PL110657B1 - Optical transparent material protecting against radiation and method of manufacturing the same - Google Patents

Optical transparent material protecting against radiation and method of manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
PL110657B1
PL110657B1 PL1977199696A PL19969677A PL110657B1 PL 110657 B1 PL110657 B1 PL 110657B1 PL 1977199696 A PL1977199696 A PL 1977199696A PL 19969677 A PL19969677 A PL 19969677A PL 110657 B1 PL110657 B1 PL 110657B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
lead
methacrylate
monomer
carbon atoms
general formula
Prior art date
Application number
PL1977199696A
Other languages
English (en)
Other versions
PL199696A1 (pl
Original Assignee
Kyowa Gas Chemical Ind Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP8461776A external-priority patent/JPS539996A/ja
Priority claimed from JP6572877A external-priority patent/JPS541797A/ja
Application filed by Kyowa Gas Chemical Ind Co Ltd filed Critical Kyowa Gas Chemical Ind Co Ltd
Publication of PL199696A1 publication Critical patent/PL199696A1/pl
Publication of PL110657B1 publication Critical patent/PL110657B1/pl

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21FPROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F1/00Shielding characterised by the composition of the materials
    • G21F1/02Selection of uniform shielding materials
    • G21F1/10Organic substances; Dispersions in organic carriers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest material chroniacy przed promieniowaniem o doskonalej optycznej przezroczystosci i wytrzymalosci mechanicznej na bazie zwiazków akrylo¬ wych zawierajacych zwiazki olowiu oraz sposób wytwa¬ rzania materialu optycznie przezroczystego chroniacego przed promieniowaniem.Wiadomo, ze przezroczysty material chroniacy przed promieniowaniem otrzymuje sie z akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu w wyniku jego polimeryzacji w tempe¬ raturze powyzej punktu topnienia. Uzyskany material ject jednak bardzo kruchy i praktycznie nie nadaje sie do dal¬ szej obróbki.Istnieje mozliwosc polepszenia wytrzymalosci takiego materialu w wyniku polimeryzacji akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu z domieszka metakrylanu metylu, który latwo ulega kopolimeryzacji. Wytworzony jednak w ten sposób polimer traci w zasadzie swoja przezroczys¬ tosc, co objawiar sie,pojawieniem bialego zmetnienia w mie¬ szaninie o zawartosci olowiu wystarczajacej do ochrony przed promieniowaniem i nadajacej jednoczesnie odpowie¬ dnia wytrzymalosc mechaniczna.Dkr przykladu- przy zmieszaniu w dowolnym stosunku metakrylanu olówki z metakrylanem metylu w tempera¬ turze powyzej punktu topnienia, w celu utworzenia jedno¬ litej i przezroczystej masy, ilosc dodanego- metakrylanu olowiu pozwalajaca na otrzymanie w wyniku polimeryzacji przezroczystego polimeru My ponizej 6% wagowych, Tymczasem praktyczne dzialanie ochronne przed promie¬ niowaniem osiada sie powyzej 95% wagpwych tracac jednoczesnie wytrzymalosc mechaniczna materialu. 10 15 20 25 30 Dlatego przedmiotem niniejszego wynalazku jest dos¬ tarczenie nowego materialu chroniacego przed promienio¬ waniem o doskonalych wlasciwosciach pod wzgledem optycznej przezroczystosci i wytrzymalosci mechanicznej oraz sposobu jego wytwarzania.Powyzsze warunki spelnia material zawierajacy w swoim skladzie polimer, posiadajacy co najmniej jeden zasadniczy monomer wybrany z grupy obejmujacej metakrylan alkilowy o 1—4 atomach wegla w grupie alkilowej, akrylan hydro- ksyalkHowy, metakrylan hydroksyalkilowy i styren oraz posiadajacy równiez akrylan olowiu lub metakrylan olowiu z dodatkiem karboksylanu olowiu o ogólnym wzorze (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita odpo¬ wiadajaca wartosciowosci olowiu, zas R oznacza nasycony lub nienasycony lancuch weglowodorowy o 5—20 atoniach wegla, ewentualnie podstawiony grupa hydroksylowa.Stosunek x w procentach wagowych akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu do calkowitej zawartosci monomeru w polimerze, jak równiez stosunek y w czesciach wago¬ wych karboksylanu olowiu do 100 czesci wagowych cal¬ kowitej zawartosci monomeru w niniejszym materiale spelnia jedno z trzech równani, II i III: 200y2 gdzie 9 2 200 ;_(x_30)+2 gdzie 30 '^ x ^ 75 C1) (II) 200 y — — (x—75)+ 20 gdzie 75 < x s ;95 CHI) Material chroniacy przed promieniowaniem wedlug niniejszego wynalazku wytwarza sie w wyniku polimeryzacji mieszaniny monomerów, zawierajacej co najmniej jeden 110 657110 657 3 zasadniczy monomer wybrany z grupy obejmujacej me- takrylan alkilowy zawierajacy 1—4 atomy wegla w grupie alkilowej, akrylan hydroksyalkilowy, metakrylan hydro- ksyalkilowy i styren oraz akrylan olowiu lub metakrylanu olowiu z dodatkiem karboksylanu olowiu o ogólnym wzorze (RCOO)aPb, w którym a i R oznaczaja te same wartosci jak wyzej, przy czym stosunek x w % wagowych akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu do powyzszej mieszaniny monomerów oraz stosunek y w czesciach wagowych karbo¬ ksylanu olowiu do 100 czesci wagowych powyzszej miesza¬ niny monomerów spelniaja powyzsze równania I, II i III.Dotychczas nie stwierdzono, aby dodatek karboksy¬ lanu olowiu w róznej ilosci do omawianego materialu wply¬ wal na jego wysoka przezroczystosc w sposób jak przedsta¬ wiono w niniejszym wynalazku. Aczkolwiek powyzszy mechanizm teoretycznie nie daje sie obecnie calkowicie wyjasnic, jest on bardzo wazny z punktu widzenia zasto¬ sowania w przemysle i medycynie, gdyz prowadzi do otrzy¬ mania materialu o dzialaniu chroniacym przed promienio¬ waniem oraz doskonalych wlasciwosciach mechanicznych i przezroczystosci optycznej.Jako metakrylanu alkilowego zawierajacego 1—4 ato¬ mów wegla w grupie alkilowej uzywa sie metakrylanu mety¬ lowego, metakrylanu etylowego, metakrylanu n-propylo- wego, metakrylanu izopropylowego* metakrylanu n-buty- lowego, metakrylanu II-rzedowego, butylowego, metakry¬ lanu Ill-rzedowego butylowego i innych, korzystnie meta¬ krylanu metylu.Dla przykladu jako akrylanu hydroksyalkilowego i me¬ takrylanu hydroksyalkilowego, podstawionych lub nie- podstawionych, uzywa sie zwlaszcza akrylanu 2-hydroksy- etylowego, metakrylanu 2-hydroksyetylowego, akrylanu 2-hydroksypropylowego, metakrylanu 2-hydroksypropy- lowego, akrylanu 3-hydroksypropylowego, metakrylanu 3-hydroksypropylowego, metakrylanu 4-hydroksybutyIo- wego, akrylanu 2-hydroksy-3-chloropropylowego, metakry¬ lanu 2-hydroksy-3-chloropropylowego i innych.Rozwaza sie równiez wprzedmiocieniniejszego wynalazku czesciowe zastapienie powyzszych zasadniczych monomerów takimi, które moga z nimi kopolimeryzowac bez niekorzy¬ stnego wplywu na otrzymane wyniki. Jako takich mono¬ merów mozna uzywac akrylanu metylu, akrylanu etylu, akrylanu izopropylu, akrylanu n-butylu, octanu winylu, chlorku winylu, akrylonitrylu, metakrylonitrylu i innych.We wzorze ogólnym (RCOO)aPb odpowiadajacym karboksylanowi olowiu a oznacza liczbe calkowita równa wartosciowosci olowiu, zwykle zawarta miedzy 2—4, korzystnie 2, R oznacza nasycony lub nienasycony weglo¬ wodór, zawierajacy 5—20 atomów wegla, ewentualnie podstawiony grupa hydroksylowa, przy czym korzystnie grupa weglowodorowa o 5—18 atomach wegla. Jezeli liczba wegli maleje ponizej 4 lub wzrasta powyzej 21, zarówno przezroczystosc i/lub wytrzymalosc mechaniczna otrzyma¬ nego materialu nie wystarczaja na calkowite osiagniecie zalozen niniejszego wynalazku.Jako typowe przyklady karboksylanu olowiu mozna podac pentakarboksylan olowiu (kapronian olowiu), heksakarboksynian olowiu (enantian olowiu), heptakar- boksylan olowiu (kaprylan olowiu), oktakarboksylan olowiu (pelargonian olowiu), nonakarboksylan olowiu (kaprynian olowiu), laurynian olowiu, mirystynian olowiu, palmity- nian olowiu, stearynian olowiu, arachidynian olowiu, 1-pentenkarboksylan olowiu, 8-oktenkarboksylan olowiu, sól olowiu kwasu linderowego, mieszana sól olowiu kwasu laurynowego i oleinowego, mieszana sól olowiu kwasu 4 mirystynowego i oleinowego, mieszana sól olowiu kwasu palmitynowego i oleinowego, sól olowiu kwasu petroselino- wego, oleinian olowiu, elaidynian olowiu, sól olowiu kwasu linolowego (linolan olowiu), sól olowiu kwasu linoleno- 5 wego (linolenian olowiu), sorbinian olowiu, rycynolan olowiu, mieszana sól olowiu kwasu rycynolowego i elaidy- nowego, naftenian olowiu, oktylobenzoesan olowiu i inne.W polimerze skladajacym sie z zasadniczego monomeru (lacznie z monomerami zastepczymi) oraz akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu, o zawartosci tych ostatnich po¬ nizej 9% wagowych praktycznie nie udaje sie uzyskac efektu chroniacego przed promieniowaniem, z drugiej zas strony przy ich zawartosci powyzej 95% wagowych uzyskuje sie niewystarczajaca wytrzymalosc mechaniczna przy zadowalajacym efekcie chroniacym.Przezroczysty i wytrzymaly material chroniacy przed promieniowaniem zawierajacy 9—95% wagowych akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu, niemozliwy dotychczas da otrzymania, daje sie wedlug niniejszego wynalazku wytwa¬ rzac z monomeru zawierajacego zasadniczy monomer (lacznie z zastepczym monomerem) i akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu z dodatkiem karboksylanu olowiu w takiej ilosci, aby stosunek x w % wagowych akrylanu, olowiu lub metakrylanu olowiu do calkowitej zawartosci monomeru oraz stosunek y w czesciach wagowych karbo¬ ksylanu olowiu do 100 czesci wagowych calkowitej zawar¬ tosci monomeru spelnialy jedno z powyzszych równan I, II i III. Jesli nawet zawartosc akrylanu olowiu lub meta¬ krylanu jest wzglednie niska w materiale niniejszego wy¬ nalazku, bowiem zawartosc olowiu zmniejsza sie aby umozliwic wprowadzenie karboksylanu olowiu, to prak¬ tyczne dzialanie materialu chroniacego przed promienio¬ waniem nie zmienia sie, poniewaz calkowita ilosc olowiu kompensuje sie; poprzez dostarczenie go w postaci karbo¬ ksylanuolowiu.W przypadku, gdy ilosc dodanego karboksylanu olowiu wynosi ponizej limitu okreslonego równaniem I, II lub III, otrzymany material nie jest w zasadzie przezroczysty,, lecz wykazuje biale zmetnienie lub niejednorodnosc.Z drugiej strony nadmierny dodatek karboksylanu olowiu powyzej pewnej granicy nie prowadzi do dalszego polep¬ szenia przezroczystosci ponad okreslony poziom, lecz- raczej zmniejsza mechaniczna wytrzymalosc i wywoluje powstawanie zacieków na materiale. Dlatego stosunek. y wynosi nie wiecej niz 200 czesci wagowych, korzystnie 100 czesci wagowych.Dalej wedlug niniejszego wynalazku optyczna przezro¬ czystosc i znaczny wzrost wytrzymalosci mechanicznej materialu chroniacego przed promieniowaniem mozna zapewnic przez zastosowanie polimeru skladajacego sie z wyjsciowego monomeru wybranego z grupy obejmujacej metakrylan alkilu o 1—4 atomach wegla w grupie alkilowej, akrylan hydroksyalkilowy, metakrylan hydroksyalkilowy i styren oraz monomeru w ilosci 9—75% wagowych w sto¬ sunku do monomeru wyjsciowego i przedstawionego ogól¬ nym wzorem 1, w którym R± oznacza H lub CH3, A ozna¬ cza alken zawierajacy 2—4 atomów wegla, zas n oznacza liczbe calkowita miedzy 2 i 60, i/lub monomeru o ogólnym wzorze 2: gdzie R2 oznacza H lub CH3, B oznacza nasycony lub nienasycony lancuch weglowodorowy o 4—25 atomach. wegla, zas m oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2 i 4, oraz przez zastosowanie akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu z dodatkiem karboksylanu olowiu o ogólnym wzorze (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita równa. 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60110 657 5 wartosciowosci olowiu, zas R przedstawia nasycony lub nienasycony lancuch weglowodorowy, ewentualnie pod¬ stawiony grupa hydroksylowa, zawierajacy 5—10 atomów wegla.Nalezy podkreslic, ze stosunek x w % wagowych akry¬ lanu olowiu lub metakrylanu olowiu do calkowitej zawar¬ tosci monomeru w polimerze oraz stosunek y w czesciach wagowych karboksylanu olowiu do 100 czesci wagowych calkowitej zawartosci monomeru w mieszaninie musi spelniac którekolwiek z równan I lub U: 200y2, gdzie 9 200y—(x—30)+2, gdzie 30 < x <75 (II) Powyzszy material chroniacy przed promieniowaniem otrzymuje sie w wyniku polimeryzacji mieszaniny mono¬ meru wyjsciowego skladajacego sie z co najmniej jednego podstawowego monomeru wybranego z grupy obejmujacej metakrylan alkilu, akrylan hydroksyalkilu, metakrylan hydroksyalkilu i styren oraz monomeru o wzorze ogólnym 1 i/lub 2 w ilosci 8—75% wagowych w stosunku do wyjscio¬ wego monomeru z dodatkiem akrylanu olowiu lub meta¬ krylanu olowiu w obecnosci karboksylanu olowiu o ogólnym wzorze (RCOO)aPb, w którym a i R maja to samo znaczenie jak wyzej, przy czym stosunek x w % wagowych akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu do mieszaniny monomerów oraz stosunek y w czesciach wagowych karboksylanu olowiu do mieszaniny monomerów spelnia którekolwiek z. równan I lub II.Monomer wielofunkcyjny przedstawiony wzorem ogólnym 1 i/lub 2 stnowi 8—75%, korzystnie 12—60% wagowych, w stosunku do calkowitej ilosci wyjsciowego monomeru, skladajacego sie z monomeru wielofunkcyjnego i zasadni¬ czego (lacznie z monomerem zastepczym). Przy zawartosci tego monomeru ponizej 8% wagowych nie udaje sie otrzy¬ mac efektu polepszenia mechanicznej wytrzymalosci ma¬ terialu, natomiast przy nadmiarze monomeru powyzej 75% wagowych równiez nie daje sie poprawic tej wlasci¬ wosci proporcjonalnie do wzrostu ilosci monomeru. Raczej nastepuje niepomyslny wplyw na wlasciwosci fizyczne, takie jak zmniejszenie przezroczystosci i zdolnosci do obróbki.We wzorze ogólnym 1 przedstawiajacym jeden z omawia¬ nych monomerów n oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—60, korzystnie 3—30. Jesli n przekracza 60, wtedy polepszenie efektu wytrzymalosci jest zahamowane czesciowo lub calkowicie. Dla przykladu jako monomer dla wzoru 1 stosuje sie dwuakrylan glikolu polietylenowego, dwumetakrylan glikolu polietylenowego, dwuakrylan glikolu polipropylenowego, dwumetakrylan glikolu polipropyleno¬ wego oraz dwumetakrylan glikolu polibutenylowego.We wzorze ogólnym 2 odpowiadajacym innemu zmonome¬ rów B oznacza nasycony lub nienasycony lancuch weglo¬ wodorowy zawierajacy 4—25, korzystnie 4—15 atomów we¬ gla, zas m oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—4, korzystnie 2. Jesli liczba atomów wegla jest mniejsza niz 4, to efekt wzrostu mechanicznej wytrzymalosci jest nie¬ wielki. Przy liczbie atomów wegla powyzej 25 otrzymuje .sie równiez niewielki wzrost mechanicznej wytrzymalosci w stosunku do wzrastajacej liczby atomów wegla przy je¬ dnoczesnie niepomyslnym wyniku dla przezroczystosci.Dla przykladu jako monomer o wzorze ogólnym 2 sto¬ suje sie dwuakrylan 1,6-hekaanodiolu, dwumetakrylan 1,6-heksanodiolu, dwuakrylan 1,3-butanodiolu, dwume¬ takrylan 1,3-butanodiolu, trójakrylan trójhydroksymetylo- 6 propanu, trójmetakrylan trójhydroksymetylopropanu, czte- roakrylan czterohydroksymetylometanu, czterometakrylan czterohydroksymetylometanu, dwuakrylan 1,12-dodekano- diolu, dwumetakrylan 1,12-dodekanodiolu, dwumetakrylan 5 neopentenyloglikolu i inne.Material chroniacy przed promieniowaniem wedlug niniejszego wynalazku wytwarza sie jakimkolwiek sposobem pod warunkiem, ze mieszanina polimeryzacyjna zawiera polimer skladajacy sie z akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu, zasadniczego monomeru lub wyjsciowego monome¬ ru oraz karboksylanu olowiu.Wygodnie jest zmieszac skladniki monomerowe oraz karboksylan olowiu w odpowiednim stosunku i jesli to 15 konieczne, ogrzewac mieszanine az do uzyskania jednolitej cieklej masy. Mase poddaje sie nastepnie polimeryzacji w wytlaczarce lub formie z dodatkiem inicjatora polimery¬ zacji rodnikowej. Reakcja polimeryzacji przebiega najlepiej w temperaturze od —10°C do +150°C, korzystnie w 20 40—130 °C.Inicjatora polimeryzacji rodnikowej uzywa sie zwykle w ilosci 0,001 do 5%, korzystnie 0,02 do 1,0% wagowego w stosunku do uzytego monomeru. Jako typowe inicjato¬ ry tego typu reakcji stosuje sie nadtlenek laurylowy, we- 25 glan Illrzed-butylonadtlenoizopropylowy, nadtlenek ben¬ zylu, nadtlenek dwukumylu, nadtlenooctan Illrzed-butylu, nadtlenobenzoesan Illrzed. butylu, nadtlenek dwu-III- -rzed. butylu, 2,2,-azobisizobutyronitryl i inne.Niniejszy wynalazek ilustruja nastepujace przyklady: 30 Przyklady I do XV. Skladniki przedstawione w tablicy 1 miesza sie razem i ogrzewa, nastepnie dodaje sie nadtlenku laurylowego lub weglanu Hlrzed-butylonadtleno- izopropylowego jako inicjatora polimeryzacji rodnikowej 35 w ilosci 0,1 czesci wagowych na 100 czesci wagowych calej mieszaniny. W ten sposób przygotowana plynna mase wlewa sie do komory zbudowanej z dwu plyt szklanych i uszczelki z PCW (polichlorku winylu), a nastepnie pro¬ wadzi sie polimeryzacje w atmosferze azotu w tempera- 0 turze 80 °C w ciagu 5 godzin, a potem, w temperaturze 120 C w ciagu 1 godziny. Po calkowitej polimeryzacji komore demontuje sie, otrzymujac przezroczysta plytke.Wlasciwosci otrzymanych plytek przedstawiono w tablicy 2.Badania kontrolne 1—4. Plytki wytwarzano ze skla- 45 dników przedstawionych w tablicy 1, takim samym spo¬ sobem jak w przykladzie 1. Wlasciwosci otrzymanych plytek przedstawiono w tablicy 2.Przyklady XVI do XXII. Skladniki przedstawio¬ ne w tablicy 3 miesza sie razem i ogrzewa, dodajac weglanu Illrzed.-butylonadtlenopropylowego jako inicjatora poli¬ meryzacji rodnikowej w ilosci 0,1 czesci wagowych na 100 czesci wagowych ogólnej mieszaniny. Przygotowana w ten sposób plynna mase wlewa sie do komory zbudowanej z dwu plytek szklanych i uszczelki z polichlorku winylu. Nastepnie 55 prowadzi sie polimeryzacje w atmosferze azotu w tempera¬ turze 70°C w ciagu 5 godzin, a potem w temperaturze 120°C w ciagu 1 godziny. Po calkowitej polimeryzacji komore demontuje sie, aby wyjac przezroczysta plytke. Wlasciwosci plytek wytworzonych w ten sposób przedstawiono w tabli- M cy 4.Badania kontrolne 5—11. Plytki przygotowano ze skladników przedstawionych w tablicy 3 i wedlug sposobu jak w przykladzie XVI. Wlasciwosci otrzymanych plytek 65 przedstawiono w tablicy 4.IW 657 7 8 Tablica 1 Nr przykla¬ du i Przyklad I II III IV V VI | VII VIII IX X XI XII 1 xm XIV XV Kontro¬ la X Kontro¬ la 2 1 Kontro¬ la 3 Skladniki 1 metakrylan alkilu (g) 2 MMA17 Illrz. 5 metakrylan butylu MMA15 MMA65 MMA5 MMA75 MMA 17 MMA 76,5 MMA 15 MMA 45 metakrylan etylu 20 MMA 76,5 MMA 15 MMA 76,5 MMA 76,5 — MMA 30 MMA 15 styren (g) ¦ 3 16 80 30 15 — 5 5 16 9,5 15 — 9,5 15 9,5 9,5 — 30 10 metakrylan hydroksyal- kilu (g) 4 HEMA 17 HCPMA 65 HEMA 10 HPA10 HEA20 HEMA 5 HEA 10 HEMA 17 — HPA20 HEMA 20 HEMA 20 — — HEMA 10 HEMA 15 akrylan olowiu lub metakrylan (g) 5 metakrylan olowiu 50 metakrylan olowiu 15 akrylan olowiu 10 metakrylan olowiu 65 metakrylan olowiu 50 metakrylan olowiu 15 metakrylan olowiu 70 akrylan olowiu 15 metakrylan olowiu 15 akrylan olowiu 10 metakrylan olowiu 50 metakrylan olowiu 14 metakrylan olowiu 50 metakrylan olowiu 15 metakrylan olowiu 14 metokrylan olowiu 50 metakrylan olowiu 14 metakrylan olowiu 14 metakrylan olowiu 100 metakrylan olowiu 30 metakrylan olowiu 60 inne sklad¬ niki monomeru (g) 6 — akrylan metylu 5 octan winylu 5 — — — — — — ^~ — — — — karboksylan olowiu (g) 7 heptakarboksylan olowiu 40 naftanian olowiu 20 heptakarboksylan olowiu 60 linolenian olowiu 12 heptakarboksylan olowiu 5 heptakarboksylan olowiu 100 linolenian olowiu 20 oleinian olowiu 40 kaprynian olowiu 19 mirystynian olowiu 20 stearynian olowiu 5 mieszanina sól olowiu kwasu mirystynowego i oleinowego 19 pentakarboksylan olowiu 20 rycynolan olowiu 19 mieszana sól olowiu kwasu heptakarbo- ksylowego i oktakar- boksylowego — — heptakarboksylan olowiu 10 Inicjator polime¬ ryzacji 8 L L B L L B B B B B B B B 1 B B L B L110 657 10 1 1 Kontro- la4 2 1 3 * 5 metakrylan olowiu 30 6 octan winylu 35 akryloni¬ tryl c 7 heptakarboksylan olowiu 10 35 d. tablicy 1 8 | B MMA = metakrylan metylu HEMA = metakrylan 2-hydroksyetylu HCPMA = metakrylan 2-hydroksy-3-chloropropylu HPA = akrylan 2-hydroksypropylu HEA = akrylan 2-hydroksyetylu L = nadtlenek laury]u (inicjator polimeryzacji) B = weglan Hlrzed.-butylonadtlenoizopropylu Mieszana sól olowiu kwasu heptakarboksylowego i kwasu oktakarboksylowego w przykladzie XV otrzymuje sie nastepujaco: mieszanine 1,1 mola kwasu oktakarboksy¬ lowego, 1,1 mola kwasu heptakarboksylowego i jeden mol monotlenku olowiu ogrzewa sie w temperaturze 60 °C w toluenie w ciagu 4 godzin, a nastepnie toluen odparowuje sie pod zmniejszonym cisnieniem.Tablica 2 Nr przykla¬ du | 1 I II III IV V \ VI Gru¬ bosc war¬ stwy mm 2 8 10 8 8 8 8 Prze- zro- czy- stosc 3 0 0 0 0 0 0 Calkowi¬ ta przepu¬ szczalnosc (%) 4 89 87 88 75 77 73 Wytrzy¬ malosc na uderze¬ nie mierzona w dystan¬ sie (kg-am/ /cm3) 5 2,8 7,6 4,3 3,1 9,5 0,8 Równo¬ waznik olowiu (mmol Pb) 6 | 0,34 0,21 0,29 0,29 0,12 0,56 | c.d. tablicy 2 25 30 35 4) 1 1 VII VIII IX X XI XII XIII XIV XV Kontro¬ la 1 Kontro¬ la 2 Kontro¬ la 3 Kontro¬ la 4 1 2 8 8 8 8 8 8 8 8 8 8 8 8 8 3 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 X X x 4 88 87 85 77 72 84 75 82 83 — 5 3 2 5 7,8 3,1 9,1 3,2 9,3 8,9 3,3 9,0 8,9 <0,1 8,3 3,8 7,9 6 | 0,15 0,29 0,13 0,29 0,11 0,12 0,33 0,12 0,13 0,79 0,21 .0,36 0,24 | * Calkowita przepuszczalnosc swiatla mierzono wedlug ASTMD 1003 ** Wytrzymalosc na uderzenie mierzono wedlug DIN 53453 (bez nacinania) *** Równowaznik olowiu odpowiada wartosci promienio¬ wania X o energii 68, 8 keV 0 — obecnosc przezroczystosci X = brak przezroczystosci Nr i przy¬ kladu 1 1 r Przy¬ klad ' 16 17 1 18 Tablica 3 Monomer wyjsciowy metakrylan alkilu ¦ c(8) 2 .MMA 17,0 MMA 7ftl , IIrz. meta¬ krylan butylu 5,0 MMA 34,0 ¦•, ¦ ¦-' - • Sty¬ ren (K) 3 5,5 6,5 \ ' ' "" ' ' 1 akrylan i metakrylan lrjftlroksy- alkilu (g) 4.— ;• ¦ -¦ HEA 7,0 i .j- i :.- . . ¦' ; X ~— i Inne wyjsciowe mono¬ mery (g) [ 5 EM (23) 13,0 EA "(3) 11,0 i . ¦ \ EM (23) 7,5 Akrylan lub metakry¬ lan olowiu (g) 6 metakrylan olowiu metakrylan olowiu akrylan olowiu metakrylan Olowiu 35,5 20,0 14,5 185 Karboksylan olowiu (g) 7 heptakarboksy- lan olowiu 29,0 niaftenian olowiu 29,0 beptakarboksy- lan olowiu 40,0 |110 657 11 12 c.d. tablicy 3 1 1 19 20 21 22 Kontro¬ la 5 Kontro¬ la 6 Kontro- 1 la 7 Kontro¬ la 8 Kontro¬ la 9 Kontro¬ la 10 Kontro¬ la 11 2 MMA MMA MMA MMA MMA MMA MMA MMA MMA MMA MMA 34,0 7,5 12,0 6,0 30,0 34,0 3,9 64,0 12,0 12,0 12,0 3 8,0 — 6,5 3/5 5,5 5,5 8,0 6,5 6,5 6,5 4 — HEMA 5,0 HPA 7,0 HEA 5,0 — — — — HEA 7,0 HEA 7,0 HEA 7,0 5 PM (9) EA (14) dwuakrylan 1,6-heksanodiolu trójhydroksy- metylopropan trójmetakrylan — EM (23) EM (23) — dwumetakrylan etylenoglikolu dwuwinyloben- zen EMM (9) 30,0 12,5 11,0 22,0 2,0 7,6 11,0 11,0 11,0 6 metakrylan olowiu metakrylan olowiu metakrylan olowiu akrylan olowiu metakrylan olowiu metakrylan olowiu metakrylan olowiu metakrylan olowiu metakrylan olowiu metakrylan olowiu metakrylan olowiu metakrylan olowiu 12,0 46,5 17,5 17,0 34,5 35,5 18,5 65,5 12,0 34,5 34,5 34,5 7 | linolenian olowiu heptakarboksy- lan olowiu heptakarboksy- lan olowiu heptakarboksy- lan olowiu heptakarboksy- lan olowiu heptakarboksy- lan olowiu heptakarboksy- lan olowiu linolenian olowiu heptakarboksy- lan olowiu heptakarboksy- lan olowiu heptakarboksy- lan olowiu 16,0 28,5 29,0 29,0 29,0 40,0 23,0 16,0 29,0 29,0 29,0 | MMA HEMA EM PM HEA HPA EA EMM Liczby w lub tlenku = metakrylan metylu = metakrylan 2-hydroksyetylu = dwumetakrylan glikolu polietylenowego = dwumetakrylan glikolu polipropylenowego = akrylan 2-hydroksyetylu = akrylan 2-hydroksypropylu = dwuakrylan glikolu polietylenowego = metakrylan glikolu metoksypolietylenowego nawiasach umieszczone po EM, EA, PM lub EMM oznaczaja liczbe powtarzajacych sie jednostek tlenku etylenu propylenu Tablica 4 c.d. tablicy 4 Nr przykladu 1 Przyklad XVI Przyklad XVII Przyklad XVIII Przyklad XIX Przyklad XXVI Przyklad XXI Gru¬ bosc war¬ stwy (mm) 2 4 4 4 4 4 4 Calkowi¬ ta przepusz¬ czalnosc swiatla (%) 3 86 88 89 82 79 86 Wytrzyma¬ losc na uderzenie mierzone w dystansie**) (kg-cm/ /cm2)* 4 20,0 10,4 16,5 18,5 9,7 ,. 9,8 Równo¬ waznik olo¬ wiu***) (mm Pb) 3 | 0,17 0,16 0,14 0,07 0,21 0,17 | 45 50 55 60 65 1 1 Przyklad XXII Kontrola 5 Kontrola 6 Kontrola 7 Kontrola 8 Kontrola 9 Kontrola 10 | Kontrola 11 2 4 4 4 4 4 4 4 4 1 3 75 83 88 73 86 79 75 86 4 8,5 2,9 1,8 0,6 8,7 3,2 3,5 3,0 5 0,16 0,17 0,14 0,29 0,07 0,16 0,16 0,16 *) Calkowita przepuszczalnosc swiatla mierzona wedlug ASTM D 1003 **) Wytrzymalosc na uderzenie mierzone wedlug DIN 53453 (bez nacinania) ***) Równowaznik olowiu odpowiada wartosci promienio¬ wania x o energii 68,8 keV Zastrzezenia patentowe 1. Material optycznie przezroczysty na bazie zwiazków akrylowych zawierajacych zwiazki olowiu, chroniacy przed promieniowaniem, znamienny tym, ze zawiera polimer110 657 13 14 skladajacy sie z co najmniej jednego zasadniczego mono¬ meru wybranego z grupy obejmujacej metakrylan alkilu o 1—4 atomach wegla w grupie alkilowej, akrylan hydro¬ ksyalkilu, metakrylan hydroksyalkilu lub styren oraz skladajacy sie dalej z akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu z dodatkiem karboksylanu olowiu o ogólnym wzo¬ rze (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita odpowiadajaca wartosciowosci olowiu, zas R oznacza nasycony lub nienasycony lancuch weglowodorowy, ewen¬ tualnie podstawiony grupa hydroksylowa, zawierajacy 5—20 atomów wegla, przy czym stosunek x w % wagowych akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu do calkowitej zawartosci monomerów w polimerze oraz stosunek y w czesciach wagowych karboksylanu olowiu do 100 czesci wagowych calkowitej zawartosci monomerów w miesza¬ ninie spelnia którekolwiek z nastepujacych trzech równan I, II i III: 200y2, gdzie 9 200 y —(x—30) +2, gdzie 30 = 75 200, 10 (x_75)+20, gdzie 75 < x < 95 (II) (HI) 2. Material wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera karboksylan olowiu o wzoize ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny rodnik weglowodorowy, posiadajacy 5—20 atomów wegla niepod- stawiony lub podstawiony grupa hydroksylowa. 3. Material wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze zawie¬ ra karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony, niepodstawiony alifatyczny rodnik weglowodorowy, zawierajacy 5—20 atomów wegla. 4. Material wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze zawiera karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny rodnik posiadajacy 5—20 atomów wegla, podstawiony grupa hydroksylowa. 5. Material wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze zawiera karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza 2, zas R oznacza nasycony lub nienasy¬ cony niepodstawiony alifatyczny rodnik weglowodorowy zawierajacy 5—18 atomów wegla. 6. Material wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze za¬ wiera karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza 2, zas R oznacza nasycony lub niena¬ sycony alifatyczny rodnik weglowodorowy zawierajacy 5—18 atomów wegla, podstawiony grupa hydroksylowa. 7. Material wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze jako karboksylan olowiu zawiera pochodne kwasu hepta- karboksylowego, oktakarboksylowego, laurynowego, miry- stynowego, palimitynowego, stearynowego, mieszaniny kwasu mirystynowego i oleinowego, mieszaniny kwasu palmitynowego i oleinowego, kwasu oleinowego, linolowego, linolenowego i naftenowego. 8. Material wedlug zastrz. 6, znamienny tym, ze jako karboksylan olowiu zawiera rycynolan olowiu. 9. Material wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera akrylan hydroksyalkilowy lub metakrylan hydro- ksyalkilowy posiadajacy grupe alkilowa o 2—4 atomach wegla. 10. Material wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze jako akrylanu hydroksyalkilowego lub metakrylanu hydro- 10 ksyalkilowego zawiera akrylan hydioksyetylu Jub meta¬ krylan hydroksyetylu. 11. Material wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako metakrylan alkilu zawiera metakrylan metylu. 12. Material wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosunek x w % wagowych akrylanu olowiu lub metakry¬ lanu olowiu do calkowitej zawartosci monomerów w poli¬ merze oraz stosunek y w czesciach wagowych karboksylanu olowiu do 100 czesci wagowych calkowitej zawartosci monomerów w tej mieszaninie spelnia którekolwiek z po¬ wyzszych równan I lub II. 13. Material wedlug zastrz. 12, znamienny tym, ze sklada sie z zasadniczego monomeru takiego jak metakrylan 15 alkilu lub akrylan albo metakrylan hydroksyalkilu lub styren i wielofunkcyjnego monomeru takiego jak akrylan lub metakrylan olowiu z dodatkiem karboksylanu olowiu oraz zawierajacego dodatkowo co najmniej jeden wielofunkcyjny komonomer w ilosci 8—75% wagowych w stosunku dQ 20 wyjscjowego monomeru i wybranego z grupy obejmujacej monomery przedstawione ogólnym wzorem 1, w którym R± oznacza H lub CH3, A oznacza alkilen o 2—4 atomach wegla, zas n oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—60, oraz z monomeru o wzorze ogólnym 2, w którym R2 oznacza 25 H lub CH3, B oznacza nasycony lub nienasycony rodnik weglowodorowy zawierajacy 4—25 atomów wegla, zas m oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—4. 14. Material wedlug zastrz. 13, znamienny tym, ze zawiera wielofunkcyjny komonomer w ilosci 12—60% 30 wagowych w stosunku do calkowitej zawartosci monomeru zlozonego z monomeru zasadniczego i wielofunkcyjnego. 15. Material wedlug zastrz. 13, znamienny tym, ze wystepujaca liczba n we wzorze ogólnym 1 dla wielofunkcyj¬ nego monomeru oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 16. Material wedlug zastrz. 13, znamienny tym, ze B we wzorze ogólnym 2 oznacza nasycony lub nienasycony rodnik weglowodorowy zawierajacy 4—15 atomów wegla. 17. Sposób wytwarzania optycznie przezroczystego 40 materialu chroniacego przed promieniowaniem znamienny tym, ze poddaje sie polimeryzacji mieszanine monomerów, z których co najmniej jeden zawiera zasadniczy monomer wybrany z grupy obejmujacej metakrylan alkilu o 1—4 atomach wegla w grupie alkilowej, akrylanu hydroksy- 45 alkilu, metakrylanu hydroksyalkilu i styrenu oraz akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu w obecnosci karboksylanu olowiu o wzorze ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita równa wartosciowosci olowiu, zas R przed¬ stawia nasycony lub nienasycony rodnik weglowodorowy, 50 ewentualnie podstawiony grupa hydroksylowa, zawiera¬ jacy 5—10 atomów wegla, przy czym stosunek x w % wagowych akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu do mie¬ szaniny monomerów oraz stosunek y w czesciach wago¬ wych karboksylanu olowiu do 100 czesci wagowych omawia- 55 nej mieszaniny spelnia jedno z nastepujacych równan I, II i III: 200y2, gdzie 9 60 200yy(x-30)+2, 200y—(x-75)+20, gdzie 30 < x < 75 (II) gdzie 75 < x < 95 (HI) 18. Sposób wedlug zastrz. 17, znamienny tym, ze stosuje sie karboksylan olowiu o ogólnym wzorze (RCOO) aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 65 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony lancuch110 657 15 weglowodorowy, ewentualnie podstawiony grupa hydro¬ ksylowa, zawierajacy 5—20 atomów wegla. 19. Sposób wedlug zastrz. 18, znamienny tym, ze stosuje sie karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO) aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 5 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny lancuch weglowodorowy, zawierajacy 5—20 atomów wegla. 20. Sposób wedlug zastrz. 18, znamienny tym, ze stosuje sie karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO) aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 10 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny lancuch weglowodorowy zawierajacy 5—10 atomów wegla podstawiony grupa hydroksylowa. 21. Sposób wedlug zastrz. 19, znamienny tym, ze stosuje sie karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO) 15 aPb, w którym a równa sie 2, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny lancuch weglowodorowy o 5—18 atomach wegla. 22. Sposób wedlug zastrz. 20, znamienny tym, ze stosuje sie karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO) 20 aPb, w którym a równa sie 2, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny lancuch weglowodorowy, zawieraja¬ cy 5—18 atomów wegla. 23. Sposób wedlug zastrz. 21, znamienny tym, ze jako karboksylan olowiu stosuje sie pentakarboksylan, 25 heptakarboksylan, oktakarboksylan, laurynian, mirystynian, palmitynian, stearynian, sól mieszana kwasu mirystynowego i oleinowego, sól mieszana kwasu palmitynowego i oleino¬ wego, oleinian, linolan, linolenian i naftenian. 24. Sposób wedlug zastrz. 22, znamienny tym, ze 30 jako karboksylan olowiu stosuje sie rycynolan olowiu. 25. Sposób wedlug zastrz. 17, znamienny tym, ze stosuje sie akrylan hydroksyalkilu lub metakrylan hydroksy- alkiJu, posiadajacy grupe alkilowa, zawierajaca 2—4 atomów wegla. 35 26. Sposób wedlug zastrz. 25, znamienny tym, ze jako akrylan hydroksyalkilu lub metakrylan hydroksyalkilu stosuje sie akrylan hydroksyetylu lub metakrylan hydroksy- etylu. 27. Sposób wedlug zastrz. 17, znamienny tym, ze 40 16 jako metakrylan alkilu stosuje sie metakrylan metylu. 28. Sposób wedlug zastrz. 17, znamienny tym, ze reakcje polimeryzacji prowadzi sie w temperaturze od —10 °C do +150°C w obecnosci inicjatora polimeryzacji rodnikowej. 29. Sposób wedlug zastrz. 28, znamienny tym* ze reakcje polimeryzacji prowadzi sie w temperaturze 40— 130 CC w obecnosci inicjatora polimeryzaqi rodnikowej. 30. Sposób wedlug zastrz. 17 znamienny tym, ze stosunek x w % wagowych akrylanu olowiu lub metakryla- nu olowiu do mieszaniny monomerów oraz stosunek y czesci wagowych karboksylanu olowiu do 100 czesci wa¬ gowych uzytych w mieszaninie monomerów spelnia które¬ kolwiek z opisanych wyzej równan I lub II. 31. Sposób wedlug zastrz. 30, znamienny tym, ze wyjsciowy monomer sklada sie z zasadniczego monomeru i wielofunkcyjnego monomeru, zawierajacego co najmniej jeden monomer wielofunkcyjny w ilosci okolo 8—75% wagowych w przeliczeniu na wyjsciowy monomer i wybrany z grupy obejmujacej monomer o nastepujacym wzorze ogólnym 1, w którym RL oznacza H lub CH3, A oznacza alkilen zawierajacy 2—4 atomów wegla, zas n oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—60, oraz monomer przedstawiony wzorem ogólnym 2, w którym R2 ozn?cza H lub CH3, B oznacza nasycony lub nienasycony lancuch weglowodorowy zawierajacy 4—25 atomów wegla, zas n oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—4. 32. Sposób wedlug zastrz. 31 znamienny tym, ze. stosuje sie monomer wielofunkcyjny, stanowiacy okolo 12—60% wagowych w przeliczeniu na wyjsciowy monomer skladajacy sie z powyzszego wielofunkcyjnego monomeru zasadniczego monomeru. 33. Sposób wedlug zastrz. 31, znamienny tym, ze liczba n wystepujaca we wzorze ogólnym 1 dla wielofunkcyj¬ nego monomeru oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 3—30. 34. Sposób wedlug zastrz. 31, znamienny tym, ze B we wzorze ogólnym 2 oznacza nasycony lub nienasycony lancuch weglowodorowy zawierajacy 4—15 atomów wegla c o i G 0 N * - G-0-^A-O-^-C-C-CHt wzór f * o r c [CHrC_c_0-]-B h/zór 2 LDD Z-d 2, z. 454/1400/81, n. 105+20 egz.Cena 45 zl PL

Claims (34)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Material optycznie przezroczysty na bazie zwiazków akrylowych zawierajacych zwiazki olowiu, chroniacy przed promieniowaniem, znamienny tym, ze zawiera polimer110 657 13 14 skladajacy sie z co najmniej jednego zasadniczego mono¬ meru wybranego z grupy obejmujacej metakrylan alkilu o 1—4 atomach wegla w grupie alkilowej, akrylan hydro¬ ksyalkilu, metakrylan hydroksyalkilu lub styren oraz skladajacy sie dalej z akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu z dodatkiem karboksylanu olowiu o ogólnym wzo¬ rze (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita odpowiadajaca wartosciowosci olowiu, zas R oznacza nasycony lub nienasycony lancuch weglowodorowy, ewen¬ tualnie podstawiony grupa hydroksylowa, zawierajacy 5—20 atomów wegla, przy czym stosunek x w % wagowych akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu do calkowitej zawartosci monomerów w polimerze oraz stosunek y w czesciach wagowych karboksylanu olowiu do 100 czesci wagowych calkowitej zawartosci monomerów w miesza¬ ninie spelnia którekolwiek z nastepujacych trzech równan I, II i III: 200y2, gdzie 9 200 y —(x—30) +2, gdzie 30 = 75 200, 10 (x_75)+20, gdzie 75 < x < 95 (II) (HI)
  2. 2. Material wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera karboksylan olowiu o wzoize ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny rodnik weglowodorowy, posiadajacy 5—20 atomów wegla niepod- stawiony lub podstawiony grupa hydroksylowa.
  3. 3. Material wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze zawie¬ ra karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony, niepodstawiony alifatyczny rodnik weglowodorowy, zawierajacy 5—20 atomów wegla.
  4. 4. Material wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze zawiera karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny rodnik posiadajacy 5—20 atomów wegla, podstawiony grupa hydroksylowa.
  5. 5. Material wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze zawiera karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza 2, zas R oznacza nasycony lub nienasy¬ cony niepodstawiony alifatyczny rodnik weglowodorowy zawierajacy 5—18 atomów wegla.
  6. 6. Material wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze za¬ wiera karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza 2, zas R oznacza nasycony lub niena¬ sycony alifatyczny rodnik weglowodorowy zawierajacy 5—18 atomów wegla, podstawiony grupa hydroksylowa.
  7. 7. Material wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze jako karboksylan olowiu zawiera pochodne kwasu hepta- karboksylowego, oktakarboksylowego, laurynowego, miry- stynowego, palimitynowego, stearynowego, mieszaniny kwasu mirystynowego i oleinowego, mieszaniny kwasu palmitynowego i oleinowego, kwasu oleinowego, linolowego, linolenowego i naftenowego.
  8. 8. Material wedlug zastrz. 6, znamienny tym, ze jako karboksylan olowiu zawiera rycynolan olowiu.
  9. 9. Material wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera akrylan hydroksyalkilowy lub metakrylan hydro- ksyalkilowy posiadajacy grupe alkilowa o 2—4 atomach wegla.
  10. 10. Material wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze jako akrylanu hydroksyalkilowego lub metakrylanu hydro- 10 ksyalkilowego zawiera akrylan hydioksyetylu Jub meta¬ krylan hydroksyetylu.
  11. 11. Material wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako metakrylan alkilu zawiera metakrylan metylu.
  12. 12. Material wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosunek x w % wagowych akrylanu olowiu lub metakry¬ lanu olowiu do calkowitej zawartosci monomerów w poli¬ merze oraz stosunek y w czesciach wagowych karboksylanu olowiu do 100 czesci wagowych calkowitej zawartosci monomerów w tej mieszaninie spelnia którekolwiek z po¬ wyzszych równan I lub II.
  13. 13. Material wedlug zastrz. 12, znamienny tym, ze sklada sie z zasadniczego monomeru takiego jak metakrylan 15 alkilu lub akrylan albo metakrylan hydroksyalkilu lub styren i wielofunkcyjnego monomeru takiego jak akrylan lub metakrylan olowiu z dodatkiem karboksylanu olowiu oraz zawierajacego dodatkowo co najmniej jeden wielofunkcyjny komonomer w ilosci 8—75% wagowych w stosunku dQ 20 wyjscjowego monomeru i wybranego z grupy obejmujacej monomery przedstawione ogólnym wzorem 1, w którym R± oznacza H lub CH3, A oznacza alkilen o 2—4 atomach wegla, zas n oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—60, oraz z monomeru o wzorze ogólnym 2, w którym R2 oznacza 25 H lub CH3, B oznacza nasycony lub nienasycony rodnik weglowodorowy zawierajacy 4—25 atomów wegla, zas m oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—4.
  14. 14. Material wedlug zastrz. 13, znamienny tym, ze zawiera wielofunkcyjny komonomer w ilosci 12—60% 30 wagowych w stosunku do calkowitej zawartosci monomeru zlozonego z monomeru zasadniczego i wielofunkcyjnego.
  15. 15. Material wedlug zastrz. 13, znamienny tym, ze wystepujaca liczba n we wzorze ogólnym 1 dla wielofunkcyj¬ nego monomeru oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy
  16. 16. Material wedlug zastrz. 13, znamienny tym, ze B we wzorze ogólnym 2 oznacza nasycony lub nienasycony rodnik weglowodorowy zawierajacy 4—15 atomów wegla.
  17. 17. Sposób wytwarzania optycznie przezroczystego 40 materialu chroniacego przed promieniowaniem znamienny tym, ze poddaje sie polimeryzacji mieszanine monomerów, z których co najmniej jeden zawiera zasadniczy monomer wybrany z grupy obejmujacej metakrylan alkilu o 1—4 atomach wegla w grupie alkilowej, akrylanu hydroksy- 45 alkilu, metakrylanu hydroksyalkilu i styrenu oraz akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu w obecnosci karboksylanu olowiu o wzorze ogólnym (RCOO)aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita równa wartosciowosci olowiu, zas R przed¬ stawia nasycony lub nienasycony rodnik weglowodorowy, 50 ewentualnie podstawiony grupa hydroksylowa, zawiera¬ jacy 5—10 atomów wegla, przy czym stosunek x w % wagowych akrylanu olowiu lub metakrylanu olowiu do mie¬ szaniny monomerów oraz stosunek y w czesciach wago¬ wych karboksylanu olowiu do 100 czesci wagowych omawia- 55 nej mieszaniny spelnia jedno z nastepujacych równan I, II i III: 200y2, gdzie 9 60 200yy(x-30)+2, 200y—(x-75)+20, gdzie 30 < x < 75 (II) gdzie 75 < x < 95 (HI)
  18. 18. Sposób wedlug zastrz. 17, znamienny tym, ze stosuje sie karboksylan olowiu o ogólnym wzorze (RCOO) aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 65 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony lancuch110 657 15 weglowodorowy, ewentualnie podstawiony grupa hydro¬ ksylowa, zawierajacy 5—20 atomów wegla.
  19. 19. Sposób wedlug zastrz. 18, znamienny tym, ze stosuje sie karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO) aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 5 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny lancuch weglowodorowy, zawierajacy 5—20 atomów wegla.
  20. 20. Sposób wedlug zastrz. 18, znamienny tym, ze stosuje sie karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO) aPb, w którym a oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 10 2—4, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny lancuch weglowodorowy zawierajacy 5—10 atomów wegla podstawiony grupa hydroksylowa.
  21. 21. Sposób wedlug zastrz. 19, znamienny tym, ze stosuje sie karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO) 15 aPb, w którym a równa sie 2, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny lancuch weglowodorowy o 5—18 atomach wegla.
  22. 22. Sposób wedlug zastrz. 20, znamienny tym, ze stosuje sie karboksylan olowiu o wzorze ogólnym (RCOO) 20 aPb, w którym a równa sie 2, zas R oznacza nasycony lub nienasycony alifatyczny lancuch weglowodorowy, zawieraja¬ cy 5—18 atomów wegla.
  23. 23. Sposób wedlug zastrz. 21, znamienny tym, ze jako karboksylan olowiu stosuje sie pentakarboksylan, 25 heptakarboksylan, oktakarboksylan, laurynian, mirystynian, palmitynian, stearynian, sól mieszana kwasu mirystynowego i oleinowego, sól mieszana kwasu palmitynowego i oleino¬ wego, oleinian, linolan, linolenian i naftenian.
  24. 24. Sposób wedlug zastrz. 22, znamienny tym, ze 30 jako karboksylan olowiu stosuje sie rycynolan olowiu.
  25. 25. Sposób wedlug zastrz. 17, znamienny tym, ze stosuje sie akrylan hydroksyalkilu lub metakrylan hydroksy- alkiJu, posiadajacy grupe alkilowa, zawierajaca 2—4 atomów wegla. 35
  26. 26. Sposób wedlug zastrz. 25, znamienny tym, ze jako akrylan hydroksyalkilu lub metakrylan hydroksyalkilu stosuje sie akrylan hydroksyetylu lub metakrylan hydroksy- etylu.
  27. 27. Sposób wedlug zastrz. 17, znamienny tym, ze 40 16 jako metakrylan alkilu stosuje sie metakrylan metylu.
  28. 28. Sposób wedlug zastrz. 17, znamienny tym, ze reakcje polimeryzacji prowadzi sie w temperaturze od —10 °C do +150°C w obecnosci inicjatora polimeryzacji rodnikowej.
  29. 29. Sposób wedlug zastrz. 28, znamienny tym* ze reakcje polimeryzacji prowadzi sie w temperaturze 40— 130 CC w obecnosci inicjatora polimeryzaqi rodnikowej.
  30. 30. Sposób wedlug zastrz. 17 znamienny tym, ze stosunek x w % wagowych akrylanu olowiu lub metakryla- nu olowiu do mieszaniny monomerów oraz stosunek y czesci wagowych karboksylanu olowiu do 100 czesci wa¬ gowych uzytych w mieszaninie monomerów spelnia które¬ kolwiek z opisanych wyzej równan I lub II.
  31. 31. Sposób wedlug zastrz. 30, znamienny tym, ze wyjsciowy monomer sklada sie z zasadniczego monomeru i wielofunkcyjnego monomeru, zawierajacego co najmniej jeden monomer wielofunkcyjny w ilosci okolo 8—75% wagowych w przeliczeniu na wyjsciowy monomer i wybrany z grupy obejmujacej monomer o nastepujacym wzorze ogólnym 1, w którym RL oznacza H lub CH3, A oznacza alkilen zawierajacy 2—4 atomów wegla, zas n oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—60, oraz monomer przedstawiony wzorem ogólnym 2, w którym R2 ozn?cza H lub CH3, B oznacza nasycony lub nienasycony lancuch weglowodorowy zawierajacy 4—25 atomów wegla, zas n oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 2—4.
  32. 32. Sposób wedlug zastrz. 31 znamienny tym, ze. stosuje sie monomer wielofunkcyjny, stanowiacy okolo 12—60% wagowych w przeliczeniu na wyjsciowy monomer skladajacy sie z powyzszego wielofunkcyjnego monomeru zasadniczego monomeru.
  33. 33. Sposób wedlug zastrz. 31, znamienny tym, ze liczba n wystepujaca we wzorze ogólnym 1 dla wielofunkcyj¬ nego monomeru oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 3—30.
  34. 34. Sposób wedlug zastrz. 31, znamienny tym, ze B we wzorze ogólnym 2 oznacza nasycony lub nienasycony lancuch weglowodorowy zawierajacy 4—15 atomów wegla c o i G 0 N * - G-0-^A-O-^-C-C-CHt wzór f * o r c [CHrC_c_0-]-B h/zór 2 LDD Z-d 2, z. 454/1400/81, n. 105+20 egz. Cena 45 zl PL
PL1977199696A 1976-07-16 1977-07-16 Optical transparent material protecting against radiation and method of manufacturing the same PL110657B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8461776A JPS539996A (en) 1976-07-16 1976-07-16 Rakiation ray shielding material and method of producing same
JP6572877A JPS541797A (en) 1977-06-06 1977-06-06 Radiation shielding material and making method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL199696A1 PL199696A1 (pl) 1978-07-17
PL110657B1 true PL110657B1 (en) 1980-07-31

Family

ID=26406876

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1977199696A PL110657B1 (en) 1976-07-16 1977-07-16 Optical transparent material protecting against radiation and method of manufacturing the same

Country Status (12)

Country Link
US (1) US4129524A (pl)
AU (1) AU515757B2 (pl)
BR (1) BR7704689A (pl)
CA (1) CA1082845A (pl)
CS (1) CS196213B2 (pl)
DD (1) DD131880A5 (pl)
DE (1) DE2732006C2 (pl)
ES (1) ES461464A1 (pl)
FR (1) FR2358729A1 (pl)
GB (1) GB1575698A (pl)
IT (1) IT1079338B (pl)
PL (1) PL110657B1 (pl)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4156745A (en) * 1978-04-03 1979-05-29 International Business Machines Corporation Electron sensitive resist and a method preparing the same
US4292419A (en) * 1979-05-15 1981-09-29 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Process for producing radiation-shielding plastic materials
US4429094A (en) 1981-04-06 1984-01-31 Arthur D. Little, Inc. Optically transparent radiation shielding material
DE3366938D1 (en) * 1982-11-01 1986-11-20 Hitachi Ltd Transparent resin material containing metal atoms
US5256334A (en) * 1988-09-08 1993-10-26 The Research Foundation Of The State University Of New York Homogeneous radiopaque polymer-organobismuth composites
JPH0769462B2 (ja) * 1989-12-01 1995-07-31 動力炉・核燃料開発事業団 放射線遮蔽構造
US5247038A (en) * 1989-11-29 1993-09-21 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Polybutylene glycol dimethacrylate and resin composition for cast polymerization
US5140710A (en) * 1990-09-04 1992-08-25 Mark Rademacher Bilayer X-ray eye shield
US5856415A (en) * 1997-08-28 1999-01-05 Bar-Ray Products, Inc. Optically transparent metal-containing polymers
RU2121177C1 (ru) * 1997-09-30 1998-10-27 Поттер Текнолэджис Корп. (Potter Technologies Corp.) Рентгенопоглащающий материал (варианты)
US6108403A (en) * 1998-04-21 2000-08-22 Picker International, Inc. X-ray equalization filter
US7476889B2 (en) * 1998-12-07 2009-01-13 Meridian Research And Development Radiation detectable and protective articles
US6841791B2 (en) 1998-12-07 2005-01-11 Meridian Research And Development Multiple hazard protection articles and methods for making them
US6828578B2 (en) * 1998-12-07 2004-12-07 Meridian Research And Development Lightweight radiation protective articles and methods for making them
US6281515B1 (en) 1998-12-07 2001-08-28 Meridian Research And Development Lightweight radiation protective garments
US20090000007A1 (en) * 1998-12-07 2009-01-01 Meridian Research And Development, Inc. Nonwoven radiopaque material for medical garments and method for making same
RU2172990C2 (ru) * 1999-06-01 2001-08-27 Валерий Иванович Печенкин Рентгенопоглощающий материал
RU2194317C2 (ru) * 2000-06-26 2002-12-10 Российский Федеральный Ядерный Центр - Всероссийский Научно-Исследовательский Институт Экспериментальной Физики Рентгенозащитная композиция
RU2208254C2 (ru) * 2000-11-27 2003-07-10 Николай Иванович Пилипенко Рентгенозащитная резина
RU2239895C2 (ru) * 2002-07-30 2004-11-10 Демичев Владимир Иванович Композиционный материал (варианты) и способ его изготовления
AU2003289956A1 (en) * 2002-12-17 2004-07-09 Lanxess Deutschland Gmbh Lead-free mixture used as an additive for shielding radiation
RU2277269C2 (ru) * 2004-02-09 2006-05-27 ФГУП "Российский федеральный ядерный центр-Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики"-ФГУП "РФЯЦ-ВНИИЭФ" Способ изготовления слоистого рентгенозащитного материала
US8709705B2 (en) 2004-12-13 2014-04-29 Pryog, Llc Metal-containing compositions and method of making same
US7888441B2 (en) * 2004-12-13 2011-02-15 Pryog, Llc Metal-containing compositions
DE102005034384A1 (de) * 2005-07-22 2007-02-01 Mavig Gmbh Strahlenschutzmaterial, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung
EP2058821B1 (de) * 2007-11-12 2012-11-28 EPUCRET Mineralgusstechnik GmbH & Co. KG Röntgenstrahlung absorbierender Mineralguss
EP2326744B1 (en) 2008-08-07 2022-06-01 Pryog, LLC Metal compositions and methods of making same
EP2926345B1 (en) 2012-10-31 2019-04-03 Lite-Tech Inc. Flexible highly filled composition, resulting protective garment, and methods of making the same
US10026513B2 (en) 2014-06-02 2018-07-17 Turner Innovations, Llc. Radiation shielding and processes for producing and using the same
US10941163B2 (en) 2015-09-29 2021-03-09 Pryog, Llc Metal compositions and methods of making same

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA456596A (en) * 1949-05-10 Arthur Leader Sidney Resinous composition opaque to x-rays
US2403794A (en) * 1943-11-19 1946-07-09 Du Pont Visible light transparent plastic
US3148160A (en) * 1961-06-19 1964-09-08 Eastman Kodak Co Transparent radiation shields
US3608555A (en) * 1968-12-31 1971-09-28 Chemplast Inc Radio opaque and optically transparent tubing
US3705137A (en) * 1969-12-04 1972-12-05 Mitsui Mining & Smelting Co Precipitation copolymerization of metal salts of unsaturated carboxylic acids
US3715331A (en) * 1970-05-01 1973-02-06 Coe Labor Monomer soluble x-ray opaque methacrylate particles
US4022960A (en) * 1971-03-15 1977-05-10 Agency Of Industrial Science & Technology Polymers with high transparency and refractive index and process for production thereof
GB1378212A (en) * 1972-03-15 1974-12-27 Amalgamated Dental Co Ltd Denture bases

Also Published As

Publication number Publication date
DD131880A5 (de) 1978-07-26
FR2358729B1 (pl) 1980-02-15
US4129524A (en) 1978-12-12
GB1575698A (en) 1980-09-24
DE2732006C2 (de) 1985-04-11
CA1082845A (en) 1980-07-29
DE2732006A1 (de) 1978-01-19
BR7704689A (pt) 1978-05-16
AU515757B2 (en) 1981-04-30
FR2358729A1 (fr) 1978-02-10
ES461464A1 (es) 1978-06-01
AU2707077A (en) 1979-01-18
PL199696A1 (pl) 1978-07-17
CS196213B2 (en) 1980-03-31
IT1079338B (it) 1985-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL110657B1 (en) Optical transparent material protecting against radiation and method of manufacturing the same
US4396737A (en) Polymerization of polyol allyl carbonate using polymerization initiators of short and long half lives
JPS5921883B2 (ja) 透明プラスチック成形体の製法
US4182821A (en) Method for producing a lead containing monomer composition and a radiation shielding polymer
EP0019121B1 (en) Process for producing radiation-shielding plastic materials
US4419463A (en) Preparation of cross-linked hydrogel copolymers for contact lenses
US5476906A (en) Impact resistant Fresnel lens
EP0765889A1 (en) Polymeric adhesive and flame-retardant compositions
EP0973811B1 (en) Self-light-stabilized photochromic polymer, its preparation and articles containing same
JP3859252B2 (ja) 樹脂製光学材料およびその製造方法
JPH0782324A (ja) 難燃性透明樹脂
DE2804533A1 (de) Restmonomerarme mischpolymerisate des acrylnitirls, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung zur herstellung orthopaedischer formkoerper
JP3780612B2 (ja) 近赤外吸収樹脂組成物及び材料
GB2036765A (en) Soft contact lenses
US3391222A (en) Methylemethacrylate-styrene copolymer-in-monomers systems
JPH0539327A (ja) 水に良好に分散する紫外線吸収能を有する樹脂
KR20050079296A (ko) 열안정성이 향상된 투명 아크릴계 충격보강제 및 그제조방법
JPH04296307A (ja) 光学用樹脂
JPS6145800B2 (pl)
CA2586717A1 (en) Uv stabilizer for pmma
JPH0149181B2 (pl)
JPH03220205A (ja) 光制御板用樹脂組成物及び光制御板
JPS6145199B2 (pl)
JPS62187712A (ja) 架橋スチロ−ル系樹脂板
JPH0149180B2 (pl)

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20051115