PL109797B1 - Method of producing polycarbonates able to photocross linking - Google Patents

Method of producing polycarbonates able to photocross linking Download PDF

Info

Publication number
PL109797B1
PL109797B1 PL19666177A PL19666177A PL109797B1 PL 109797 B1 PL109797 B1 PL 109797B1 PL 19666177 A PL19666177 A PL 19666177A PL 19666177 A PL19666177 A PL 19666177A PL 109797 B1 PL109797 B1 PL 109797B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
phosgene
photosensitive
polymer
bisphenols
alkyl groups
Prior art date
Application number
PL19666177A
Other languages
English (en)
Other versions
PL196661A1 (pl
Inventor
Zbigniew Brzozowski
Boguslaw Jozwik
Original Assignee
Politechnika Warszawska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Warszawska filed Critical Politechnika Warszawska
Priority to PL19666177A priority Critical patent/PL109797B1/pl
Publication of PL196661A1 publication Critical patent/PL196661A1/pl
Publication of PL109797B1 publication Critical patent/PL109797B1/pl

Links

Landscapes

  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia poliweglanów fotoczulych, które w wyniku naswietlania promieniowaniem elektromagnetycz¬ nym, np. z zakresu bliskiego ultrafioletu, ulegaja reakcji fotosieciowania dzieki czemu staja sie one nierozpuszczalne. Poliweglany wchodzace w zakres wynalazku tworza warstwy wykazujace do¬ bra przyczepnosc do podlozy metalowych. Wyko¬ nujac naswietlania tych warstw przez odpowied¬ nie szablony a nastepnie prowadzac proces wy¬ wolywania w rozpuszczalniku, uzyskuje sie na podlozu kopie obrazu z maski.Uzyskane kopie moga sluzyc jako tabliczki zna¬ mionowe, podzialki itp. lub moga sluzyc jako ma¬ tryce w offsetowej technice druku plaskiego. Po¬ nadto otrzymane kopie, majace odsloniete nie¬ które powierzchnie podloza, mozna poddac dal¬ szym procesom jak np. naparowanie substancji w prózni. Po zmyciu usieciowanej warstwy polimeru otrzymuje sie obraz z naparowanej substancji be¬ dacy kopia maiski.Dotychczas polimery o duzej masie czasteczko¬ wej tworzace warstwy fotoczule o doibryoh wlas¬ nosciach mechanicznych i dobrej przyczepnosci do podloza otrzymuje sie stosujac proces dwueta¬ powy. Proces ten polega na uzyskaniu w pier¬ wszym etapie polimeru, który nie jest fotoczuly, a dopiero w drugim etapie poprzez modyfikacje chemiczna, np. przez dzialanie chlorku cynamo- nilu na uprzednio otrzymany polialkohol winylo¬ wy o duzej masie czasteczkowej, fotopolimeru o wymaganych wlasnosciach.Okazalo isie jednakze, ze mozna uzyskac foto- polimer o duzej maisie czasteczkowej, który dosko- 5 nale .nadaje sie do sporzadzania warstw foto¬ czulych w procesie jednoetapowym.Polimer taki otrzymuje sie sposobem wedlug wynalazku przez polikondenisacjej w rozpuszczal¬ niku lub na granicy faz. Polikondensacje w roz- 10 puszezalniku prowadzi sie wobec trójetyloaminy jako katalizatora uzytego w ilosci stechiome- trycznej do bisfenolu. Jako rozpuszczalniki stosuje sie weglowodory chlorowane takie jak np. chlo¬ rek metylenu, chloroform itp. 15 Jeden reagent stanowi fisfenol fotcczuly o wzo¬ rze 1 przedstawionym na rysunku, w którym Ri oznacza ugrupowanie o wzorze —(CH=CH)2—CO lub ugrupowanie o wzorze 2, a X i Y oznaczaja atomy wodoru i/lub grupy alkilowe, i/ilub grupy 20 O—alkilowe, i/lub atomy chlorowca. Drugim rea¬ gentem jest chloromrówczan znanych bisfenoli takich jak np. lvl-ibis(p-hydroksyfenylo)-22-dwu- chloroetylen, dien itp i/iub fosgen, stosowany w formie roztworu. 25 w polikondensacji na granicy faz katalizatorem, jest chlorek trójetylobenzyloamoniowy. Faze wod¬ na stanowi alkaliczny roztwór bisfenolu fotoczu- lego. Faza organiczna zawiera roztwór chloro- mrówczanu znanych bisfenoli i/lub fosgenu. 30 Otrzymany sposobem wedlug wynalazku poli- 109 797109 797 weglan wykazuje dufza czulosc na promieniowanie elektromagnetyczne z zakresu bliskiego ultrafio¬ letu. Graniczna liczba lepkosciowa wyznaczana przez ekstrapolacje zaleznosci lepkosci zredukowa¬ nej w funkcji stezenia do stezenia równego zero w chlorku metylenu wynosi okolo 1,0.Warstwy fotoczule uzyskuje sie przez rozpu¬ szczenie otrzymanego polimeru w mieszaninie rozpuszczalników takich jak np. chlorek metylenu, chloroform, sym-czterochloroetan, dioksan dtp.Stezenie polimeru wynosi 0,1-20% wagowych w zaleznosci do pozadanej grubosci warstwy. War¬ stwy fotoczule uzyskuje sie przez zanurzenie, po¬ lewanie lub metoda wirowania.Folie wykonane z poliweglanu sposobem wedlug wynalazku posiadaja wytrzymalosc na rozciaganie do zerwania 390 kG/cm2 przy wydluzeniu wzgled¬ nym 30%., Po naswietleniu foilie takie traca swoja rozpuszczalnosc w rozpuszczalnikach, z których zostaly* wylane. Na uwage zasluguje fakt' blisko 30% wzrostu wytrzymalosci na zerwanie tych folii przy spadku wydluzenia wzglednego do okolo i%.Przedmiot wynalazku jest blizej objasniony w przykladacih wykonania.Przyklad I. W kolbie rozpuszcza sie 13,3 g bis/p-hydroksybenzylideno/aicetonu (0,05 mola) i 5,05 g trójetyloaminy w 150 ml chloroformu.Nastepnie w temperaturze wrzenia ro-ztworu, cia¬ gle ^mieszajac, wkrapla sie roztwór zawierajacy 20,3 g chloromrówczanu chlorobisfenolu II — CBF II w 100 ml chloroformu. Zawartosc kolby miesza sie jeszcze 2 godziny. Po uplywie tego czasu roztwór wkrapla sie do 600 ml acetonu ce¬ lem wytracenia polimeru. Wytracony polimer po odsaczeniu suszy sie w temperaturze pokojowej przez 5 godzin, a nastepnie w suszarce prózniowej w ciagu 3 godzin w temperaturze 50°C.Przyklad II. W kolbie rozpuszcza sie w 10 20 30 150 ml wody 17,7 g bisi(3-etokiSy-4-(hydroksybenzy- lideno) acetonu (0,05 mola), 4,3 g wodorotlenku sodowego i 0,9 g chlorku trójetyiobenzyloamino- wego. Nastepnie do kolby wlewa sie roztwór 17,65 g chloromrówczanu dianu w 100 iml chlorku metylenu. Zawartosc kolby intensywnie miesza sie w ciagu 1,5 godziny. Po uplywie tego samego' cza¬ su mieszanine reakcyjna zakwasza sie do pH 1 i umieszcza w rozdzielaczu. Po rozdzieleniu faz, faze organiczna wkrapla sie do 6O0 ml acetonu celem wytracenia polimeru. Polimer po przesacze¬ niu suszy sie na powietrzu w ciagu 4 godzin, a nastepnie w suszarce prózniowej w temperaturze 50°C przez 3 godziny.Przyklad III. Postepuje, sie podobnie jak w przykladzie I z tym, ze wkratpla sie roztwór steohdometrycznej ilosci fosgenu w chlorku mety¬ lenu, zachowujac pelne bezpieczenstwo pracy.Przyklad IV. Postepuje sie podobnie jak w przykladzie II z tym, ze jako faze organiczna do¬ daje sie roztwór stechiometrycanej ilosci fosgenu w chlorku metylenu, zachowujac pelne bezpie¬ czenstwo pracy.Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania poliiweglanów zdolnych do fotosieciowania, polegajacy na reakcji polikonden- sacji blsfenoli z chloromrówczanami znanych bis- fenoli i/lub fosgenem, znamienny tym, ze na chlo- romrówczany znanych biisfenoli niefotoczulych i/lub fosgen dziala sie bisfenolami fotoczulymi o ogólnym wzorze 1 przedstawionym na rysunku, w którym Ri oznacza ugrupowanie —(CH=CH)2 —GO lub grupe o wzorze 2, a Xi Y oznaczaja atomy wodoru i/lub grupy alkilowe i/lub grupy O-alkilowe i/lub atomy chlorowca lub mieszanine zwiazków o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku, ze znanymi bisfenolami. wzo'r 1 VC°N /« l Wzór 2 PZGraf. Koszalin D-lll 120 egz. A-4 Cena 45 zl PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania poliiweglanów zdolnych do fotosieciowania, polegajacy na reakcji polikonden- sacji blsfenoli z chloromrówczanami znanych bis- fenoli i/lub fosgenem, znamienny tym, ze na chlo- romrówczany znanych biisfenoli niefotoczulych i/lub fosgen dziala sie bisfenolami fotoczulymi o ogólnym wzorze 1 przedstawionym na rysunku, w którym Ri oznacza ugrupowanie —(CH=CH)2 —GO lub grupe o wzorze 2, a Xi Y oznaczaja atomy wodoru i/lub grupy alkilowe i/lub grupy O-alkilowe i/lub atomy chlorowca lub mieszanine zwiazków o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku, ze znanymi bisfenolami. wzo'r 1 VC°N /« l Wzór 2 PZGraf. Koszalin D-lll 120 egz. A-4 Cena 45 zl PL
PL19666177A 1977-03-15 1977-03-15 Method of producing polycarbonates able to photocross linking PL109797B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19666177A PL109797B1 (en) 1977-03-15 1977-03-15 Method of producing polycarbonates able to photocross linking

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19666177A PL109797B1 (en) 1977-03-15 1977-03-15 Method of producing polycarbonates able to photocross linking

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL196661A1 PL196661A1 (pl) 1978-11-20
PL109797B1 true PL109797B1 (en) 1980-06-30

Family

ID=19981421

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL19666177A PL109797B1 (en) 1977-03-15 1977-03-15 Method of producing polycarbonates able to photocross linking

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL109797B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL196661A1 (pl) 1978-11-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2028903C3 (de) Lichtempfindliche Masse
US4736055A (en) Oxime sulfonates containing reactive groups
KR910000219B1 (ko) 감광성 물품 및 그의 제조방법
CA2049772A1 (en) Olefinically unsaturated onium salts
JPS60207139A (ja) 画像形成方法
KR100231955B1 (ko) 2,6-디니트로벤질기를 기재로한 광활성 중합체를 포함하는 포토레지스트 조성물
CA1330896C (en) Photopolymers
CA1330498C (en) Photostencils for screenprinting
KR100190809B1 (ko) 비중합성화합물,이를함유하는조성물그리고포지티브및네가티브상의형성방법
US4301231A (en) Negative resist for high energy radiation
PL109797B1 (en) Method of producing polycarbonates able to photocross linking
US4517276A (en) Metal-containing organic photoresists
CA1271768A (en) Process and polymers for the production of images
US3799915A (en) Photopolymers
US3644118A (en) Polydiacrylyl photosensitive compositions
US3591377A (en) Photographic elements and processes employing photosensitive polymers
US3457073A (en) Photochemical cross-linking of polymers
US3345171A (en) Photochemical insolubilization of polymers
US5356740A (en) Radiation-sensitive compositions
KR950000702B1 (ko) N-t-부톡시카르보닐말레이미드와 스티렌유도체의 공중합체 제조방법 및 N-t-부톡시카르보닐말레이미드와 스티렌유도체의 공중합체를 이용한 내열성 포지티브 레지스트 화상 형성 방법
US3792025A (en) Novel compounds and process
EP0265375B1 (de) Photoresist-Zusammensetzungen
US3962241A (en) Light-sensitive polymeric compounds
US2696435A (en) Lithographic material and process
JPH0820731B2 (ja) 感光性樹脂組成物および感光性エレメント

Legal Events

Date Code Title Description
RECP Rectifications of patent specification