KR840006022A - 팔라듐 전해 도금조 및 그의 제조 및 사용방법 - Google Patents

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KR840006022A
KR840006022A KR1019830004223A KR830004223A KR840006022A KR 840006022 A KR840006022 A KR 840006022A KR 1019830004223 A KR1019830004223 A KR 1019830004223A KR 830004223 A KR830004223 A KR 830004223A KR 840006022 A KR840006022 A KR 840006022A
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윌콕스 진닌 (외 1)
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카알 디. 케이드
엥겔하드 코오포레이숀
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    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
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Abstract

내용 없음

Description

팔라듐 전해 도금조 및 그의 제조 및 사용방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (12)

  1. Pd(R)2(NO2)2(R은 암모늄 또는 아민)과 수산화암모늄을 반응시켜 얻는 사암민 팔라듐 화합물, 황산염 음이온과 술팜산염음 이온의 혼합물에서 선정된 음이온, 암모늄 양이온 및 임의의 알칼리 금속 양이온으로 구성되어, 양이온의 최소한 25%가 암모늄이며 pH 약 5 내지 7의 산도를 갖는 실질적으로 할로겐화물로부터 유리된 수용액으로 이루어진 것이 특징인 팔라듐 전기 도금조.
  2. 제1항에 있어서, R가 암모늄인 전기 도금조.
  3. 제1항에 있어서, R가 C1-8인 알킬 아민류, C1-8인 알칸올 아민류, C1-8인 치환된 알킬 및 알칸을 아민류 및 폴리아민으로 이루어진 군중에서 선정되는 전기 도금조.
  4. 제1항에 있어서, 양이온의 최소한 80%가 암모늄인 전기 도금조.
  5. 제1항에 있어서, 사임민 팔라듐 화합물이 약 1 내지 30g/l Pd를 공급하기에 충분한 양으로 존재하고 양이온과 음이온의 총량이 약 10 내지 200g/l 이며, pH가 약 5.5 내지 7.0인 전기 도금조.
  6. 제1항에 있어서, 황산 음이온 대 술팜산 음이온의 중량비가 4:1 이하인 2:3인 전기 도금조.
  7. 제1항에 있어서, 황산염 음이온 대 술팜산염 음이온의 중량비가 약 4:1 내지 2:3인 전기 도금조.
  8. 제1항에 있어서, 정의된 범위내로 도금조의 pH를 조절하기 위하여 황산, 술팜산 및 수산화암모늄 중 하나 또는 그 이상을 필요한 양만큼 포함하는 전기 도금조.
  9. Pd(R)2(NO2)2(R은 암모늄 또는 아민)과 수산화암모늄을 반응시켜 얻은 사임민 팔라듐 화합물이 최소한 도금조 내의 피도금 물질에 팔라듐을 전기 도금시키기에 충분한 양으로 존재하고, 황산염 음이온과 술판산염 음이온의 혼합물에서 선정된 음이온, 암모늄 양이온 및 임의의 알칼리 금속 양이온이 혼합되어 양이온의 최소한 25%가 암모늄으로 구성된 pH가 약 5 내지 7인 실질적으로 할로겐 화물로부터 유리된 수용성 도금조내에 전기 전도성 표면을 갖는 피도금 물질을 침지시키는 공정, 상기 도금조에 침지된 피도금 물질과 양극사이에 전지 전위를 적용하여 5 내지 약 500amp/ft2(53.8amp/m2내지 5382amp/m2)의 전류밀도를 생성시켜서 상기 피도금물질에 팔라듐을 전기 석출시키는 공정 및 상기 도급조로부터 전기 석출된 피도금 물질에 팔라듐을 석출시키는 전기 도금방법.
  10. 제9항에 있어서, 도금조가 특허 청구의 범위 제2-3항 중 어느 하나에 기재한 도금조인 팔라듐 전기도금 방법.
  11. 제9항에 있어서, 전류밀도를 약 5내지 80amp/ft2(53.8amp/m2내지 860amp/m2)의 범위로 요지하는 팔라듐 전기 도금방법.
  12. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019830004223A 1982-09-09 1983-09-08 팔라듐 전해 도금조 및 그의 제조 및 사용방법 KR840006022A (ko)

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