PL122598B2 - Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor - Google Patents

Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor Download PDF

Info

Publication number
PL122598B2
PL122598B2 PL22447880A PL22447880A PL122598B2 PL 122598 B2 PL122598 B2 PL 122598B2 PL 22447880 A PL22447880 A PL 22447880A PL 22447880 A PL22447880 A PL 22447880A PL 122598 B2 PL122598 B2 PL 122598B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
plate
holes
substrate
photographic emulsion
optical
Prior art date
Application number
PL22447880A
Other languages
English (en)
Other versions
PL224478A2 (pl
Inventor
Adam Zaleski
Wieslaw Chabros
Original Assignee
Politechnika Wroclawska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Wroclawska filed Critical Politechnika Wroclawska
Priority to PL22447880A priority Critical patent/PL122598B2/pl
Publication of PL224478A2 publication Critical patent/PL224478A2/xx
Publication of PL122598B2 publication Critical patent/PL122598B2/pl

Links

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób i przyrzad do nanoszenia emulsji fotograficznych na male podklady optyczne.Powszechnie znany sposób nanoszenia emulsji fotograficznych na podklady optyczne o srednicy kilku centymetrów polega na wylaniu odmierzonej ilosci emulsji swiatloczulej na wypo- ziomowany podklad i równomiernym rozprowadzeniu.Sposób ten ma te niedogodnosc, ze podczas zelowania emulsji, na skutek dzialania sil napiecia powierzchniowego, nastepuje sciaganie emulsji do srodka podkladu, rezultatem czegojest powsta¬ wanie przy krawedzi podkladu marginesu o szerokosci 5-10 mm, w którym warstwa emulsji ma mniejsza grubosc, co powoduje zmniejszenie powierzchni czynnej plyty fotograficznej.Sposób nanoszenia emulsji fotograficznej wedlug wynalazku polega na tym, ze podklady optyczne umieszcza sie w otworach podloza szklanego o temperaturze pokojowej przylegajacego do podloza metalowego o temperaturze od -5 do +5°C, a nastepnie po powierzchni podloza szklanego i umieszczonych w otworach podkladach optycznych rozprowadza sie emulsje fotografi¬ czna. Nastepnie w znany sposób rozprowadza sie emulsje fotograficzna po powierzchni plyty szklanej i umieszczonych w niej podkladkach optycznych. Po zakonczonym procesie zelowania podklady fotograficzne wyjmuje sie przez wypchniecie wyrzutknikiem wprowadzonym przez otwory w plycie metalowej.Sposób wedlug wynalazku eliminuje szkodliwe zjawisko sciagania emulsji, poniewaz proces zelowania zachodzi jednoczesnie na calej powierzchni plyty. Dzieki temu, ze podklady optyczne spoczywaja na schlodzonej plycie metalowej nastepuje szybka wymiana ciepla i proces zelowania jest krótki, co zapobiega wnikaniu emulsji w szczeliny miedzy podkladkami optycznymi a plyta szklana.Przyrzad wedlug wynalazku zawiera dwie przylegajace do siebie plyty nalozone poziomo.Plyta dolna jest metalowa, natomiast górna, jest szklana. Kazda z tych plyt posiada otwory przelotowe i wspólosiowe, przy czym w otworach plyty szklanej osadzone sa suwliwie podklady optyczne. Powierzchnia otworów w plycie metalowej jest równa co najwyzej 1/4 powierzchni podkladu optycznego.2 122 598 Zas;Jnicze korzysci techniczne wynikajace ze stosowania wynalazku polegaja na tym, ze uzyskiwu ie plytki sa pokryte emulsja fotograficzna jednolita warstwa o stalej grubosci na calej powierzchni nanoszonej plytki ze znikomym marginesem brzegowym.Przykladowy przyrzad wedlug wynalazku jest uwidoczniony na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia przyrzad w widoku z gór, a fig. 2 — przyrzad w przekroju poprzecznym.Przedstawiony na fig. 2 przyrzad sklada sie z plyty aluminiowej 1 i plyty szklanej 2. Szklana plyta 2jest nalozona i przylega do plyty aluminiowej 1. Obie plyty 1 i 2 maja otwory 3i4przelotowe i wspólosiowe. W otworach 4 plyty szklanej 2osadzone sa podklady optyczne. Podklady optyczne z szklana plyta 2 tworza jedna równa plaszczyzne.Przykladowy przyrzad uzyto do wytworzenia warstwy emulsji fotograficznej. Na powierzch¬ nie szklanej plyty o powierzchni 150 cm2 z umieszczonymi wjej otworach podkladkami optycznymi nanosi sie pipeta 10 ml emulsji i rozprowadza po niej równomiernie za pomoca precika szklanego.Gdy emulsja zostanie zzelowana (co po odpowiednim schlodzeniu plyty aluminiowej nastepuje po 20s), z plyty szklanej wypycha sie pokryte emulsja podklady za pomoca wyrzutnika i przenosi je do suszarki.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób nanoszenia emulsji fotograficznej na male podklady optyczne polegajace na wyla¬ niu odmierzonej ilosci emulsji fotograficznej i rozprowadzeniu jej po wypoziomowanym podkla¬ dzie, znamienny tym, ze podklady optyczne umieszcza sie w otworach podloza szklanego o temperaturze pokojowej przylegajacego do podloza metalowego o temperaturze od -5 do +5°C, a nastepnie po powierzchni podloza szklanego i umieszczonych w otworach podkladach optycznych rozprowadza sie emulsje fotograficzna. 2. Przyrzad do nanoszenia emulsji fotograficznej na male podklady optyczne, znamienny tym, ze zawiera dwie przylegajace do siebie poziome plyty o przelotowych wspólosiowych otworach (3, 4), przy czym dolna plyta jest plyta metalowa (1), a górna plyta szklana (2) z osadzonymi suwliwie optycznymi podkladkami (5). 3. Przyrzad wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze powierzchnia przekroju poprzecznego otwo¬ rów (3) w metalowej plycie (1) jest co najwyzej równa 1/4 powierzchni podkladu loptycznego.122 598 Ep Fig.1 Fig. Z W /' ^m i Pi" W'/''/'^ KK\\V\N Fig.3 A 3 L//S//3C//////|//////p/////J FigA PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób nanoszenia emulsji fotograficznej na male podklady optyczne polegajace na wyla¬ niu odmierzonej ilosci emulsji fotograficznej i rozprowadzeniu jej po wypoziomowanym podkla¬ dzie, znamienny tym, ze podklady optyczne umieszcza sie w otworach podloza szklanego o temperaturze pokojowej przylegajacego do podloza metalowego o temperaturze od -5 do +5°C, a nastepnie po powierzchni podloza szklanego i umieszczonych w otworach podkladach optycznych rozprowadza sie emulsje fotograficzna.
  2. 2. Przyrzad do nanoszenia emulsji fotograficznej na male podklady optyczne, znamienny tym, ze zawiera dwie przylegajace do siebie poziome plyty o przelotowych wspólosiowych otworach (3, 4), przy czym dolna plyta jest plyta metalowa (1), a górna plyta szklana (2) z osadzonymi suwliwie optycznymi podkladkami (5).
  3. 3. Przyrzad wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze powierzchnia przekroju poprzecznego otwo¬ rów (3) w metalowej plycie (1) jest co najwyzej równa 1/4 powierzchni podkladu loptycznego.122 598 Ep Fig.1 Fig. Z W /' ^m i Pi" W'/''/'^ KK\\V\N Fig.3 A 3 L//S//3C//////|//////p/////J FigA PL
PL22447880A 1980-05-23 1980-05-23 Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor PL122598B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL22447880A PL122598B2 (en) 1980-05-23 1980-05-23 Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL22447880A PL122598B2 (en) 1980-05-23 1980-05-23 Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL224478A2 PL224478A2 (pl) 1981-03-27
PL122598B2 true PL122598B2 (en) 1982-08-31

Family

ID=20003263

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL22447880A PL122598B2 (en) 1980-05-23 1980-05-23 Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL122598B2 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL224478A2 (pl) 1981-03-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4788931A (en) Tool for forming external electrodes of chip parts
US4415405A (en) Method for engraving a grid pattern on microscope slides and slips
JPH02244119A (ja) 液晶セルの製造方法および装置
DE4419237A1 (de) Verfahren zur Entfernung eines Photoresists mit einer Siliciumverbindung oder einer Germaniumverbindung
KR910000275B1 (ko) 회전 시간 선택에 의한 내식막 형성 방법
US4882262A (en) Self-aligning aperture
US4884337A (en) Method for temporarily sealing holes in printed circuit boards utilizing a thermodeformable material
PL122598B2 (en) Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor
ATE48200T1 (de) Verfahren zur herstellung von platten.
EP0017093B1 (de) Entwicklungskammer
US6137088A (en) Baking of photoresist on wafers
JPWO2005098486A1 (ja) 微細構造体の製造方法、該微細構造体を用いたスタンパの製造方法、及び該スタンパを用いた樹脂製の微細構造体の製造方法
JPS6229143A (ja) 材料を半導体ウエハに適用する方法
TW542900B (en) Method of measuring trench depth of semiconductor device
US3944419A (en) Proximity printing
US2345549A (en) Process for making lasting records
JPS60117627A (ja) レジストパタ−ンの形成方法及びレジスト処理装置
JPH05138105A (ja) コーテイング方法及び装置
JP2701316B2 (ja) 電鋳装置
CN120722470A (zh) 一种Micro-LED芯片的光隔离薄膜及其制备方法
JPH033415Y2 (pl)
JPS5472976A (en) Pattern forming method
EP0796729A2 (en) Method for manufacturing optical element
JPS60178626A (ja) レジストパタ−ン形成方法及びレジスト処理装置
Pastirik The Development of a Method of Producing Etch Resistant Wax Patterns on Solar Cells: Quarterly Technical Report No. 3, 1 July 1979-30 September 1979