PL122598B2 - Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor - Google Patents
Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor Download PDFInfo
- Publication number
- PL122598B2 PL122598B2 PL22447880A PL22447880A PL122598B2 PL 122598 B2 PL122598 B2 PL 122598B2 PL 22447880 A PL22447880 A PL 22447880A PL 22447880 A PL22447880 A PL 22447880A PL 122598 B2 PL122598 B2 PL 122598B2
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- plate
- holes
- substrate
- photographic emulsion
- optical
- Prior art date
Links
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 title claims description 24
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 26
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób i przyrzad do nanoszenia emulsji fotograficznych na male podklady optyczne.Powszechnie znany sposób nanoszenia emulsji fotograficznych na podklady optyczne o srednicy kilku centymetrów polega na wylaniu odmierzonej ilosci emulsji swiatloczulej na wypo- ziomowany podklad i równomiernym rozprowadzeniu.Sposób ten ma te niedogodnosc, ze podczas zelowania emulsji, na skutek dzialania sil napiecia powierzchniowego, nastepuje sciaganie emulsji do srodka podkladu, rezultatem czegojest powsta¬ wanie przy krawedzi podkladu marginesu o szerokosci 5-10 mm, w którym warstwa emulsji ma mniejsza grubosc, co powoduje zmniejszenie powierzchni czynnej plyty fotograficznej.Sposób nanoszenia emulsji fotograficznej wedlug wynalazku polega na tym, ze podklady optyczne umieszcza sie w otworach podloza szklanego o temperaturze pokojowej przylegajacego do podloza metalowego o temperaturze od -5 do +5°C, a nastepnie po powierzchni podloza szklanego i umieszczonych w otworach podkladach optycznych rozprowadza sie emulsje fotografi¬ czna. Nastepnie w znany sposób rozprowadza sie emulsje fotograficzna po powierzchni plyty szklanej i umieszczonych w niej podkladkach optycznych. Po zakonczonym procesie zelowania podklady fotograficzne wyjmuje sie przez wypchniecie wyrzutknikiem wprowadzonym przez otwory w plycie metalowej.Sposób wedlug wynalazku eliminuje szkodliwe zjawisko sciagania emulsji, poniewaz proces zelowania zachodzi jednoczesnie na calej powierzchni plyty. Dzieki temu, ze podklady optyczne spoczywaja na schlodzonej plycie metalowej nastepuje szybka wymiana ciepla i proces zelowania jest krótki, co zapobiega wnikaniu emulsji w szczeliny miedzy podkladkami optycznymi a plyta szklana.Przyrzad wedlug wynalazku zawiera dwie przylegajace do siebie plyty nalozone poziomo.Plyta dolna jest metalowa, natomiast górna, jest szklana. Kazda z tych plyt posiada otwory przelotowe i wspólosiowe, przy czym w otworach plyty szklanej osadzone sa suwliwie podklady optyczne. Powierzchnia otworów w plycie metalowej jest równa co najwyzej 1/4 powierzchni podkladu optycznego.2 122 598 Zas;Jnicze korzysci techniczne wynikajace ze stosowania wynalazku polegaja na tym, ze uzyskiwu ie plytki sa pokryte emulsja fotograficzna jednolita warstwa o stalej grubosci na calej powierzchni nanoszonej plytki ze znikomym marginesem brzegowym.Przykladowy przyrzad wedlug wynalazku jest uwidoczniony na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia przyrzad w widoku z gór, a fig. 2 — przyrzad w przekroju poprzecznym.Przedstawiony na fig. 2 przyrzad sklada sie z plyty aluminiowej 1 i plyty szklanej 2. Szklana plyta 2jest nalozona i przylega do plyty aluminiowej 1. Obie plyty 1 i 2 maja otwory 3i4przelotowe i wspólosiowe. W otworach 4 plyty szklanej 2osadzone sa podklady optyczne. Podklady optyczne z szklana plyta 2 tworza jedna równa plaszczyzne.Przykladowy przyrzad uzyto do wytworzenia warstwy emulsji fotograficznej. Na powierzch¬ nie szklanej plyty o powierzchni 150 cm2 z umieszczonymi wjej otworach podkladkami optycznymi nanosi sie pipeta 10 ml emulsji i rozprowadza po niej równomiernie za pomoca precika szklanego.Gdy emulsja zostanie zzelowana (co po odpowiednim schlodzeniu plyty aluminiowej nastepuje po 20s), z plyty szklanej wypycha sie pokryte emulsja podklady za pomoca wyrzutnika i przenosi je do suszarki.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób nanoszenia emulsji fotograficznej na male podklady optyczne polegajace na wyla¬ niu odmierzonej ilosci emulsji fotograficznej i rozprowadzeniu jej po wypoziomowanym podkla¬ dzie, znamienny tym, ze podklady optyczne umieszcza sie w otworach podloza szklanego o temperaturze pokojowej przylegajacego do podloza metalowego o temperaturze od -5 do +5°C, a nastepnie po powierzchni podloza szklanego i umieszczonych w otworach podkladach optycznych rozprowadza sie emulsje fotograficzna. 2. Przyrzad do nanoszenia emulsji fotograficznej na male podklady optyczne, znamienny tym, ze zawiera dwie przylegajace do siebie poziome plyty o przelotowych wspólosiowych otworach (3, 4), przy czym dolna plyta jest plyta metalowa (1), a górna plyta szklana (2) z osadzonymi suwliwie optycznymi podkladkami (5). 3. Przyrzad wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze powierzchnia przekroju poprzecznego otwo¬ rów (3) w metalowej plycie (1) jest co najwyzej równa 1/4 powierzchni podkladu loptycznego.122 598 Ep Fig.1 Fig. Z W /' ^m i Pi" W'/''/'^ KK\\V\N Fig.3 A 3 L//S//3C//////|//////p/////J FigA PL
Claims (3)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób nanoszenia emulsji fotograficznej na male podklady optyczne polegajace na wyla¬ niu odmierzonej ilosci emulsji fotograficznej i rozprowadzeniu jej po wypoziomowanym podkla¬ dzie, znamienny tym, ze podklady optyczne umieszcza sie w otworach podloza szklanego o temperaturze pokojowej przylegajacego do podloza metalowego o temperaturze od -5 do +5°C, a nastepnie po powierzchni podloza szklanego i umieszczonych w otworach podkladach optycznych rozprowadza sie emulsje fotograficzna.
- 2. Przyrzad do nanoszenia emulsji fotograficznej na male podklady optyczne, znamienny tym, ze zawiera dwie przylegajace do siebie poziome plyty o przelotowych wspólosiowych otworach (3, 4), przy czym dolna plyta jest plyta metalowa (1), a górna plyta szklana (2) z osadzonymi suwliwie optycznymi podkladkami (5).
- 3. Przyrzad wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze powierzchnia przekroju poprzecznego otwo¬ rów (3) w metalowej plycie (1) jest co najwyzej równa 1/4 powierzchni podkladu loptycznego.122 598 Ep Fig.1 Fig. Z W /' ^m i Pi" W'/''/'^ KK\\V\N Fig.3 A 3 L//S//3C//////|//////p/////J FigA PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL22447880A PL122598B2 (en) | 1980-05-23 | 1980-05-23 | Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL22447880A PL122598B2 (en) | 1980-05-23 | 1980-05-23 | Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL224478A2 PL224478A2 (pl) | 1981-03-27 |
| PL122598B2 true PL122598B2 (en) | 1982-08-31 |
Family
ID=20003263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL22447880A PL122598B2 (en) | 1980-05-23 | 1980-05-23 | Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL122598B2 (pl) |
-
1980
- 1980-05-23 PL PL22447880A patent/PL122598B2/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL224478A2 (pl) | 1981-03-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4788931A (en) | Tool for forming external electrodes of chip parts | |
| US4415405A (en) | Method for engraving a grid pattern on microscope slides and slips | |
| JPH02244119A (ja) | 液晶セルの製造方法および装置 | |
| DE4419237A1 (de) | Verfahren zur Entfernung eines Photoresists mit einer Siliciumverbindung oder einer Germaniumverbindung | |
| KR910000275B1 (ko) | 회전 시간 선택에 의한 내식막 형성 방법 | |
| US4882262A (en) | Self-aligning aperture | |
| US4884337A (en) | Method for temporarily sealing holes in printed circuit boards utilizing a thermodeformable material | |
| PL122598B2 (en) | Method of application of light sensitive emulsions on small optical substrats and apparatus therefor | |
| ATE48200T1 (de) | Verfahren zur herstellung von platten. | |
| EP0017093B1 (de) | Entwicklungskammer | |
| US6137088A (en) | Baking of photoresist on wafers | |
| JPWO2005098486A1 (ja) | 微細構造体の製造方法、該微細構造体を用いたスタンパの製造方法、及び該スタンパを用いた樹脂製の微細構造体の製造方法 | |
| JPS6229143A (ja) | 材料を半導体ウエハに適用する方法 | |
| TW542900B (en) | Method of measuring trench depth of semiconductor device | |
| US3944419A (en) | Proximity printing | |
| US2345549A (en) | Process for making lasting records | |
| JPS60117627A (ja) | レジストパタ−ンの形成方法及びレジスト処理装置 | |
| JPH05138105A (ja) | コーテイング方法及び装置 | |
| JP2701316B2 (ja) | 電鋳装置 | |
| CN120722470A (zh) | 一种Micro-LED芯片的光隔离薄膜及其制备方法 | |
| JPH033415Y2 (pl) | ||
| JPS5472976A (en) | Pattern forming method | |
| EP0796729A2 (en) | Method for manufacturing optical element | |
| JPS60178626A (ja) | レジストパタ−ン形成方法及びレジスト処理装置 | |
| Pastirik | The Development of a Method of Producing Etch Resistant Wax Patterns on Solar Cells: Quarterly Technical Report No. 3, 1 July 1979-30 September 1979 |