PL65574B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL65574B1 PL65574B1 PL138044A PL13804470A PL65574B1 PL 65574 B1 PL65574 B1 PL 65574B1 PL 138044 A PL138044 A PL 138044A PL 13804470 A PL13804470 A PL 13804470A PL 65574 B1 PL65574 B1 PL 65574B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- acid
- bath
- formylbutindiol
- salt
- brighteners
- Prior art date
Links
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 3
- FNMPWSYBWQWZSF-UHFFFAOYSA-N 4-carbamoylbenzenesulfonic acid Chemical compound NC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 FNMPWSYBWQWZSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 acetylene alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHYXRQQVFHGQBI-UHFFFAOYSA-N ethene;sulfurochloridic acid Chemical compound C=C.OS(Cl)(=O)=O NHYXRQQVFHGQBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGNVQLDIPUXYDH-ZPKKHLQPSA-N (2R,3R,4S)-3-(2-methylpropanoylamino)-4-(4-phenyltriazol-1-yl)-2-[(1R,2R)-1,2,3-trihydroxypropyl]-3,4-dihydro-2H-pyran-6-carboxylic acid Chemical compound CC(C)C(=O)N[C@H]1[C@H]([C@H](O)[C@H](O)CO)OC(C(O)=O)=C[C@@H]1N1N=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1 OGNVQLDIPUXYDH-ZPKKHLQPSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
Pierwszenstwo: Opublikowano: 30.VI.1972 65574 KI. 48 a, 5/46 MKP C 23 b 5/46 UKD, Wspóltwórcy wynalazku: Zbigniew Kwiatkowski, Konrad Szmidt, Ta¬ deusz Zak Wlasciciel patentu: Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa (Polska) Kapiel do niklowania z polyskiem o wysokim dzialaniu wygladza¬ jacym i duzej wglebnosci Przedmiotem wynalazku jest kapiel do niklowa¬ nia z polyskiem o wysokim dzialaniu wygladza¬ jacym i duzej wglebnosci.Wiadomo, ze dzieki wprowadzeniu srodków bla¬ skotwórczych do kapieli konwencjonalnej, np. typu Wattsa, mozna osiagnac polysk niklowy oraz sto¬ sowac wieksze gestosci pradu, przy czym gladkosc blyszczacych powlok jest w wiekszosci przypad¬ ków wyzsza od gladkosci podloza.Substancje blaskotwórcze wprowadzane do ka¬ pieli tworza kompleksy skladajace sie najczesciej z zestawu dwóch zwiazków chemicznych przewaz¬ nie organicznych, przy czym substancje pierwszego rodzaju stanowia sulfokwasy, sulfoimidy lub sul- foamidy, a substancje drugiego rodzaju stanowia alkohole acetylenowe, zwiazki z azotem w pierscie¬ niu, np. chinolina, pirydyna lub kumaryna.W opisach patentowych powtarzaja sie te same lub podobne zwiazki w róznych konfiguracjach.Tak np. imid kwasu o-sulfobenzoesowego wchodzi w sklad kapieli objetych amerykanskimi opisami patentowymi nr 2 576 922 i nr 2 782 153, brytyj¬ skim opisem patentowym nr 701 717, polskimi opi¬ sami patentowymi nr 48 728 i nr 53 154, natomiast formylobutindiol wchodzi w sklad kapieli obje¬ tych polskimi opisami patentowymi nr 48 728 i nr 53154. Praktyka wykazala, ze niewielkie zmiany w zestawie zwiazków blaskotwórczych powoduja istotne zmiany w pracy kapieli oraz w jakosci wytwarzanych powlok.Dotychczas znane zestawy dodatków blaskotwór¬ czych nie pozwalaja jednak na uzyskanie powlok, o duzej plastycznosci i o niewielkich naprezeniach wlasnych. Stanowi to powazna niedogodnosc, szcze¬ gólnie w wyrobach przemyslu motoryzacyjnego, gdyz w przypadku niewielkiego zagiecia elementu, np. kratownicy wlotu powietrza, powloka odprys- kuje co jest bardzo uciazliwe i kosztowne.Celem wynalazku jest opracowanie takiego ze¬ stawu srodków blaskotwórczych, aby powloka osa¬ dzona w kapieli byla pozbawiona tych niedogod¬ nosci, a wiec nie odpryskiwala przy zaginaniu, to znaczy miala wysoka plastycznosc i niewielkie na¬ prezenia wlasne.Cel udalo sie osiagnac, gdyz okazalo sie, ze gdy do kompleksu skladajacego sie z imidu kwasu sul fobenzoesowego i formylobutindiolu dolaczy sie równoczesnie kwas a-chloroetylenosulfonowy lub: jego sole oraz etylenosulfochlorek, to powloka osa- 20 dzana elektrolitycznie w takiej kapieli wykazujs wysoka plastycznosc i posiada niewielkie naprez zenia wlasne. Poza tym okazalo sie, ze kapiel za¬ wierajaca te dwa zestawy moze pracowac w za¬ kresie gestosci pradu katodowego 0,05—14 A/dm«, 25 dzieki czemu uzyskujemy duzo szersze zakresy po¬ lysku.Przeprowadzone badania wykazaly, ze zagiecia wytworzone np. na zderzakach daja sie wyrównac w latwy sposób bez odpryskiwania i uszkodzenia 30 samej powloki jak i jej ciaglosci. 10 15 65 5743 Kapiel wedlug wynalazku jako dodatki blasko- twórcze zawiera imid kwasu sulfobenzoesowego lub jego sole w ilosci 0,1—10 g/l, formylobutindiol lub produkty jego hydrolizy w ilosci 0,1—10 g/l, kwas a-chloroetylenosulf onowy lub jego sole w ilosci 0,1—10 g/l oraz etylenosulfochlorek w ilosci 0,05—2 g/l.Przyklad: Kapiel sklada sie z 350 g/l siar¬ czanu niklawego NiSo4 • 7H20, 30 g/l chlorku ni- klawego NiCl2 • 6HzO, 35 g/l kwasu borowego H3B03, 1 g/1 imidu kwasu sulfobenzoesowego lub jego soli, 2 g/l formylobutindiolu, 3 g/l kwasu 574 4 a-chloroetylenosulf ono wego i 0,05 g/l etylenosulfo- chlorku. PL PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe 5 Kapiel do niklowania z polyskiem o wysokim dzialaniu wygladzajacym i duzej wglebnosci, za¬ wierajaca dodatek substancji blaskotwórczych, znamienna tym, ze jako substancje blaskotwórcze 0 zawiera 0,1—10 g/l imidu kwasu sulfobenzoesowego lub jego soli, 0,1—10 g/l formylobutindiolu lub produktów jego hydrolizy, 0,1—10 g/l kwasu a-chlo- roetylenosulfonowego lub jego soli oraz 0,05—2 g/1 etylenosulfochlorku. Bltk zam. 1345/72 r. A4 210 egz. Cena zl 10,— PL PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL65574B1 true PL65574B1 (pl) | 1972-02-29 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2849351A (en) | Electroplating process | |
| US2910413A (en) | Brighteners for electroplating baths | |
| US2830014A (en) | Electroplating process | |
| US3542655A (en) | Electrodeposition of copper | |
| US2563360A (en) | Electrodeposition of copper | |
| US3729393A (en) | Electrodeposition of copper | |
| US2489538A (en) | Electrodeposition of copper | |
| US3276979A (en) | Baths and processes for the production of metal electroplates | |
| US4179343A (en) | Electroplating bath and process for producing bright, high-leveling nickel iron electrodeposits | |
| US3878067A (en) | Electrolyte and method for electrodepositing of bright nickel-iron alloy deposits | |
| US2782155A (en) | Electroplating of nickel | |
| WO2020184289A1 (ja) | マイクロポーラスめっき液およびこのめっき液を用いた被めっき物へのマイクロポーラスめっき方法 | |
| GB1122795A (en) | Improvements in corrosion-resisting decorative chromium electrolytic deposits | |
| PL65574B1 (pl) | ||
| US3795591A (en) | Electrodeposition of bright nickel iron deposits employing a compound containing a sulfide and a sulfonate | |
| US2469727A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US3312604A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| NO147994B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| ES476909A1 (es) | Un procedimiento para la preparacion de un bano acuoso de galvanizado, no cianurado. | |
| GB1236811A (en) | Improvements in or relating to nickel electroplating baths | |
| US2986498A (en) | Process for the production of metal electrodeposits | |
| US2110792A (en) | Process for electrodeposition of silver and products obtained therefrom | |
| US2644788A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US2648628A (en) | Electroplating of nickel | |
| US3804729A (en) | Electrolyte and process for electro-depositing copper |