PL108901B1 - High covering ability bath for nickel plating with lustre and glossy coating - Google Patents
High covering ability bath for nickel plating with lustre and glossy coating Download PDFInfo
- Publication number
- PL108901B1 PL108901B1 PL20427078A PL20427078A PL108901B1 PL 108901 B1 PL108901 B1 PL 108901B1 PL 20427078 A PL20427078 A PL 20427078A PL 20427078 A PL20427078 A PL 20427078A PL 108901 B1 PL108901 B1 PL 108901B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- bath
- nickel plating
- glossy coating
- lustre
- amount
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 5
- VQLYBLABXAHUDN-UHFFFAOYSA-N bis(4-fluorophenyl)-methyl-(1,2,4-triazol-1-ylmethyl)silane;methyl n-(1h-benzimidazol-2-yl)carbamate Chemical compound C1=CC=C2NC(NC(=O)OC)=NC2=C1.C=1C=C(F)C=CC=1[Si](C=1C=CC(F)=CC=1)(C)CN1C=NC=N1 VQLYBLABXAHUDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FNMPWSYBWQWZSF-UHFFFAOYSA-N 4-carbamoylbenzenesulfonic acid Chemical compound NC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 FNMPWSYBWQWZSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 4
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- ZPBSAMLXSQCSOX-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3,6-trisulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 ZPBSAMLXSQCSOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 3
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 acetylene alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBVOEXFRVMVPLQ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3,6-trisulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].OS(=O)(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 OBVOEXFRVMVPLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N naphthalene;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest kapiel do niklo¬ wania z polyskiem o wysokiej zdolnosci krycia w glab powloka blyszczaca.Znane kapiele do niklowania typu Wattsa oparte na siarczanie niklowym, chlorku niklowym oraz kwasie borowym, pracuja przy niskich gestosciach pradu w zakresie 0,2—0,8 A/dm2, daja powloki ma¬ towe i dla uzyskania polysku wymagaja polerowa¬ nia.W celu uzyskania bezposrednio z kapieli powlok niklowych blyszczacych, do kapieli dodaje sie sub¬ stancje blaskotwórcze, w których musza sie znaj¬ dowac przynajmniej dwa rodzaje substancji okre¬ slane jako nosniki polysku i wyblyszczacze.Do nosników polysku zalicza sie zwiazki orga¬ niczne posiadajace w czasteczce grupe = C—S02; a wiec sulfokwasy lub ich sole, sulfonoamidy i sulfoimidy.Jako wyblyszczacze stosuje sie na przyklad alkohole acetylenowe, zwiazki z azotem w pier¬ scieniu jak pirydyna, chinolina, kumaryna.Jakosc powlok otrzymywana z tych kapieli cha¬ rakteryzuje sie mala zdolnoscia krycia w glab po¬ wloka blyszczaca, trudnoscia pokrywania detali c profilowanych powierzchniach a ponadto znaczna toksycznoscia kapieli z uwagi na obecnosc forma¬ liny.Celem wynalazku jest opracowanie kapieli, któ¬ ra mialaby duza zdolnosc krycia w glab powloka blyszczaca oraz wysoka zdolnosc wygladzajaca w zakresie niskich gestosci pradu, a ponadto byla mniej toksyczna.Istota wynalazku polega na tym, ze do kapieli wprowadza sie jako substancje blaskotwórcze, sól 5 sodowa kwasu naftaleno 1, 3, 6 trójsulfonowego w ilosci 0,1—10 g/l, imid kwasu sulfobenzoesowego w ilosci 04—10 g/l, kwas mrówkowy w ilosci 0,2—0,8 g/l oraz formylobutindiol lub produkty je¬ go hydrolizy w ilosci 0,1—10 g/l. io Zaleta kapieli wedlug wynalazku jest to, ze ma wyzsza zdolnosc krycia w glab powloka blyszcza¬ ca oraz wyzsza zdolnosc wygladzajaca w zakresie niskich gestosci pradu, co umozliwia lepsze po¬ krywanie detali o profilowanych powierzchniach. 15 Ponadto kapiel moze pracowac w szerszym za¬ kresie temperatur 20—55°C i jest mniej toksyczna poniewaz nie zawiera formaliny.Przyklad. Sporzadza sie kapiel o skladzie: siarczan niklowy NiS04 • 7H20 w ilosci 300 g/1, 20 chlorek niklowy w ilosci 80 g/l, kwas borowy H3BO3 w ilosci 40 g/l, siarczan magnezu MgS04 • • 7H20 w ilosci 60 g/l, sól sodowa kwasu nafta¬ leno 1, 3, 6 trójsulfonowego w ilosci 2 g/l, imid kwasu sulfobenzoesowego w ilosci 9 g/l. Kwas 25 mrówkowy w ilosci 0,7 g/l oraz formylobutindiol lub produkty jego hydrolizy w ilosci 0,3 g/l. Kapiel pracuje przy pH w granicach 3,5—5,0, temperaturze 35-^55°C i przy gestosci pradu 0,2—12 A/dm2. Ni¬ klowano detale o profilowanych ksztaltach. Stwier- 30 dzono podwyzszona zdolnosc krycia w glab powlo- 108 901108 901 3 4 ka blyszczaca oraz wyzsza zdolnosc wygladzania pe C — SOL i wyblyszczacze, zwlaszcza pochodne w zakresie niskich gestosci pradu. butindiolu, znamienna tym, ze do kapieli wpro¬ wadza sie jako substancje blaskotwórcze sól so- Zastrzezenie patentowe do^a kwasu naftaleno 1, 3, 6 trójsulfonowego w Kapiel do niklowania z polyskiem o wysokiej - ilosci 0,1—'10 g/1, imid kwasu sulfobenzoesowego w zdolnosci krycia w glab powloka blyszczaca, po- ilosci 0,1—10 g/l, kwas mrówkowy w ilosci 0,2—0,8 siadajaca nosniki polysku do których zalicza sie g/1 oraz formylobutindiol lub produkty jego hy- zwiazki organiczne posiadajace w czasteczce gru- drolizy w ilosci 0,1—10 g/l.D.S. Zam. 1341 nakl. 95 egz.Cena 45 zl PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe do^a kwasu naftaleno 1, 3, 6 trójsulfonowego w Kapiel do niklowania z polyskiem o wysokiej - ilosci 0,1—'10 g/1, imid kwasu sulfobenzoesowego w zdolnosci krycia w glab powloka blyszczaca, po- ilosci 0,1—10 g/l, kwas mrówkowy w ilosci 0,2—0,8 siadajaca nosniki polysku do których zalicza sie g/1 oraz formylobutindiol lub produkty jego hy- zwiazki organiczne posiadajace w czasteczce gru- drolizy w ilosci 0,1—10 g/l. D.S. Zam. 1341 nakl. 95 egz. Cena 45 zl PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20427078A PL108901B1 (en) | 1978-01-25 | 1978-01-25 | High covering ability bath for nickel plating with lustre and glossy coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20427078A PL108901B1 (en) | 1978-01-25 | 1978-01-25 | High covering ability bath for nickel plating with lustre and glossy coating |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL204270A1 PL204270A1 (pl) | 1978-07-17 |
| PL108901B1 true PL108901B1 (en) | 1980-05-31 |
Family
ID=19987259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL20427078A PL108901B1 (en) | 1978-01-25 | 1978-01-25 | High covering ability bath for nickel plating with lustre and glossy coating |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL108901B1 (pl) |
-
1978
- 1978-01-25 PL PL20427078A patent/PL108901B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL204270A1 (pl) | 1978-07-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2910413A (en) | Brighteners for electroplating baths | |
| JPS581082A (ja) | 亜鉛合金メッキ浴及び方法 | |
| PL108901B1 (en) | High covering ability bath for nickel plating with lustre and glossy coating | |
| US3206383A (en) | Electrolyte for use in the galvanic deposition of bright leveling nickel coatings | |
| JPS6314886A (ja) | 酸性銅めつき浴 | |
| US3170854A (en) | Bright nickel plating bath containing a pyridinium or quinolinium phosphate brightener and method of electroplating therewith | |
| PL94267B1 (pl) | ||
| US3506548A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US3312604A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US3186926A (en) | Electroplating solution containing a diester of selenious acid | |
| US3152975A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| KR840006022A (ko) | 팔라듐 전해 도금조 및 그의 제조 및 사용방법 | |
| JPS6112038B2 (pl) | ||
| JPS639026B2 (pl) | ||
| US3261840A (en) | Bright nickel plating baths | |
| Yokoi et al. | Interactions of Cl exp-- and Brightener-Components in Copper Plating From an Acid Sulfate Bath | |
| US3537959A (en) | Electroplating baths and process for producing bright zinc deposits | |
| US3190820A (en) | Electrodeposition of bright nickel | |
| US3170853A (en) | Bright nickel plating baths containing a vinyl pyridinium compound brightener | |
| US3399123A (en) | Electrolytes and method for electroplating nickel | |
| US3337556A (en) | Allyl quinaldinium pyridinium phosphates | |
| PL65574B1 (pl) | ||
| JPH04268088A (ja) | ニッケル化製品の製法及び水性酸性電気ニッケル化浴のための光沢剤混合物 | |
| PL53154B1 (pl) | ||
| SU808562A1 (ru) | Электролит блест щего цинковани |