), extendiéndose los medios de guía (3) dentro del depósito (1) a cierta distancia de la pared del mismo, que sobre la mayor parte de la circunferencia de la pared en cada punto es del 10-90% de la distancia entre la boquilla (2) situada más próxima al respectivo punto y a la pared.

2. El reactor según la reivindicación 1, caracterizado porque dichos medios de guía de gas (3) están dispuestos entre los niveles de cada par de niveles de boquilla yuxtapuestos (L1-L2, L2-L3).