Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do adsorpcji zanieczyszczen gazowych posiadajace wielopólkowa konstrukcje nosna warstw sorbenta.Znane sa wielopólkowe urzadzenia do adsorpcji zanieczyszczen gazowych w których zloze adsorbenta ma ksztalt plaskiej lub pierscieniowej warstwy umieszczonej w plaszczu cylindrycznym.Znane sa wielopólkowe urzadzenia do adsorpcji zanieczyszczen gazowych, w których doprowadzenie stru¬ mienia gazu zanieczyszczonego na zloze sorbenta jest do przestrzeni miedzypólkowej w ten sposób, ze strumien przeplywajacego czynnika rozdziela sie w przestrzeni miedzypólkowej na dwa strumienie przeplywowe przeni¬ kajace przez dwie sasiednie warstwy sorbenta. Odplyw strumienia gazu oczyszczonego na zlozu sorbenta jest przemienny w stosunku do przestrzeni miedzypólkowych doplywowych.Strumien odplywowy sklada sie z dwóch strumieni czastkowych przeplywajacych przez dwie sasiednie warstwy zloza.W przypadku desorpcji zanieczyszczen para wodna funkcje doplywowe pary wodnej przejmuje przewód odlotowy a funkcje odplywowe desorbatu przejmuje przewód dolotowy lub inny specjalnie zabudowany wew¬ natrz przewód odplywowy desorbatu.Znane z polskiego opisu patentowego nr 27890 urzadzenie do odzyskiwania gazów lub par za pomoca stalych substancji chlonnych posiada dwie warstwy substancji chlonnej umieszczone w pewnej odleglosci jedna nad druga i oddzielone od siebie szczelna przegroda, która dzieli warstwe na dwie czesci polaczone przewodem srodkowym przez który doprowadza sie gaz do czesci górnej ponad warstwe chlonna.Dodatkowo urzadzenie posiada wymiennik ciepla, który umieszczony jest pod dolna warstwa substancji chlonnej. Odmiana wymienionego urzadzenia zamiast przewodu srodkowego posiada zabudowane w czesci srod¬ kowej dwa przewody widelkowe.Umieszczony na zewnatrz urzadzenia adsorpcyjnego przewód odlotowy strumienia gazów oczyszczonych zwieksza wymiary gabarytowe aparatu adsorpcyjnego, a w przypadku wykorzystania go jako przewodu doloto-» wego czynnika desorpcyjnego w szczególnosci pary wodnej wystepuja straty cieplne do otoczenia i przewód nalezy izolowac termicznie.2 115 550 Celem wynalazkujest rozwiazanie konstrukcji urzadzenia do adsorpcji zanieczyszczen gazowych z mozliwo¬ scia regeneracji zloza w urzadzeniu przy pomocy czynnika desorbujacego w szczególnosci pary wodnej nie posia¬ dajacego wymienionych niedogodnosci.Cel ten zostal osiagniety dzieki wynalazkowi zgodnie z którym urzadzenie do adsorpcji zanieczyszczen gazowych posiadajace wielopólkowa konstrukcje nosna warstw sorbenta, w którym doprowadzenie strumienia gazów zanieczyszczonych jest do co drugiej przestrzeni miedzypólkowej, a odprowadzenie strumienia oczyszczo¬ nego jest z przestrzeni miedzypólkowych przemiennych w stosunku do przestrzeni miedzypólkowych doloto¬ wych, posiada wewnatrz urzadzenia przewód odlotowy strumienia gazów oczyszczonych, zakonczony króccem przylegajacym do górnej dennicy urzadzenia adsorpcyjnego.Przewód odlotowy znajduje sie w osi symetrii urzadzenia lub w plaszczyznie równoleglej do osi symetrii urzadzenia.Przewód odlotowy posiada otwory przelotowe, które umieszczone sa przemiennie w stosunku do przestrze¬ ni miedzypólkowych strumieni gazów dolotowych.W przypadku desorpcji zanieczyszczen przewód odlotowy gazów oczyszczonych pelni funkcje doplywowe czynnika desorbujacego w szczególnosci pary wodnej, poniewaz znajduje sie wewnatrz aparatu nie wymaga termicznego izolowania, gdyz straty ciepla na przewodzie sa do wnetrza aparatu, a wiec powoduja szybsze osiagniecie stanu równowagi termicznej procesu desorpcji.Stosunkowo nieznacznie wzrasta srednica aparatu adsorpcyjnego z tytulu umieszczenia wewnatrz przewo¬ du odlotowego, gdyz predkosci przeplywu gazów oczyszczonych przez przewód odlotowy sa bardzo wielkie w porównaniu z szybkoscia przeplywu strumienia gazu zanieczyszczonego przez zloze adsorpcyjne.Istota wynalazku jest blizej objasniona w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schemat przekroju wielopólkowego aparatu adsorpcyjnego z przewodem odlotowym umieszczonym w osi symetrii aparatu i posiadajacym otwory przeplywowe na wysokosci co drugiej przestrzeni miedzypólkowej, a fig. 2 - odmiane urzadzenia z przewodem odlotowym umieszczonym asymetrycznie.Urzadzenie do adsorpcji zanieczyszczen gazowych wedlug wynalazku jest wyposazone w przewód wlotowy 1 strumienia gazów zanieczyszczonych, który umieszczony jest na zewnatrz aparatu, oraz posiada wewnatrz urzadzenia wielopólkowa konstrukcje nosna warstw sorbenta 2 i przewód odlotowy 3 strumienia gazów oczy¬ szczonych. Przewód odlotowy 3 zakonczony jest króccem odlotowym 4, który umieszczony jest na zewnatrz urzadzenia adsorpcyjnego.Przewód odlotowy 3 w przypadku prowadzenia procesu desorpcji pelni funkcje przewodu doprowadzajace¬ go czynnik desorbujacy. Otwory przeplywowe 5 na przewodzie odlotowym 3 umieszczone sa w co drugiej przestrzeni miedzypólkowej, przemiennie w stosunku do otworów doplywowych strumienia gazów zanieczy¬ szczonych.Na rysunku fig. 2, pokazano przyklad odmiany urzadzenia do adsorpcji zanieczyszczen gazowych z asyme¬ trycznym umieszczeniem przewodu odlotowego 3 strumienia gazów oczyszczonych.Proces desorpcji zanieczyszczen gazowych w urzadzeniu wedlug wynalazku w szczególnosci desorpcji para wodna polega na doprowadzeniu przewodem odlotowym 3 pary wodnej i nastepnie odprowadzeniu adsorbatu przewodem dolotowym 1 lub innym przewodem umieszczonym na przyklad wewnatrz urzadzenia.Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie do adsorpcji zanieczyszczen gazowych posiadajace wielopólkowa konstrukcje nosna warstw sorbenta, w którym doprowadzenie strumienia gazów zanieczyszczonych jest do co drugiej przestrzeni miedzy¬ pólkowej, a odprowadzenie strumienia oczyszczonego jest z przestrzeni miedzypólkowych przemiennych w sto¬ sunku do przestrzeni miedzypólkowych dolotowych, znamienne tym, ze wewnatrz urzadzenia znajdu¬ je sie przewód odlotowy (3) strumienia gazów oczyszczonych zakonczony króccem (4), który przylega do górnej dennicy urzadzenia adsorpcyjnego, przy czym podczas desorpcji przewód odlotowy (3) jest przewodem doprowa¬ dzajacym czynnik desorbujacy. 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze przewód odlotowy (3) znajduje sie w osi symetrii urzadzenia lub w plaszczyznie równoleglej do osi symetrii urzadzenia. 3. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze przewód odlotowy (3) posiada otwory przelo¬ towe (5), które umieszczone sa przemiennie w stosunku do przestrzeni miedzypólkowych strumieni gazów dolotowydi.115 550 ******** -ci fig.1 fig.2 PL