PL109797B1 - Method of producing polycarbonates able to photocross linking - Google Patents
Method of producing polycarbonates able to photocross linking Download PDFInfo
- Publication number
- PL109797B1 PL109797B1 PL19666177A PL19666177A PL109797B1 PL 109797 B1 PL109797 B1 PL 109797B1 PL 19666177 A PL19666177 A PL 19666177A PL 19666177 A PL19666177 A PL 19666177A PL 109797 B1 PL109797 B1 PL 109797B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- phosgene
- photosensitive
- polymer
- bisphenols
- alkyl groups
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 title description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 title description 4
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 claims description 10
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N chlorocarbonic acid Chemical class OC(Cl)=O AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- -1 for example Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FZFAMSAMCHXGEF-UHFFFAOYSA-N chloro formate Chemical compound ClOC=O FZFAMSAMCHXGEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012696 Interfacial polycondensation Methods 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N acetylene tetrachloride Natural products ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical group [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia poliweglanów fotoczulych, które w wyniku naswietlania promieniowaniem elektromagnetycz¬ nym, np. z zakresu bliskiego ultrafioletu, ulegaja reakcji fotosieciowania dzieki czemu staja sie one nierozpuszczalne. Poliweglany wchodzace w zakres wynalazku tworza warstwy wykazujace do¬ bra przyczepnosc do podlozy metalowych. Wyko¬ nujac naswietlania tych warstw przez odpowied¬ nie szablony a nastepnie prowadzac proces wy¬ wolywania w rozpuszczalniku, uzyskuje sie na podlozu kopie obrazu z maski.Uzyskane kopie moga sluzyc jako tabliczki zna¬ mionowe, podzialki itp. lub moga sluzyc jako ma¬ tryce w offsetowej technice druku plaskiego. Po¬ nadto otrzymane kopie, majace odsloniete nie¬ które powierzchnie podloza, mozna poddac dal¬ szym procesom jak np. naparowanie substancji w prózni. Po zmyciu usieciowanej warstwy polimeru otrzymuje sie obraz z naparowanej substancji be¬ dacy kopia maiski.Dotychczas polimery o duzej masie czasteczko¬ wej tworzace warstwy fotoczule o doibryoh wlas¬ nosciach mechanicznych i dobrej przyczepnosci do podloza otrzymuje sie stosujac proces dwueta¬ powy. Proces ten polega na uzyskaniu w pier¬ wszym etapie polimeru, który nie jest fotoczuly, a dopiero w drugim etapie poprzez modyfikacje chemiczna, np. przez dzialanie chlorku cynamo- nilu na uprzednio otrzymany polialkohol winylo¬ wy o duzej masie czasteczkowej, fotopolimeru o wymaganych wlasnosciach.Okazalo isie jednakze, ze mozna uzyskac foto- polimer o duzej maisie czasteczkowej, który dosko- 5 nale .nadaje sie do sporzadzania warstw foto¬ czulych w procesie jednoetapowym.Polimer taki otrzymuje sie sposobem wedlug wynalazku przez polikondenisacjej w rozpuszczal¬ niku lub na granicy faz. Polikondensacje w roz- 10 puszezalniku prowadzi sie wobec trójetyloaminy jako katalizatora uzytego w ilosci stechiome- trycznej do bisfenolu. Jako rozpuszczalniki stosuje sie weglowodory chlorowane takie jak np. chlo¬ rek metylenu, chloroform itp. 15 Jeden reagent stanowi fisfenol fotcczuly o wzo¬ rze 1 przedstawionym na rysunku, w którym Ri oznacza ugrupowanie o wzorze —(CH=CH)2—CO lub ugrupowanie o wzorze 2, a X i Y oznaczaja atomy wodoru i/lub grupy alkilowe, i/ilub grupy 20 O—alkilowe, i/lub atomy chlorowca. Drugim rea¬ gentem jest chloromrówczan znanych bisfenoli takich jak np. lvl-ibis(p-hydroksyfenylo)-22-dwu- chloroetylen, dien itp i/iub fosgen, stosowany w formie roztworu. 25 w polikondensacji na granicy faz katalizatorem, jest chlorek trójetylobenzyloamoniowy. Faze wod¬ na stanowi alkaliczny roztwór bisfenolu fotoczu- lego. Faza organiczna zawiera roztwór chloro- mrówczanu znanych bisfenoli i/lub fosgenu. 30 Otrzymany sposobem wedlug wynalazku poli- 109 797109 797 weglan wykazuje dufza czulosc na promieniowanie elektromagnetyczne z zakresu bliskiego ultrafio¬ letu. Graniczna liczba lepkosciowa wyznaczana przez ekstrapolacje zaleznosci lepkosci zredukowa¬ nej w funkcji stezenia do stezenia równego zero w chlorku metylenu wynosi okolo 1,0.Warstwy fotoczule uzyskuje sie przez rozpu¬ szczenie otrzymanego polimeru w mieszaninie rozpuszczalników takich jak np. chlorek metylenu, chloroform, sym-czterochloroetan, dioksan dtp.Stezenie polimeru wynosi 0,1-20% wagowych w zaleznosci do pozadanej grubosci warstwy. War¬ stwy fotoczule uzyskuje sie przez zanurzenie, po¬ lewanie lub metoda wirowania.Folie wykonane z poliweglanu sposobem wedlug wynalazku posiadaja wytrzymalosc na rozciaganie do zerwania 390 kG/cm2 przy wydluzeniu wzgled¬ nym 30%., Po naswietleniu foilie takie traca swoja rozpuszczalnosc w rozpuszczalnikach, z których zostaly* wylane. Na uwage zasluguje fakt' blisko 30% wzrostu wytrzymalosci na zerwanie tych folii przy spadku wydluzenia wzglednego do okolo i%.Przedmiot wynalazku jest blizej objasniony w przykladacih wykonania.Przyklad I. W kolbie rozpuszcza sie 13,3 g bis/p-hydroksybenzylideno/aicetonu (0,05 mola) i 5,05 g trójetyloaminy w 150 ml chloroformu.Nastepnie w temperaturze wrzenia ro-ztworu, cia¬ gle ^mieszajac, wkrapla sie roztwór zawierajacy 20,3 g chloromrówczanu chlorobisfenolu II — CBF II w 100 ml chloroformu. Zawartosc kolby miesza sie jeszcze 2 godziny. Po uplywie tego czasu roztwór wkrapla sie do 600 ml acetonu ce¬ lem wytracenia polimeru. Wytracony polimer po odsaczeniu suszy sie w temperaturze pokojowej przez 5 godzin, a nastepnie w suszarce prózniowej w ciagu 3 godzin w temperaturze 50°C.Przyklad II. W kolbie rozpuszcza sie w 10 20 30 150 ml wody 17,7 g bisi(3-etokiSy-4-(hydroksybenzy- lideno) acetonu (0,05 mola), 4,3 g wodorotlenku sodowego i 0,9 g chlorku trójetyiobenzyloamino- wego. Nastepnie do kolby wlewa sie roztwór 17,65 g chloromrówczanu dianu w 100 iml chlorku metylenu. Zawartosc kolby intensywnie miesza sie w ciagu 1,5 godziny. Po uplywie tego samego' cza¬ su mieszanine reakcyjna zakwasza sie do pH 1 i umieszcza w rozdzielaczu. Po rozdzieleniu faz, faze organiczna wkrapla sie do 6O0 ml acetonu celem wytracenia polimeru. Polimer po przesacze¬ niu suszy sie na powietrzu w ciagu 4 godzin, a nastepnie w suszarce prózniowej w temperaturze 50°C przez 3 godziny.Przyklad III. Postepuje, sie podobnie jak w przykladzie I z tym, ze wkratpla sie roztwór steohdometrycznej ilosci fosgenu w chlorku mety¬ lenu, zachowujac pelne bezpieczenstwo pracy.Przyklad IV. Postepuje sie podobnie jak w przykladzie II z tym, ze jako faze organiczna do¬ daje sie roztwór stechiometrycanej ilosci fosgenu w chlorku metylenu, zachowujac pelne bezpie¬ czenstwo pracy.Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania poliiweglanów zdolnych do fotosieciowania, polegajacy na reakcji polikonden- sacji blsfenoli z chloromrówczanami znanych bis- fenoli i/lub fosgenem, znamienny tym, ze na chlo- romrówczany znanych biisfenoli niefotoczulych i/lub fosgen dziala sie bisfenolami fotoczulymi o ogólnym wzorze 1 przedstawionym na rysunku, w którym Ri oznacza ugrupowanie —(CH=CH)2 —GO lub grupe o wzorze 2, a Xi Y oznaczaja atomy wodoru i/lub grupy alkilowe i/lub grupy O-alkilowe i/lub atomy chlorowca lub mieszanine zwiazków o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku, ze znanymi bisfenolami. wzo'r 1 VC°N /« l Wzór 2 PZGraf. Koszalin D-lll 120 egz. A-4 Cena 45 zl PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania poliiweglanów zdolnych do fotosieciowania, polegajacy na reakcji polikonden- sacji blsfenoli z chloromrówczanami znanych bis- fenoli i/lub fosgenem, znamienny tym, ze na chlo- romrówczany znanych biisfenoli niefotoczulych i/lub fosgen dziala sie bisfenolami fotoczulymi o ogólnym wzorze 1 przedstawionym na rysunku, w którym Ri oznacza ugrupowanie —(CH=CH)2 —GO lub grupe o wzorze 2, a Xi Y oznaczaja atomy wodoru i/lub grupy alkilowe i/lub grupy O-alkilowe i/lub atomy chlorowca lub mieszanine zwiazków o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku, ze znanymi bisfenolami. wzo'r 1 VC°N /« l Wzór 2 PZGraf. Koszalin D-lll 120 egz. A-4 Cena 45 zl PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL19666177A PL109797B1 (en) | 1977-03-15 | 1977-03-15 | Method of producing polycarbonates able to photocross linking |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL19666177A PL109797B1 (en) | 1977-03-15 | 1977-03-15 | Method of producing polycarbonates able to photocross linking |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL196661A1 PL196661A1 (pl) | 1978-11-20 |
| PL109797B1 true PL109797B1 (en) | 1980-06-30 |
Family
ID=19981421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL19666177A PL109797B1 (en) | 1977-03-15 | 1977-03-15 | Method of producing polycarbonates able to photocross linking |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL109797B1 (pl) |
-
1977
- 1977-03-15 PL PL19666177A patent/PL109797B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL196661A1 (pl) | 1978-11-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2028903C3 (de) | Lichtempfindliche Masse | |
| US4736055A (en) | Oxime sulfonates containing reactive groups | |
| KR910000219B1 (ko) | 감광성 물품 및 그의 제조방법 | |
| CA2049772A1 (en) | Olefinically unsaturated onium salts | |
| JPS60207139A (ja) | 画像形成方法 | |
| KR100231955B1 (ko) | 2,6-디니트로벤질기를 기재로한 광활성 중합체를 포함하는 포토레지스트 조성물 | |
| CA1330896C (en) | Photopolymers | |
| CA1330498C (en) | Photostencils for screenprinting | |
| KR100190809B1 (ko) | 비중합성화합물,이를함유하는조성물그리고포지티브및네가티브상의형성방법 | |
| US4301231A (en) | Negative resist for high energy radiation | |
| PL109797B1 (en) | Method of producing polycarbonates able to photocross linking | |
| US4517276A (en) | Metal-containing organic photoresists | |
| CA1271768A (en) | Process and polymers for the production of images | |
| US3799915A (en) | Photopolymers | |
| US3644118A (en) | Polydiacrylyl photosensitive compositions | |
| US3591377A (en) | Photographic elements and processes employing photosensitive polymers | |
| US3457073A (en) | Photochemical cross-linking of polymers | |
| US3345171A (en) | Photochemical insolubilization of polymers | |
| US5356740A (en) | Radiation-sensitive compositions | |
| KR950000702B1 (ko) | N-t-부톡시카르보닐말레이미드와 스티렌유도체의 공중합체 제조방법 및 N-t-부톡시카르보닐말레이미드와 스티렌유도체의 공중합체를 이용한 내열성 포지티브 레지스트 화상 형성 방법 | |
| US3792025A (en) | Novel compounds and process | |
| EP0265375B1 (de) | Photoresist-Zusammensetzungen | |
| US3962241A (en) | Light-sensitive polymeric compounds | |
| US2696435A (en) | Lithographic material and process | |
| JPH0820731B2 (ja) | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RECP | Rectifications of patent specification |