JPH0659361B2

JPH0659361B2 - 流体処理装置

Info

Publication number: JPH0659361B2
Application number: JP60001000A
Authority: JP
Inventors: バーナード・ジエイ・ラーナー
Original assignee: バーナード・ジエイ・ラーナー
Priority date: 1984-01-09
Filing date: 1985-01-09
Publication date: 1994-08-10
Anticipated expiration: 2009-08-10
Also published as: EP0149307B1; DE3486340D1; EP0149307A3; ATE110293T1; AU569546B2; NO844283L; NO162947B; JPS60156503A; NO162947C; CA1240825A; DE3486340T2; EP0149307A2; AU3405184A

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野この発明は、物質移動、熱交換器内の熱伝達、ガスと液
体の接触、およびガスからの汚染した粒子や霧、蒸気の
分離の様な処理過程における流体の処理に関するもので
ある。特に、この発明は複数の行における要素が作る列
を用いた流体の処理に関し、任意の行における要素は隣
接の行の要素に対して千鳥足形状に並べられている。こ
の明細書で用いられている「要素」という言葉は、一般
的に細長い要素で、横断面が種々の形状である要素を意
味している。「要素」という言葉は、管或は棒の様な中
空或は中実の円筒形の要素を、その意味の中に包含して
いる。円筒形の要素は流体の処理において有効である。
「円筒形」という言葉は、こゝでは広い概念で用いられ
ている。円筒は、連続した閉じた曲面を、この面に垂直
な線でたどることにより形成された３次元の面として定
義されている。

従来の技術千鳥足形状の管の列は、種々の工業的用途に用いられて
いる。例えば、直交流熱交換器において、加熱或は冷却
される流体は、三角形状または錯列四角形状の列に管を
並べてなる千鳥足形状の管の列に対し、直角に流れる。
一般的な熱交換器における管の配列のための管ピツチの
代表的な値は、マクグロウ−ヒル（Mc Graw−Hill）発
行のペリーズ・ケミカル・エンジニアズ・ハンドブツク
(Perry's Chemical Engineers' Handbook)第５版、第５
章「サーマル・デザイン・オブ・ヒートトランスフア・
イクイツプメント（Thermal Design of Heat−Transfer
Equipment）」、第１０〜２６頁に記載されている。ま
た、同様な千鳥足形状の管や棒の列は、ガス清掃および
物質移動に適用されている。

楕円形で且つ流線形の横断面の円筒衝突棒の列のガス消
霧および粒子除去への適用は、トールボーイス（Talboy
s）の英国特許第562,593号、ジエネラル・ダイナミツク
ス（General Dynamics）の英国特許第897,417号および
レーナー（Lerner）の英国特許第1,594,524号に開示さ
れている。英国特許第644,391号は、多孔のシートやガ
ーゼから作られた流線形の横断面形状の要素の千鳥足形
状列から成る粒子フイルタが開示されている。トールボ
ーイズとスミス（Smith）の英国特許第562,593号明細書
と、アルゲマイネ・エレクトリシテート・ゲゼルシャフ
トのドイツ特許第３２８，８２６号明細書は、空気から
ゴミや不純物を除去するための平行に間隔を置いた管の
列を開示しており、この管は多孔性であり、アルゲマイ
ネ・エリクトリシテート・ゲゼルシャフトの場合には水
で湿潤された織布のスリーブで覆われ、トールボーイズ
とスミスの場合には油で湿潤された織布のスリーブで覆
われている。この管は円筒形成は断面が楕円形である。
ジエネラル・ダイナミツクスの英国特許第897,417号
は、吸水材で覆われた流線形の横断面の衝突棒の列から
成る除去器を開示している。レーナーの英国特許第1,59
4,524号は、ガス吸収や霧および粒子の除去のための繊
維円筒の千鳥足形状の列の適用を開示している。アンデ
ルセン(Andersen)の米国特許第3,447,287号は、ガス流
の進路に直角に向けられた多孔性の耐火円筒衝突ピアの
千鳥足形状の行の水平列を含むゴミ焼却スクラツバを開
示している。エクマン（Ekman）の米国特許第3,795,487
号は、酸化硫黄を吸収するための棒状の要素の水平列か
ら成るウエツト・スクラツバを開示している。他の型式
の千鳥足形状の列が、ヒーナン(Heenan)とフラウデ（Fr
oude）の仏国特許第531,515号に示されている。この発
明は、従来一般の上述の特許および文献に開示されてい
る列に関連し，当該列を適用している。

日本の特公昭５２−９６９７３号公報には、装置の有効
性を低減する管だけから成る霧除去装置にて噴流が起こ
り、霧除去器の効果を高めるように管の直径が大きくさ
れるか或はピッチが増大されるか、また、管の列の段数
が増大されねばならないことを教えている。また、当該
公報は、この様な改善が流れ抵抗を増大すると共に費用
を高くし、掃除を複雑にすることを教えている。更に、
当該公報は、これら欠点を排除するよう管の列に加えて
プレードデミスターを備えるよう提案している。プレー
トが追加の管と同じ作用を成すが、管程の大きなスペー
スは取らず、流れ抵抗増大しないのが当該公報の教えで
ある。併し、プレートは重要な欠点を付随する。すなわ
ち、当該公報のデミスタープレートの増大とその配置の
ために、当該公報における処理される流体は均一性を達
成するよう流体流れの混合を除去する管路に対して制限
され、プレートと取り換えられたデミスター管が未だ重
要であるよりも作用を下げることが出来る高い抵抗を導
入する。

発明が解決しようとする問題点全てではないが、上述の要素の千鳥足形状の列の多くに
おいて、行中の要素は、開いている流れ空間が各要素を
完全に囲むように、互いに空間的に離れており、且つ、
隣接の行の要素から空間的に離れている。従来の千鳥足
形状の列の問題点は、そこを通過する流体の処理におい
て十分な能率や効果がないところにある。

従来、効果や能率におけるこの不足の原因は理解され
ず、まだ知られていなかつた。千鳥足形状の要素の列は
一般的に配列されると、流体の進入点から、或は列に直
角な方向からは、流体は要素の面以外、何も見ることが
できない。すなわち、平面図では、開いた障害のない流
れ区域はない。この様な配列の基礎となる従来の考え方
は、全ての流体は各要素に衝突し、その回りを流れ、そ
の要素に接触するところにある。これは望まれ且つ好ま
しい目標であるが、従来の要素の開いた列の配列では実
現されていない。

この発明の目的はこの様な従来における問題点を除去す
ると共に、要素の千鳥足形状の列を備えた、使用すると
その処理が効果的に且つ能率的に実行される流体の処理
装置を提供することにある。

この発明は、従来の列において、要素の間に処理される
流体のための開いた分岐通路があることを見い出したと
ころから起因する。これらの分岐進路は列の対角線に沿
つている。すなわち、分岐通路は流体の流下方向に対し
て鋭角にある。これらの分岐通路は、要素に入射する交
互の進路に比較して、流体に対する流体抵抗が小さく、
全流体の主要部は、これらの分岐進路、すなわち開いた
対角線上の溝を通つて迂回する。ヒーナンとフラウデの
仏国特許第531,515号においては、分岐通路は、当該特
許の図面の第６図に示される様な要素によりふさがれて
いる。しかしなら、これは、高流体抵抗関係に互いに密
接して間隔を置いている溝状の要素により達成される。
ポテンシヤル・バイパス流れがふさがれるばかりでな
く、この流れは、列を通過する流体の圧力低下が容認で
きない高い経済的損失となるように、全体としてふさが
れる。これは、例えば152〜610ｍ／分（500〜2000フイ
ート／分）のガス等の高速で流れる流体では特に正しく
仏国特許第531,515号により開示されているものゝ様な
高流体抵抗の装置は、ガスの速度を実質的に152ｍ／分
（500フイート／分）以下の低い範囲で用いられるよ
う、経済的に制限される。

この発明によれば、迂回する流れは、流体を処理するた
めの千鳥足形状の列の要素から延びる仕切りにより抑制
される。列の中に流入するガスが要素の連続的な面を見
るように、連続する行の要素は、一般に、重なり合う。
所要の低抵抗を達成するために、各仕切りは、その面が
流れの方向にほゞ平行となるように、配置される。この
面は平面や、例えば波形の曲面で、平面が好適である。
また、各仕切りは、この仕切りが挾まれる２つの要素の
外面の間の間隔に比較して薄い。一般的に、仕切りの厚
さは、その間隔の５〜２５％であり、好適には５〜１５
％である。仕切りは要素のほゞ全長に沿つて延びてい
る。列は効果的に且つ能率的に流体を処理するに足るだ
け迂回する流れを減じるように、仕切りは、列の要素の
各々から、或は列の十分な数の要素から延びている。１
つの千鳥足形状の列の対をなす要素の間に仕切りがある
ことは、全ての対をなす要素の間に仕切りが配置されな
ければならないことを意味せず、流体の効果的な処理に
十分な数の対をなす要素の間にだけ、仕切りが配置され
ゝばよいことを意味する。各仕切りは交互の列の２つの
要素の間に配置されている。行は、流体の流れの方向に
ほゞ直角な、或は横になつている要素のラインや列とし
て定義されている。各仕切りが挾まれるその行の要素が
対称的に間隔が置かれるよう、各仕切りは配置されるべ
きことが望まれる。仕切りの長手方向の中心面の長さ
と、この仕切りを挾む要素の中心の間の長さとは、ほゞ
等しくすべきである。この様な対称形は、仕切りの各側
での流れの方向において流れの最小区域をほゞ等しくす
るために望まれる。仮にこれらの区域が等しくなけれ
ば、大きな方の区域がより多くの流体流れを導き、流体
の処理が均一でなくなる。２行以上ある場合には、各仕
切りは交互の行の要素の間で延びる。各仕切りは、この
仕切りが橋絡している２つの要素に結合される必要はな
いが、いずれか一方或はその両方に結合されてもよい。
例えば、熱伝達の場合には、各仕切りはそれが橋絡され
ている両要素に結合されることが望まれる。また、各仕
切りは、列を固定や支持する構造体から独立して支持さ
れてもよい。

列の行における要素は種々の横断面形状が考えられる
が、例えば仏国特許第531,515号に開示されているもの
の様に、円筒形の要素を用いた千鳥足形状の列が、低い
流体流れの圧力低下を達成するという顕著な利点を有し
ている。更に、円筒形要素の列は、他の型式の列よりも
数多く衝突する。熱伝達の様な工業的操作において、列
の要素は固有の円筒形の管である。

この発明に従つた列は、それらが迂回する流れを抑制す
るという利点の他にもう１つの利点を有している。各要
素と、この要素の各側の仕切りとの間を流れる流体のウ
エークにおいて形成される渦流が、仕切りと要素の面か
らの、および当該面への、物質移動の割合を増大させ
る。

要素は多孔性や繊維状で、これらは、ろ過作用や気泡流
を有する慣性機構を連結している要素の列を通してガス
と液体の二相を流れを伴う場合に役に立つ。管状の多孔
性の横形セグメントが要素列に用いられた場合には、気
泡流は、ガスの高流速にて、ガスと液体の並流または向
流で達成される。この装置は広い範囲の流速で効果的に
用いられ、物質移動や通常の粒子および霧除去では152
〜610ｍ／分（500〜2000フイート／分）の流速でこの装
置が用いられ、起微細の粒子、エーロゾルおよび蒸気の
除去には305〜610ｍ／分（1000〜20000フイート／分）
の流速でこの装置が用いられる。

この発明の他の目的や利点と一緒にこの発明の構成と作
動方法と共にこの発明の良好な理解のために、添付図面
に関連した以下の詳細な説明に就いて説明が行われる。

問題点を解決するための手段第１図に示される流体処理装置は要素すなわち円筒形部
材２３の千鳥足形状の列２１を有する。一般に、各円筒
形部材２３は、概してポリプロピレンやステンレス鋼の
編み目の円筒層２６を支持するシエル２４を有してい
る。一般的に、円筒形部材２３の長さは15〜150cm（0.5
〜５フイート）の間にすることができる。列２１は複数
の円筒形部材２３の行２５，２７を有しており、行２５
が行２７と交互になつている。円筒形部材２３の行２５
は円筒形部材の行２７に対して千鳥足形になつている。
すなわち、円筒形部材２３の行２５、２７はピッチが半
ピッチずつずれている。円筒形部材２３は列に亘つてほ
ゞ均一に間隔を置いて配分されており、従つて各行２
５，２７の隣接の円筒形部材２３の中心間の間隔が実質
的に等しく、隣接の行２５，２７の円筒形部材２３の中
心を通る線の間の間隔が実質的に同一で、交互の行２
５，２７の円筒形部材２３の中心間の線は隣接の行２
７，２５の隣接の円筒状部材２３の中心間の線を実質的
に二分する。仕切り２９は交互の行２５，２５および行
２７，２７の円筒形部材２３間に延び橋絡している。一
般に、仕切り２９は金属やプラスチツク、一般的にはポ
リプロピレンの様な薄い板材から成つている。仕切り２
９は円筒形部材２３の全長に沿つて大体延びている。各
仕切り２９は、仕切り２９が橋絡する円筒形部材の交互
の行の間に介在する行の円筒形部材の組の外面間の最小
間隔に較べて薄い厚さをなしている。一般的に、仕切り
２９の厚さは間隔の５〜２５％、好適には５〜１５％で
ある。厚さと比較される間隔は、仕切り２９が向い合う
円筒形部材２３の表面の最小間隔Ｓである。

列２１は一般的にプラスチツクや金属のダクトに取付け
られる。ダクトは横断面がほゞ矩形で、側壁３１と頂壁
および底壁（図示しない）を有している。行２５の半円
筒形部材３３は側壁３１に当接している。

処理される流体は、行２５，２７に対してほゞ垂直に、
すなわち直角に矢印３５の方向にダクトと列２１を通つ
て流れる。第１図に示される様に間隔が置かれた行２
５，２７の円筒形部材２３によつて、流体は円筒形部材
表面によつて形成される固体壁をみる。一般的に、流体
は、除去するよう所要される汚染粒子を含む空気や他の
ガスとすることができる。通常、流体、一般には水、は
適宜配置された噴霧ノズル３７によりガス中に噴霧され
る。

仕切り２９は、連続した行に沿つた隣接の円筒形部材２
３間、例えば行２５の円筒形部材２３ａ，２３ｂおよび
行２７の円筒形部材２３ｃ，２３ｄ間にある対角線状の
分岐通路３９内に挿入される。仕切り２９は分岐流れを
抑制する。仕切り２９は矢印方向３５とほゞ平行な平面
を有している。仕切り２９が間に延びている円筒形部材
２３の中心間の線に沿つて各仕切り２９が大体中心位置
決めされることが好適である。この様な状況において、
仕切り２９が間に延びる隣接の円筒形部材２３は各仕切
りに対して対称的に配置される。例えば、円筒形部材２
３ａ，２３ｂは仕切り２９ａに対して対称的に配置され
ている。

汚染されたガスは矢印４１，４３，４５により示される
ように円筒形部材２３のまわりを通つて流れる。仕切り
２９と円筒形部材２３の対称的な空間の関係のために、
上流側から円筒形部材２３ｅのまわりを流れる流れは、
円筒形部材２３ｅから下流の仕切り２９ｂに対して大体
対称的に流れる共通の流れ４７，４９と一緒になる。こ
れらの流れ４７，４９は円筒形部材２３ｅから下流の円
筒形部材２３ｆのまわりを通つて流れる。この円筒形部
材２３ｆは列２１の最も下流の円筒形部材で、流れ５
１，５５，５７は１つの流れ５９に一緒になる。円筒形
部材２３と仕切り２９はガスから粒子を捕えて、捕えた
液体と一緒に容器（図示しない）内に排出する。円筒形
部材２３の仕切り２９に対する大体均一な分布と大体対
称的な位置決めのために、流体の処理は方向３５と直角
な列２１の範囲に亘つて均一である。

第２図は、中空の円筒形部材６７，６９の２つの行６
３，６５を含む列６１を示している。円筒形部材６７，
６９は有孔の金属またはプラスチツクの管から一般的に
つくられている。列６１は金属またはプラスチツクのダ
クトに取付けられている。１つの行６３において部材に
はダクトの側壁７１に当接する半円筒形部材６９によつ
て各側部にて側面が形成された円筒形部材６７を有す
る。他の行６５は円筒形部材６７を有している。一般的
に、円筒形部材６７，６９は長さが約３０〜１８０cm
（１〜６フイート）である。行６５の円筒形部材６７は
円筒形部材６７，６９に対して千鳥足形になつている。
仕切り７３は行６５の円筒形部材６７間の行６３の円筒
形部材６７から延びている。一般に、仕切り７３は金属
やプラスチツクでつくられている。仕切り７３と側壁７
１は円筒形部材６７，６９の長さに沿つて延びている。
第１図に関連して述べられた円筒形部材６７，６９の均
一な空間分布と円筒形部材６７の対称性は第２図の列６
１に示されている。処理されるべき流体は、行６３，６
５に対してほゞ直角、すなわち横切る方向に矢印７５の
方向にダクトと列６１へと流れる。

処理流体の斜めの分岐流の抑制による改善された効果と
効力に加えて、この発明は予期しない意外な利点を生じ
る。同軸の管の壁に対する物質転換量の流体流れ中に置
かれる単一の固定物体の効果の考案において、「Koncar
−Kjurdjevic & Dudukovic,American Institute of Che
mical Engiueers Journal」第２３巻、１２５頁（１９
７７年）および同書第２５巻、８９５〜８９９頁（１９
７９年）に、固定物体（球体または同心円盤）のウエー
クが次式のシヤーウツド数により測定される様に物質転
換に２つの最大値を生じることがみられる。

但し、Ｋ＝物質転換係数、ｄ＝流溝路の流体半径、Ｄ＝拡散係数。

シヤーウツド数は流体から表面、または表面から流体へ
の物質転換の移送の約数である。流れに有効な有効断面
の細小と、抑制部を通つて流れるときに流体に与えられ
る壁に直角な速度成分との２つの効果に第１の部分最大
値がもとづくことがみられる。第２の部分最大値は壁に
おける流体の境界層によるウエーク形成と相互作用の結
果である。最初期の流れ抑制を生じる目的の後のウエー
クの不安定と分離にもとづいて、乱れた破動の強さは、
部分シヤーウツド数の急速な増加を導く壁上の拡散補助
層への流体部材の浸透を生じるウエークを増大する。

コンカー・クジユルジエヴイツク等のこれら研究者は、
空の管のシヤーウツド数に対する同軸管の球または円盤
障害による下流のシヤーウツド数の比が平均で１．０よ
り大きく、多くの場合２．０以上であることを見出して
いる。従つて、ウエーク効果は壁に対する通常の転換量
を倍化する。乱流制度の熱と物質とモーメント転換は、
乱流渦の運動のような共通の機構によつて全て抑制され
る。理論的または経済的手段のいずれかによつて乱流渦
運動が数学的に説明できる範囲に対して、熱および物質
転換係数および摩擦（モーメント）損失が得ることがで
きる。これら基本的な関係は熱と物質とモーメント転換
との間の“類似”から成る。熱と物質とモーメント転換
との間の類似の理論的および経済的な発展の全体的展開
が、ダブリユ・エス・ノーマン著“吸収、蒸留、冷却
塔”ジヨン・ウイレイ・アンド・サンズ社、ニユーヨー
ク、１９６１年、第３５〜４１頁に示されている。勿
論、これらは乱流中の渦転換の共通機構により制御さ
れ、熱および物質転換率係数が他の中から１つ計算でき
る。関係が無次元群の用語の、物質転換のシヤーウツド
数、Ｓｈと、熱転換のスタントン数、Ｓｔに述べられて
いる。

渦発生装置によるシヤーウツド数の倍化は熱転換におけ
るスタントン数の同様な増加にもとづいている。従つ
て、ウエーク効果と協同するこの発明の列は１以上の、
すなわち橋壁により加えられる接触面以上の、係数によ
る熱および物質の転換率を増加する。従つて、この発明
に従つて仕切られた熱転換列は、平行な流体流れをもつ
た真直壁の同一面積を有する装置の転換係数を平均で２
倍にする。

物質転換の上述した改良が第３，４図に示されている。
第３図は壁１５３，１５５間に配置された管１５１また
は円盤を有する組体を示している。流体１５７はこの組
体を介して導入される。管１５１と壁１５３，１５５の
間に流体通路が形成される。流体１５７は抑制された領
域１５９内に絞り立され、流体速度が増大される。流体
が抑制された領域１５９を出た後に、流体速度が低下さ
れ、渦１６０がウエーク中に形成される。渦１６０は壁
１５３，１５５に垂直な速度成分を有しており、この速
度成分は物質または熱転換を作用する壁に沿つた流体の
層１６２の透過を生じる。

第４図にて、比Sh/Sh₀は、水平方向に描かれた入口から
組立への距離の関数として垂直方向に描かれる。Ｓｈは
管１５１と壁１５３，１５５を含む装置のシヤーウツド
数で、Sh_０は管１５１を含まない装置のシヤーウツド数
である。曲線は絞り効果に対応する最大値と、表示され
るようウエーク効果に対応する第２の高い値を示してい
る。

この発明の変倚された列を通る流れは同軸の球体や円盤
を通過する管を通る流れの場合と同じではないが、非常
に似た類似のものである。平断面すなわち平面に平行な
断面にて、この発明の列は多数の平行な流通路の組、管
１５１と壁１５３，１５５と１５１の間（第３図）の通
路に類似の、から成つており、各組はコンカー・ジユル
ジエヴイツクとデユドコビツクにより研究された管の同
軸の球の如き同一平断面を有している。ウエーク効果と
壁の利点は多数の壁通路による横方向と、多数の横ター
ゲツト部材による流体流れ中に増される。

この発明の列にて、橋絡する平行な仕切り２９（第１
図）は横“ターゲツト”要素に当たる流体の流れを形成
する。通常の仕切られない開放した列とこの発明の列に
おいて、集中する流体流れは横要素の第１の列を通る流
体流れとして得られ、開放した列にてウエークエネルギ
は乱流摩擦損失として消費される。一組の２つ、３つま
たは多数の行（２つの行１５１〜１５３，１５１〜１５
５と各部材の外方の第３の列）を通る流れを形成するこ
の発明の橋絡する仕切りによつて、壁に直角な渦が横要
素や要素区分により各連続ウエーク発生にて得られるよ
うにウエークエネルギが制御される。これは多数も一連
の繰返されるウエーク発生のために単一障害の値を越え
て平均転換係数を増加する。

また、この発明の列は流体混合機として作用する。この
発明の列の性質は、流体流れが繰返し分けられて、列を
通つて一般の流れ方向に流れるときに別の流体流れを流
れる流体と再混合されるようなす。従つて、第１の行の
２つの要素間に入る流体は、第２の行の要素と各第１、
第３の行の仕切り２９（第１図）によつて２つの流れに
分けられる。しかし、流体が第３の行の要素を出るとき
に、別の組の仕切り壁は流れ形成壁として有効になり、
２つの分離した流れは別の隣りの流れと混じる。これは
流体が列を通つて流れるときの熱転換における周期的混
合と再分布に有効であるだけでなく、列自体が優れた静
的液体混合装置として作用する。

実施例Ｉ実施例Ｉの流体処理は第６図に示されるずれた列１６２
により行われる。この列１６２は３角形にずれた垂直な
プラスチツクの管１７１，１７３の４つの列１６３，１
６５，１６７，１６９を有する。各１７１，１７３は３
３mm の外径を有する。交互の行１６３，１６７，１６５，１
６９の管１７１，１７３の中心間の間隔は９５mm である。管１７１，１７３の長さは４８１mm である。行に沿つた管の中心間の間隔は５４mm である。１行当り５．５個の管がある。流体流れに対し
て下流側に配置された第３，４の行１６７，１６９の管
１７３は、ゼネラルダイナミツク社の英国特許第897,41
7号に従つて液体膜化を容易にするようホリングスウオ
ース・アンド・ボス・コンパニーの“フアイバネテイツ
クス”や“ホボマツト”の商品名の薄いガラス繊維布の
単一の層１７５で包まれる。

行１６１は３０５mm×３０５mm（１２インチ×１２イン
チ）流通横断面積を有する水平ダクト１７７を通つて流
れる空気を霧除去すべく使用された。空気は７．５馬力
電動機が設けられたNo.１５シンシナテイ遠心強制ドラ
フトブロワ（図示しない）によつて矢印１７９の方向に
試験ダクトを通つて流れた。ダクト１７７と行１６１は
ブロワの約１．８ｍ（６フイート）下流に設けられた。
霧は、試験装置から２８０mm（１１インチ）上流に設け
られたベート・ホツグ・ノズル社のTF6FCN型噴霧ノズル
１８１によつて発生された。噴霧ノズル１８１は良好に
噴霧されたスプレーを生じるよう７Kg／cm²（１００ps
i）の圧力で作動された。圧力７Kg／cm²（１００psi）
で、ノズル流量は１０／分（２．２ガロン／分）で、
ノズルが空気流れ内を上流に向けられたので、微細な霧
粒子が霧除去機すなわち列１６１に向つて戻り運ばれ
た。

列１６１は、垂直断面内にて空気流れ方向１７９に垂直
に管１７１，１７３と一緒にダクト１７７内に挿入され
た。管列は空気速度を変えて圧力低下と霧除去が試験さ
れた。空気速度はピトー管１８３により測定され、圧力
低下は傾斜マノメータ１８５により試験モジユールを横
切つて行われた。霧透過は、暗くなつた室による出口ガ
ス流に対し直角な光ビーム１８７を用いてチンダル効果
によつて目で観察できた。

この発明により教えられる様な仕切りのない試験列によ
つて、微細な霧透過は最小の測定可能な空気速度１２９
ｍ／分（４２３フイート／分）でチンダル効果により直
接に観測された。この微細な霧の装入は空気速度が３１
８ｍ／分（１０４２フイート／分）までに増大されたと
きに明確に連続的に増大された。０．２５〜２．５mm
（０．０１〜０．１インチ）直径の大滴下透過は、ガス
速度の２１３〜２４４ｍ／分（７００〜８００フイート
／分）の範囲まで観察されなかつた。また、この大滴下
装入は２２９〜３１８ｍ／分（７５０〜１０４２フイー
ト／分）からの空気速度増加と共に増大された。従つ
て、列１６２は１２９ｍ／分（４２３フイート／分）に
低下した全測定速度での微細な霧の除去に有効でなく、
約２２９ｍ／分（７５０フイート／分）以上での大滴下
霧除去に有効でなかつた。

列１６２はそこでこの発明の教えに従つて変更された。
幅６１mm で厚さ３mm（1/8インチ）のポリプロピレンの仕切り１
８９が別の管１７１，１７３の間に取付けられた。仕切
り１８９は管１７１，１７３の間の中心線上に中心決め
され、管１７１，１７３の長さ方向に沿つて延ばされ
た。この発明に従つた列は従つてダクト１７７内に配置
され、１３９および３４８ｍ／分（４５５および１１４
０フイート／分）間の空気速度で霧除去機として作動さ
れた。排出空気のチンダルビーム観察は試験された速度
の全範囲に亘る明白な微細霧の透過のウエークがみられ
なかつた。大滴下透過は３１８ｍ／分（１０４２フイー
ト／分）の空気速度まで始まらず、試験が終了した点で
３４８ｍ／分（１１４０フイート／分）まで十分になら
なかつた。

通常の仕切られない列により示される微細な霧滴下透過
を防止する仕切られた列の成功はこの発明の優勢な仕切
り列を明白に示している。この発明に従つた仕切りによ
つて分路する斜め溝路ガスの除去は微細な霧の透過を防
止するだけでなく、大きな液体滴下が最初に繰越す空気
速度を上げる。仕切られた列の圧力低下は、仕切られな
い列の同一空気速度における水柱１９mm（０．７５イン
チ）に対向するように３１８ｍ／分（１０４２フイート
／分）空気流において水柱３４mm（１．３５インチ）で
あつた。乱流制度のガス圧力低下はガス速度の二乗にほ
ゞ比例するので、圧力低下の割合は仕切らない列のガス
流の約３４％が３１８ｍ／分（１０４２フイート／分）
にて開放対角線に沿つて分路されることを示している。
開放の偏倚されない列に対して比較される様にこの発明
の列にて得られる増加した圧力低下は分岐流路の除去
と、横部材すなわち横要素の後のウエーク乱れ強さの増
大との両方に起因する。遮蔽する傾斜分岐流路が横ウエ
ーク発生部材の第２の連続した行に到達する正常な直線
ガス速度を増大し、従つて増大したウエーク乱流渦強さ
を生じるために、これら２つの効果は相互依存する。壁
上の滴下凝集と衝突の両方を増大するウエーク渦乱れの
影響は上述の試験の結果からみることができる。試験セ
ルの液体霧負荷が直接ガス速度の関数であるために、大
滴下の再搬送点が異常な高液体負荷に対応して処理装置
の固有な有効の制限でない液体排水量制限であることを
注意すべきである。この発明の液体処理装置の真実の霧
除去の有効速度制限は従つて３１８ｍ／分（１０４２フ
イート／分）以上である。

実施例II この発明に従つた流体処理装置は湿潤洗浄によつて空気
からフライアツシユを除去するよう使われた。この処理
を行うための流体処理装置１９１が第５および６図に示
されている。この流体処理装置１９１は１７５mm 平方流通横断面積の垂直なダクト１９３を有している。
互い違いの３角形の列１９５は６１０mm（２フイート）
長さで列の上下に清掃ダクト断面をもつてダクト１９３
内に挿入されている。垂直な方形のダクト１９３の頂部
は８４cm²（１３平方インチ）の空気入口部１９６に変
形している。

この列１９５は列内に水平に配置された１３mm（1/2イ
ンチ）の直径の４０個の鋼の管１９７を有している。管
１９７の長さは１７５mm よりも僅かに短い。上流下流の第１、第３の行１９０、
１９２は各行５つの管を有し、上流下流の第２、第４の
行１９６、２０６は両端の半分の管と間の４つの管とを
有している。ダクト１９３の軸心すなわち流体流れ方向
に垂直な中心間のピツチは３５mm で、ダクトの軸心に平行な中心間のピツチは２９mm である。列１９５は交互の行の管１９８の間に仕切り２
０２が設けられている。仕切りは１６ゲージ鋼で、第
１、第３第２、第４の行１９６、２０６の管中心にスポ
ツト溶接されている。

ホツパ１９９から供給されるフライアツシユは制御され
た速度で可変速度スクリユフイーダ２０１により入口部
１９６に供給された。フライアツシユの量は時間間隔の
前後にフライアツシユホツパフイーダ装置１９９，２０
１の計量によつて決められた。水はブロツクロータメー
タにより計量された量にて噴霧ノズル２０３を介してバ
ツフル列ユニツト１９５の上に供給される。水はスラリ
収集タンク２０７から水を再循環するダイトン遠心ポン
プ２０５によつて供給された。スラリ収集タンク２０７
は、垂直試験部分の下流に設けられてダクト１９３から
スラリを受けるよう接続された６１０mm（２４インチ）
直径のサイクロン分離機２０９の底部である。サイクロ
ン分離機２０９から排出された清掃空気は３０５mm（１
２インチ）直径のダクト２１１を通つて、７．５馬力３
４７５回転／分の電動機が設けられたシンシナテイブロ
ワ２１３の吸込側に流れた。フイルタ２１７が液体再循
環回路に設けられた。空気流はフアン吸込側のスライド
ダンパ２１５により制御された。ブロワ２１３はダクト
内に負の圧力を生じるので、空気はダクト内に垂直に下
方に流れるよう導かれた。

ガスから粒子を除去するこの発明に従つた流体処理装置
の効果を決めるために、フイーダ２０１はフライアツシ
ユを１６５．０ｇ／分の割合で供給するように設定さ
れ、ブロワ２１３は１３１０ｍ／分（４３００フイート
／分）の表面速度で空気を供給するよう設定された。列
１９５における圧力低下は水柱１７８mm（７インチ）で
あつた。水が３４．５／分（７．６ガロン／分）の割
合で列の上の空気流中に噴霧された。再循環溶液回路に
設けられた予め計量されたフイルタ２１７のカートリツ
ジは液体により捕えられたフライアツシユをろ過してサ
イクロン分離機２０９に集めるように用いられた。液体
再循環管路と収集タンク２０７は試験の後に新鮮な水で
ゆすがれ、スラリがカートリッジフイルタを経てろ過さ
れた。カートリツジは各作動の後に乾燥されて計量され
た。溶液装置から集められたフライアツシユの全重量は
ドライフイーダ２０１とタンク２０７のフライアツシユ
重量の相違と比較される。２つの連続した作動は９８．
２％の平均重量回復を与える同一状態下にて行われた。
これら試験に用いられたフライアツシユ試料はピツツバ
ーグのデユクーズ・ライト社の火力発電設備の静電集塵
機に集められるので、フライアツシユは火力発電設備に
より普通に排出されることを示している。空気からのこ
のアツシユの除去のためにこれら試験にて得られた９
８．２％の効率はフライアツシユにおけるより大きな圧
力低下（および速度）にて作動するベンチユリ洗浄装置
の代表的な性能である。粒子除去のためのこの発明のエ
ネルギ効率は従つて高くすべくみられる。

粒子除去のためにこの発明により達成される高い効率は
以下の様に説明できる。

霧や噴霧の形の水は列１９５の上流に導入される。固体
粒子と水滴を含むガスは、第１列の横要素すなわち管１
９７の間の制限された領域１９８に入るときに高速度に
加速される。ガスと含有微細粒子は管と仕切りの間の抑
制された区分の速度の急速な増大を受けるが、大きな質
量のために水滴の速度は一層ゆつくりになる。速度差の
ために、フライアツシユが水滴により捕えられることに
もとづいてフライアツシユ粒子と水滴の間に衝突がみら
れる。これは完全な方法でなく、衝突しない水滴と捕え
られない粒子は下流に流れる。

第１列流通抑制部分の直ぐ下流で、流通面積は大きくな
り、ガスは減速され、上述した方法がガスと一緒に逆転
されて水滴よりも一層急速に速度を損失する粒子を包ん
でいる。次いで、ガスは制限された領域２００に入り、
上述の工程が繰り返される。更に、ガスの一部は管１９
７の下流ウエーク内に不規則な乱れた渦に流れ、隣接の
仕切りに対し直角な大きな速度ベクトル成分をもつてい
る。仕切りに直角なベクトル成分は仕切りにおいて流体
境界層を透過し、仕切りに対し直角な衝突と流体変化を
強化する。第２の列１９７はガス加速抑制流れ領域を再
び形成し、上述した方法を繰返す。

ガス液体接触における別の利点は、有孔や小さな孔また
は孔があげられた横方向の部材の使用によつて一定にで
きる。例えば、英国特許第1,594,524号明細書に示され
るラーナーの円筒メツシユや、米国特許第3,447,287号
明細書のアンデルセンの有孔セラミツク部材や、英国特
許第644,391号明細書の有孔管が横要素として用いるこ
とができる。流体への熱の附与や流体からの熱の除去
は、横要素１９８が管状加熱または冷却交換部材、ひれ
付管または平らな管状部材であるこの発明の列において
達成できる。

実施例III ガス液体接触に使用したこの発明の効果が調査された。
第２図に示されるような２行の横要素列の如き最も簡単
な形の列が用いられた。橋絡仕切りが簡単な２列組体の
横要素の交互の行の間に延びるこの発明の列が好適であ
るが、横要素が下流部材に全て橋絡できない。この場合
に、一線上に２つの横要素を有する交互の行は橋絡で
き、下流に相手のない前行要素は仕切りを設けることが
できず、組体のための同一流通利点を確実にしている。
この発明を実施するための流体処理装置２２１が第８，
９図に示されている。この流体処理装置２２１はほゞ矩
形横断面の上下垂直ダクト部２２３，２２５を有してい
る。上垂直ダクト部２２３には頂部および底部にフラン
ジ２２７，２２９が設けられている。下垂直ダクト部２
２５には頂部にフランジ２３１が設けられている。霧除
去機２３３がフランジ２２７に取付固着されている。こ
の発明に従つた千鳥足形の列２３５はフランジ２２９，
２３１間に固着される。噴霧ノズル２３２，２３４は列
２３５の上下の上下垂直ダクト部２２３，２２５に取付
けられる。下垂直ダクト部２２５にはブロワ２４３によ
つて噴射される空気が流通する水平なＴ字形部２４１が
設けられている。空気はＴ字形部２４１に対向する下垂
直ダクト部２２５のそらせ板２４５によつて分配され
る。

列２３５は三角形ピツチ上中心を有する外径７３mm の中空有孔の円筒状の部材すなわち要素２５１，２５３
の２つの行２４７，２４９を有する。各行の要素２５
１，２５３は中心間が１１４mm 隔つている。要素２５１，２５３と仕切り２５５は約３
００mm（１フイート）の長さである。要素２５１，２５
３を構成する管は、６．２mm（1/4インチ）×３．１mm
（1/8インチ）の矩形断面で、開口面積が約５４％のコ
ーンド・コーポレーシヨンの製品No.RN5640の市販のポ
リプロピレン長孔管である。円筒状の要素２５１，２５
３は壁に半円筒状の要素２５３を必要とする２３０mm
（９インチ）幅の組体に設けられている。第２の行は２
つの円筒から成り、６．２mm（1/4インチ）厚さの仕切
り２５５がこれら円筒状要素の間に等間隔に設けられ、
第１の行の中心の円筒を分けている。列２３５は２３０
mm（９インチ）×２８０mm（１１インチ）の矩形横断面
流通面積を有し、ダクト部２２３，２２５は３０５mm
（１２インチ）×３０５mm（１２インチ）平方の流通面
積を有している。

試験は、垂直方向上方に流れる空気と、列の上から下方
反対方向に、また列の下から上方に同一方向に或は両方
向に噴霧された液体とで行われた。空気は、７．５馬力
電動機が設けられたシンシナテイ１５型遠心ブロワ２４
３によつて３０５mm（１２インチ）平方の垂直ダクト部
２２５のＴ字形部２４１を介して供給された。液体はダ
クト部２２５から小型のタンク２５２に排出され、オー
バードフア遠心ポンプ２５４によつて列２３５の上下３
０５mm（１２インチ）のところに設けられた２つの噴霧
ノズル２３２，２３４の１つに再循環された。上の噴霧
ノズル２３２は反対方向の液体噴霧試験に使われ、下の
噴霧ノズル２３３は同一方向の液体噴霧試験に使用され
た。空気流はブロワ２４３の吸込側のスライドダンパ
（図示しない）によつて制御された。空気速度は図示し
ないピトー管測定によつて決められた。

研究の目的は、仕切り・そらせ板／ふるい円筒列２３５
が円筒要素２５１内の液体維持を生じるようつくること
ができ、且つどんな状態下にてガス泡立ちが円筒形要素
内にできることを決めることであつた。円筒形要素２５
１，２５３内の安定した泡立ちは釣立つた液体排出をも
つて反対方向および同一方向の液体噴霧状態における２
１３〜４４２ｍ／分（７００〜１４５０フイート／分）
の範囲の直線ガス速度にて達成された。例えば、或る作
動にて、水噴霧は７．３／分（１．６ガロン／分）の
割合の空気流と共に列２３５の下に導入された。装置を
流れる空気速度は１６５〜５４９ｍ／分（５４０〜１８
００フイート／分）の範囲内を段階的に変化され、流れ
機構を観察して圧力低下が測定された。１６５ｍ／分
（５４０フイート／分）では、泡立ちが観察されず、液
体保有は最小であつた。２２０ｍ／分（７２０フイート
／分）空気速度で、液体は管を満たし、軽い断続的な泡
立ちが上の円筒形要素２５１に始まつた。空気速度が３
９４ｍ／分（１２９４フイート／分）に増速されるとき
に、泡立ちが全ての円筒形要素内で増大されて力強く安
定して残つた。この点で、列２３５における圧力低下は
僅か水柱１４mm（０．５５インチ）で、釣合つた液体排
出が維持された。空気速度が４４２ｍ／分（１４５０フ
イート／分）に増速されるときに、円筒形要素の頂部下
流の行２４７における圧力差は大きな搬送を始めるに十
分なので、円筒形要素内の液体が上方に噴霧し始め、こ
れら円筒形要素内の泡立ち作用は減少した。ガス速度が
この大きさ以上に増速されたときに、列２３５に水が流
れ、すなわち液体は供給される流量でガス摩擦に対して
最早排出できず、液体はガスの激しい不連続の詰つた流
れになつた。この試験は同一方向の１２．２７／分
（２．７ガロン／分）、１５．４８（３．４５ガロン／
分）、１９．１（４．２ガロン／分）、２５．４５
（５．６ガロン／分）、２７．２８（６．０ガロン／
分）、２９．２３（６．４５ガロン／分）の液体流量に
て繰返された。圧力低下またはガス速度溢流点にて円筒
状部材内に良好な泡立ち作用を始めるように必要とされ
るガス速度における液体負荷変化の作用は無視できた。

試験は同一液体流量にて、噴霧ノズル２３２から列２３
５の上へのガス流れと同一方向の液体によつて繰返され
た。圧力低下は水柱６．４〜１２．７mm（０．２５〜
０．５インチ）であつたが、ガス流れの関数としての泡
立ち作用と同一方向流れにて得られる溢流制限はほゞ同
一であつた。第３組の作動は同一方向または反対方向流
のノズルによつて行われ、流体流れを等しく分流し、別
の反対方向および同一方向流体ガス流状態と似た結果を
生じた。

流動作用の最も印象的な特長は、泡立キヤツプ皿やふる
い板のような通常の液体ガス接触装置に使われるよりも
数倍速いガス流速度にて得られる観察できる強い安定な
液体ガス泡立作用であつた。試験された型にて、この発
明の流体処理装置は円筒形に巻付けられた２段組のふる
い皿に等しい。結果的なふるい管仕切り列（流れ平行仕
切りを有する）は、達成し難い先に考慮した直線ガス速
度の範囲の非常に低い圧力低下のもとで強い安定な接触
状態にて作動できる特異で新規な液体ガス接触装置を提
供する。この様な装置は非常に小型で経済的な寸法の蒸
留吸収装置に対する幅広い利用を有している。

この発明の推奨実施例に就いてこゝに説明したが、多く
の変更が可能である。この発明は、従来技術の精神によ
つて必要とされることを除いては制限されない。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例を示す流体処理装置の千鳥足
形の列の平面図、第２図はこの発明の変形例を示す流体
処理装置の千鳥足形の列の平面図、第３図は質量変換量
がこの発明の実施にて増大される状態を示す概要図、第
４図は質量変換量がこの発明の実施にて増大される状態
の理解を助ける第３図に関連したグラフ、第５図はこの
発明の実施での流体の処理の研究に用いられる試験装置
を示す概要図、第６図はこの発明の実施にて液体からフ
ライアッシュを除去する装置を示す概要図、第７図は第
６図のVII−VII線に沿った断面図、第８図はこの発明に
従つた有孔管泡洗浄装置の側面図、第９図は第８図のIX
−IX線に沿つた断面図である。図中、２１，６１，９
１，９３，１６１，１９５，２３５：列、２５，２７，
６３，６５，１６３，１６５，１６７，１６９，２４
７，２４９：行、２９，７３，９５，１８９，２５５：
仕切り、３７，１８１，２０３，２３３：噴霧ノズル。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】予定された方向(179)に直角な複数の行(16
3,165,167,169)に配列された個別の管(171,173)を備
え、該管(171,173)の隣接の行(164,165-165,167-167,16
9)は互いにピッチがずれていて、各行(164,165,167,16
9)の管(171,173)は互いに且つ隣接の行の管(171,173)か
ら空間的に隔たっており、該管は、流体が再流入する再
流面を流体の流れ方向(179)に対して上流側に有してい
ない流体処理装置であって、該流体が予定方向(179)に
優先的に流れ、液体−ガスと接触する流体を管において
処理し、粒子と霧または蒸気を流体から分離したり或は
流体間の熱や物質を伝達する流体処理装置において、該
管の少なくとも複数の行の組の間を橋絡する仕切り(18
9)によって該流体の対角線方向の迂回通路が阻止され、
仕切りによる各組の橋絡は１つ置きの行(164,167-165,1
69)の一対の部材間に有って、各仕切り(189)は、対角線
方向の迂回通路に対して完全な障害を間挿するよう橋絡
された管の長手方向に沿って橋絡する各組の管(171,17
3)の外面と接触し、仕切り(189)が延びる管(171,173)
の、仕切りと反対側の管の外面には仕切りがないことを
特徴とする流体処理装置。
【請求項２】仕切り(189)は流体の流れ方向と平行に配
置されて流体の圧力低下を最小にするよう形造られ、１
つ置きの管の行(165に対して164と167,167に対して165
と169)の間に介在する管の行(165,167)が仕切りに対し
て対称的に配置されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の流体処理装置。
【請求項３】管は流れる流体に対して孔が穿いていない
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の流体処理
装置。
【請求項４】管(251,253)は流れる流体に対して孔が穿
いており、該各管は全面に亙って孔が穿いていることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の流体処理装置。
【請求項５】各仕切りの厚さは、仕切りが通る管の介在
する行の組の外面間の最小間隔と比較して薄いことを特
徴とする特許請求の範囲第２項記載の流体処理装置。
【請求項６】仕切りの厚さが最小間隔の５〜２５％であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の流体処
理装置。
【請求項７】管は細長くて、管の軸心が水平か或は管の
軸心が垂直な１つの行に配列されたことを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の流体処理装置。
【請求項８】複数の行の管は上流から下流に連続して少
なくとも第１の行の管と第２の行の管と第３の行の管と
第４の行の管とを有し、仕切りが橋絡していて、迂回通
路に対して完全な障害を介在させるように第１および第
３の行の管と第２および第４の行の管と接触しているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の流体処理装
置。
【請求項９】各橋絡仕切りは、管の外面を通って橋絡す
る管内に貫通していないことを特徴とする特許請求の範
囲第５項記載の流体処理装置。
【請求項１０】流体がガス汚染粒子で、流体処理装置が
ガスから粒子を分離するためのもので、各仕切り(202)
は、仕切りの表面と、流体が間を流れる介在する行の管
(197)の組の外面との間にガスのための制限された流通
路を形成している流体処理装置において、ガス中に水滴
を生成すべくガス中に流体を噴霧する噴霧ノズル(203,2
05)を備え、粒子と水滴は抑制された流通路(198)を通過
する時に加速され且つこの抑制された流通路(198)から
流出した時に減速され、粒子は流通路に流入する水滴よ
りも高速度に加速され且つ流通路から流出する水滴より
も低速度に減速され、これによって粒子と水滴は流通路
(198)を流出入する時に異なった速度で流れて水滴が粒
子を捕えてガスから粒子を分離することを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の流体処理装置。
【請求項１１】流体が流体に伝達すべき成分を含むガス
であり、流体処理装置が該成分を該液体に伝達するため
のガス−液体接触装置であって、該流体処理装置が、管
(251,253)の行を横切る方向に該管の行を通過して該成
分を包含するガスを伝達する手段(241,243)と、ガスの
流れに対して該管の行の下流にガスの流れと反対方向の
流れに液体を該管の行(247,249)に噴霧する手段(232,23
3,254)とを備えたものにおいて、ガス伝達手段は、管の
孔を通って管内に流れる噴霧された液体が安定な溜まり
の該管と該溜まりを通る気泡とに支持されて成分が液体
に伝達される様な範囲内の流速度を付与する型式である
ことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の流体処理
装置。
【請求項１２】流体が大体水平方向に流れる霧搬送ガス
で、流体処理装置がガスから霧を分離するものにおい
て、縦軸心が大体水平である行を形成する行に管が取り
付けられ、仕切りがガスの流れ方向に大体平行に取り付
けられたことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の
流体処理装置。
【請求項１３】縦軸心が大体水平に取り付けられた管(2
51,253)の列と物質転換すべく液体−ガスが接触され、
各管は全面に亘って孔が穿けられ且つ隣接の行の管に対
してピッチがずれた各行と管と行(247,249)が配列さ
れ、各管(251,253)は当該行の他の管から物理的に接続
されずに、仕切り(255)が該管から延びており、各仕切
り(255)は各管の外面と接触して該管を貫通することな
く管の長さに沿って延び、仕切りが延びる管の、仕切り
と反対側の管の外面に仕切りがなく、該仕切りは列を通
過する流体の対角線方向の迂回通路を抑制しており、ガ
スが大体垂直方向上方に流れる列を通過して大体垂直方
向にガスと液体とを導入することによって物質転換が行
われるガスと液体間で相互作用し、且つ相互作用したガ
スと相互作用した液体とを該列から分離して導入するこ
とから成る液体−ガス処理方法において、該管内に液体
の安定した溜まりを形成するような速度でガスが導入さ
れ、ガスの中味と液体間の物質転換を為すよう該溜まり
を通ってガス泡立てることによってガスと液体が相互作
用されることを特徴とする流体処理方法。
【請求項１４】管(23)の列(21)に第１の流体を噴射し、
該列に第２の流体を噴射し、噴射された流れが上流から
下流に流れる時に管(23)の該列の間に間挿された仕切り
(29)によって流れ(35)を分岐流れ(43、45)に、流れ(43、4
5)を分岐流れ(47、49)に、流れ(47、49)を分岐流れ(55、5
7)に夫々噴射された流れを繰り返し分岐し、隣接の仕切
りの下流の隣接の仕切りによって生じられる分岐流れを
再び混合することから成る、少なくとも第１および第２
の流れを混合する方法。