PL170793B1 - Urządzenie do pomiaru położenia płaszczyzn elementów, zwłaszcza płaszczyzn nierównoległych do podstawy - Google Patents

Abstract

1 ■ Ureąizpme do pomiaru położeni a płaszczyzn elementów, zwłaszcza płaszczyzn nierównoległych do podstawy posiadające suwak z układem pomiarowym umieszczony w prowadnicy pionowej zamocowanej w podstawie oraz suwak umieszczony w prowadnicy poziomej przytwierdzonej do suwaka prowadnicy pionowej, znamienny tym, że poziomy suwak (10) ma oporową kulkę (13).

Description

Przedmiotem wynalazku jest urządzenie do pomiaru położenia płaszczyzn elementów, zwłaszcza płaszczyzn nierównoległych do podstawy.

Znane jest urządzenie do pomiaru położenia płaszczyzn posiadające suwak umieszczony w prowadnicy pionowej zamocowanej w podstawie i suwak umieszczony w prowadnicy poziomej przytwierdzonej do suwaka prowadnicy pionowej oraz niezależny pomiarowy wałek, który wprowadza się między mierzoną płaszczyznę a końcówkę suwaka poziomego. Prowadnica pionowa zaopatrzona jest w podziałkę określającą położenie suwaka pionowego. W przypadku znacznych rozmiarów elementów, wałek musi być wysunięty poza obrys elementu, przez co po przyłożeniu nawet niewielkiej siły docisku pochodzącej od końcówki suwaka poziomego, wałek przechyla się, powodując tym samym błędny odczyt pomiaru położenia płaszczyzny.

Istota urządzenia według wynalazku polega na tym, że poziomy suwak zaopatrzony jest w oporową kulkę.

Korzystnie jest jeżeli poziomy suwak zaopatrzony jest w zwrotną sprężynę. Korzystnie jest również jeżeli poziomy suwak zaopatrzony jest w dystansową płytkę.

Dzięki takiemu rozwiązaniu pomiar położenia płaszczyzny jest bardzo dokładny.

Przedmiot wynalazku uwidoczniony jest w przykładzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia urządzenie w widoku z przodu, a fig. 2 - urządzenie w widoku z góry.

Do podstawy 1 z płaszczyzną oporową 2 przymocowana jest pionowa prowadnica 3. Pozioma prowadnica 4 z oporowym kołkiem 5 i oporowa powierzchnia 6 przymocowana jest do pionowego suwaka 7, do którego również zamocowany jest elektroniczny układ pomiarowy 8 z cyfrowym wyświetlaczem 9. W prowadnicy 4 znajduje się poziomy suwak 10 z powierzchnią oporową 11, sprężyną 12 oraz kulką 13. Pomiędzy oporowymi powierzchniami 6 i 11 znajduje się dystansowa płytka 14, której wymiar i konieczność użycia zależy od położenia mierzonej powierzchni 15 w stosunku do oporowej płaszczyzny 2 podstawy 1.

Pomiar przy pomocy urządzenia polega na oparciu oporowej płaszczyzny 2 podstawy 1 o powierzchnię boczną sprawdzanego elementu i oparciu kulki 13 suwaka 10 o mierzoną powierzchnię 15. Powierzchnie oporowe 6 i 11 dzięki sprężynie 12 stykają się ze sobą, co powoduje że kulka 13 zajmuje położenie styczne do płaszczyzny 2 podstawy 1. W takim położeniu odczytuje się wymiar na ekranie wyświetlacza i porównuje z wymiarem obliczonym w sposób analityczny według wzoru

A = x + B tga + tg

- a

170 793 gdzie:

A-szukany wymiar, x-wymiar teoretyczny, R-promień kulki 13, a-kąt pochylenia mierzonej płaszczyzny 15, B-odległość boku kulki 13 od bazowej płaszczyzny 2.

Jeżeli położenie mierzonej powierzchni 15 nie pozwala na jej kontakt z kulką 13 w pozycji styku powierzchni oporowych 6 i 11, pomiar przeprowadzany jest za pomocą płytki dystansowej 14 umieszczonej między nimi. Jej wymiar zależy wtedy od położenia mierzonej powierzchni 15 w stosunku do oporowej płaszczyzny 2.

170 793

Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz. Cena 2,00 zł

Claims (3)

1. Zastrzeżenia patentowe

   1. Urządzenie do pomiaru położenia płaszczyzn elementów, zwłaszcza płaszczyzn nierównoległych do podstawy posiadające suwak z układem pomiarowym umieszczony w prowadnicy pionowej zamocowanej w podstawie oraz suwak umieszczony w prowadnicy poziomej przytwierdzonej do suwaka prowadnicy pionowej, znamienny tym, że poziomy suwak (10) ma oporową kulkę (13).
2. 2. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że poziomy suwak (10) zaopatrzony jest w zwrotną sprężynę (12).
3. 3. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że poziomy suwak (10) zaopatrzony jest w dystansową płytkę (14).