PL122602B1 - Sulfate bath for bright plating with tin-bismuth alloy - Google Patents
Sulfate bath for bright plating with tin-bismuth alloy Download PDFInfo
- Publication number
- PL122602B1 PL122602B1 PL21786479A PL21786479A PL122602B1 PL 122602 B1 PL122602 B1 PL 122602B1 PL 21786479 A PL21786479 A PL 21786479A PL 21786479 A PL21786479 A PL 21786479A PL 122602 B1 PL122602 B1 PL 122602B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- tin
- bath
- sulphate
- alcohol
- bismuth alloy
- Prior art date
Links
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 title claims description 9
- JWVAUCBYEDDGAD-UHFFFAOYSA-N bismuth tin Chemical compound [Sn].[Bi] JWVAUCBYEDDGAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 7
- 229910001152 Bi alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 title 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 claims description 5
- -1 aromatic aldehydes benzaldehyde derivatives Chemical class 0.000 claims description 5
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 8
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DTUQWGWMVIHBKE-UHFFFAOYSA-N phenylacetaldehyde Chemical compound O=CCC1=CC=CC=C1 DTUQWGWMVIHBKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- MYUNWHTZYXUCIK-WEVVVXLNSA-N 2-[(E)-hydrazinylidenemethyl]phenol Chemical compound N\N=C\C1=CC=CC=C1O MYUNWHTZYXUCIK-WEVVVXLNSA-N 0.000 description 2
- JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 3-methylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(N)=C1 JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- CBOQJANXLMLOSS-UHFFFAOYSA-N ethyl vanillin Chemical compound CCOC1=CC(C=O)=CC=C1O CBOQJANXLMLOSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N p-methoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=C(C=O)C=C1 ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940100595 phenylacetaldehyde Drugs 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- FAKFSJNVVCGEEI-UHFFFAOYSA-J tin(4+);disulfate Chemical compound [Sn+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O FAKFSJNVVCGEEI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGWAODQUCDFPGI-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethoxybenzaldehyde Chemical compound CCOC1=CC=C(C=O)C(OCC)=C1 JGWAODQUCDFPGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGCZTXZTJXYWCO-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpropanal Chemical compound O=CCCC1=CC=CC=C1 YGCZTXZTJXYWCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVPYQKSLYISFPO-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=C(C=O)C=C1 AVPYQKSLYISFPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMPPGHMHELILKG-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxyaniline Chemical compound CCOC1=CC=C(N)C=C1 IMPPGHMHELILKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 description 1
- CNUDBTRUORMMPA-UHFFFAOYSA-N formylthiophene Chemical compound O=CC1=CC=CS1 CNUDBTRUORMMPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- LPTIRUACFKQDHZ-UHFFFAOYSA-N hexadecyl sulfate;hydron Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O LPTIRUACFKQDHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLNJUISKUQQNIM-UHFFFAOYSA-N indole-3-carbaldehyde Chemical compound C1=CC=C2C(C=O)=CNC2=C1 OLNJUISKUQQNIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBKQRVSGHYZUOR-UHFFFAOYSA-N indoline-3-carbaldehyde Natural products C1=CC=C2C(C=O)CNC2=C1 NBKQRVSGHYZUOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- ISGXOWLMGOPVPB-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 ISGXOWLMGOPVPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N palmitic acid group Chemical group C(CCCCCCCCCCCCCCC)(=O)O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
***** Twórcy wynalazku: Kaierija M. Tjutdjna, Jan Przyluski, Andrej N. Po¬ pów, Kazimierz Madry Uprawniony z patentu: PoMtectaika Warszawska, Warszawa (Polska) Kapiel siarczanowa do otrzymywania blyszczacych powlok z cyny i stopu cyna-bizmut Przedmiotem wynalazku jest kapiel siarczanowa do otrzymywania blyszczacych powlok z cyny i stopu cyna-bizmut. Powloki takie, odznaczajace sie bardzo dobra lutownoscia i odpornoscia na ko¬ rozje, sa stosowane przede wszystkim w elektro¬ technice i elektronice przy wytwarzaniu elemen¬ tów, kt6re sa lutowanie, szczególnie obwodów dru¬ kowanych.W kapielach siarczanowych sluzacych do otrzy¬ mywania blyszczacych powlok z cyny i stopu cy- na^biizmut, jako srodki wyblyszczajace, stosuje sie najczesciej mieszaniny zawierajace substancje o charakterze koloidów takie jak zelatyny, klej sto¬ larski itp.Do kapieli znanej z opisu patentowego ZSRR nr 2il[2 687, dodaje sie mieszanine fenolu, kleju stolarskiego i dwubenzyloaniliny, zas wedlug opi¬ su patentowego ZSRR nr 217 889 jako srodka wy¬ blyszczajace dodaje sie mieszanine zelatyny lub kleju stolarskiego, alkoholu heksylowego i kwasu kapronowego.Z francuskiego opisu patentowego nr 1468 084 znana jest kapiel do otrzymywania blyszczacych powlok cynowych, w której jako dodatek wy¬ blyszczajacy stosuje sie mieszanine aldehydu ben¬ zoesowego, 3^etoksy-4-hydiroiksybenzaldehydu, al¬ dehydu salicylowego, 2,4-dwuetoiksybie.nzaldehydu, p-chlorobenzaldehydu, p-metoksybenzaldehydu, 2,3- ^d wuhy droksybanzaldehy du, 1,2,5 -trój hy droksybenz- aldehydu, 2-formylotiofenu i 3-formyloindolu. Ka¬ piele te zawieraja takze srodki powierzchniowo czynne dodawane w celu lepszego zwilzania po¬ wierzchni pokrywanych elementów.Okazalo sie jednak, ze mozna znacznie poprawic 5 efektywnosc procesu osadzania warstw poprzez zwiekszenie zakresu maksymalnej gestosci pradu, jesli do kapieli doda sie rozpuszczona w alkoholu mieszanine zlozona z aldehydów aromatycznych, amin laromatycznych, pochodnych siarczanowych 10 wyzszych alkoholi alifatycznych o 8—li8 atomów wegla w czasteczce oraz hydrazonów aldehydów aromatycznych. Do kapieli takiej, oprócz tej mie¬ szaniny i podstawowych skladników jak siarczan cyny, azotan bizmutu i kwas siarkowy, dodaje sie 15 niejonowy srodek powierzchniowo czynny oraz formaldehyd.Kapiel siarczanowa wedlug wynalazku zawiera 6—30 gfl niejonowego srodka powierzchniowo czynnego, 10h-20' ml/1 formaldehydu w postaci 20 37% formaliny oraz 1—20 ml/l roztworu miesza¬ niny 04—1,5 g aldehydów aromatycznych pochod¬ nych benzaldehydu, 01-^1,5 g amin aromatycznych pochodnych aniliny i/lub u- di/lub p-nartyloaminy, 0,1—1 g pochodnych siarczanowych wyzszych al- 25 koholi o 8—18 atomów wegla w czasteczcle i 0yl-— 1 g hydrazonów aldehydów aromatycznych po¬ chodnych benzaldehydu w 1'—»20 ml alkoholu.Kapiel taka pozwala na otrzymywanie blysz¬ czacych powlok cynowych i cynowo -bizmutowych 30 przy gestosci pradu .100—1800 A/m2, podczas gdy 122 602122 602 dla znanych kapieli mozliwe jest stosowanie ge¬ stosci pradu najwyzej do 300 A/m*.Osiagniety elekt to znaczy uzyskanie blyszcza¬ cych powlok cynowych i cynowo-bizmutowych przy gestosci pradu 100^1800 A/m2 jest wynikiem syniergistycznego dzialania wszystkich skladników kapieli.Badania wykazaly, ze dodanie do roztworu siar¬ czanu cyny, azotanu bizmutu i kwasu siarkowego niejonowego srodka powierzchniowo czynnego po¬ woduje otrzymanie powlok o niedostatecznym po¬ lysku.Dla osiagniecia dobrego efektu wyblyszczania, otrzymania powloka najwyzszej jakosci oraz umozliwienia ' stosowania w procesie pradu o oteeslonej gestosci konieczne jest stosowanie rów- £nie wszystkich/ wymienionych skladników - wynalazku jest blizej objasniony w przykladach wykonania.Przyklad I. W elektrolizerze z katowa ka¬ toda w postaci paska miedzianego osadza sie war¬ stwy cynowe z kapieli zawierajacej S11SO4 w ilosci 25i g/l, H£S04 w ilosci 100 g/1, polietoksyno- nylofenol w ilosci 16 g/1, 37*/o formaline w ilosci 10 ml/1 oraz 8 ml/l mieszanine 1,5 g p-metoksy- benzaldehydu, 1,5 g p-etoksyaniliny, 0^1 g siarcza¬ nu laurylowego, 0,1 g hydrazonu o-metoksybenz- aldehydu i 5 ml alkoholu metylowego.W temperaturze pokojowej, przy zmiennej ge¬ stosci pradu w zakresie 40(^^15100 A/m1 otrzymuje ^sie blyszczace .pokrycia cynowe na calej powierz¬ chni katody o zdolnosci odbicia swiatla 96*/t wzgle¬ dem zwierciadla srebrnego. KapM jest uzywana w ciagu 20 godzin bez koniecznosci korekty jej skladu. 10 15 35 Przyklad II. Z analogicznej kapieli jak w przykladzie I lecz zawierajacej dodatkowo Bi(N08)3a5iH^O w ilosci 1 g/l oraz 12 ml/1 miesza¬ niny 1 g aldehydu salicylowego, 1 g m-toluidyny, 0,5 g siarczanu palmitynowego, 0,3 g hydrazonu aldehydu salicylowego i 10 ml alkoholu metylo¬ wego, w takich samych warunkach, otrzymuje sie identyczne powloki.Przyklad III. Z analogicznej kapieli jak w przykladzie I zawierajacej 12 ml/l mieszaniny 0,5 g aldehydu fenylooctowego, 1,5 g aldehydu hydro- cynamonowego, 0,5 g aniliny, 0,5 g naftyloaminy, 0,1 g siarczanu stearynowego, 0,05 g siarczanu cetylowego, 0,05 g hydrazenu aldehydu fenylo¬ octowego, 0,05 g hydrazonu aldehydu salicylowego i ,20 nil alkoholu etylowego, w takich samych wa¬ runkach, otrzymuje sie identyczne powloki.Zastrzezenie patentowe Kapiel siarczanowa do otrzymywania blyszcza¬ cych powlok z cyny i stopu cyna-bizmut zawie¬ rajaca srodki powieirzchniowo czynne, znamienna tym, ze zawiera 10^-20 ml formaldehydu w po¬ staci 37tyo formaliny oraz 1—ao ml/1 rozpuszczo¬ nej w alkoholu mieszaniny stanowiacej roztwór 0,1-^1,5 g jednopierscieniowych aldehydów aro¬ matycznych pochodnych benzaldehydu, (U—1,5 g amin aromatycznych pochodnych aniliny i/lub a- i/lub p-naftyloaminy, fyl^l g pochodnych siar¬ czanowych alkoholi alifatycznych oraz 0,1—1 g hy- drazonów jednopierscieniowych aldehydów aroma¬ tycznych pochodnych benzaldehydu w 1^20 ml alkoholu.Drukarnia Narodowa, Zaklad Nr 6, 496/83 Cena 100 zl PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Kapiel siarczanowa do otrzymywania blyszcza¬ cych powlok z cyny i stopu cyna-bizmut zawie¬ rajaca srodki powieirzchniowo czynne, znamienna tym, ze zawiera 10^-20 ml formaldehydu w po¬ staci 37tyo formaliny oraz 1—ao ml/1 rozpuszczo¬ nej w alkoholu mieszaniny stanowiacej roztwór 0,1-^1,5 g jednopierscieniowych aldehydów aro¬ matycznych pochodnych benzaldehydu, (U—1,5 g amin aromatycznych pochodnych aniliny i/lub a- i/lub p-naftyloaminy, fyl^l g pochodnych siar¬ czanowych alkoholi alifatycznych oraz 0,1—1 g hy- drazonów jednopierscieniowych aldehydów aroma¬ tycznych pochodnych benzaldehydu w 1^20 ml alkoholu. Drukarnia Narodowa, Zaklad Nr 6, 496/83 Cena 100 zl PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL21786479A PL122602B1 (en) | 1979-08-20 | 1979-08-20 | Sulfate bath for bright plating with tin-bismuth alloy |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL21786479A PL122602B1 (en) | 1979-08-20 | 1979-08-20 | Sulfate bath for bright plating with tin-bismuth alloy |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL217864A1 PL217864A1 (pl) | 1981-03-13 |
| PL122602B1 true PL122602B1 (en) | 1982-08-31 |
Family
ID=19998018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL21786479A PL122602B1 (en) | 1979-08-20 | 1979-08-20 | Sulfate bath for bright plating with tin-bismuth alloy |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL122602B1 (pl) |
-
1979
- 1979-08-20 PL PL21786479A patent/PL122602B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL217864A1 (pl) | 1981-03-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Su et al. | Galvanostatic Deposition of Palladium-Gold Alloys in a Lewis Basic EMI Cl BF 4 Ionic Liquid | |
| JPS6015715B2 (ja) | 亜鉛めっき浴 | |
| DE2723910C2 (de) | Zusatzgemisch und dessen Verwendung für Bäder zur elektrolytischen Abscheidung von Gold oder Goldlegierungen | |
| Zhu et al. | Galvanostatic pulse plating of bulk Cu-Al alloys on nickel electrodes from room-temperature chloroaluminate molten salts containing benzene | |
| PL122602B1 (en) | Sulfate bath for bright plating with tin-bismuth alloy | |
| JPH0219472A (ja) | 無電解メッキに用いる耐摩耗性ニッケル―ホウ素コーティング材 | |
| Narasimhamurthy et al. | Electrodeposition of Zn-Fe alloy from an acid sulfate bath containing triethanolamine | |
| EP0126921B1 (de) | Bad für die galvanische Abscheidung von Goldlegierungen | |
| JP2021066953A (ja) | 酸性水性2成分銀−ビスマス合金電気めっき組成物及び方法 | |
| US4253920A (en) | Composition and method for gold plating | |
| Balaraju et al. | Electroless deposition of ternary Ni–W–P alloys from sulphate and chloride based baths | |
| US3342710A (en) | Method of rust proofing treatment of metals | |
| Thabassoom et al. | A Study on the Effect of Lawsone as Complexing Agent in the Electroless Zn-P Deposition | |
| JPS5625903A (en) | Preparation of metallic sulfide powder coated with copper | |
| GB2103247A (en) | Electrolyte for use in the electrodeposition of bright tin coatings | |
| KR102591174B1 (ko) | 저열팽창 계수를 갖는 철-니켈 합금용 전기 도금액 및 이것을 사용한 전기 도금 방법 | |
| JPS5864393A (ja) | 錫−亜鉛合金めつき浴 | |
| JPS60251298A (ja) | 電着塗装方法 | |
| KR890002496B1 (ko) | 내식성이 우수한 아연-니켈 합금의 전기도금 강판 제조법 | |
| JPS6229516B2 (pl) | ||
| JP2709511B2 (ja) | 錫,鉛,錫一鉛合金電気めっき浴及び電気めっき方法 | |
| JP2535199B2 (ja) | 耐酸化性に優れた希土類永久磁石の製造方法 | |
| Jaén et al. | The phase composition of tin-nickel electrodeposited alloys | |
| KR100371222B1 (ko) | 알루미늄계와 규소계 합금분말의 구리도금방법 | |
| JPS6027750B2 (ja) | 無電解銅メツキ液 |