PL106500B1 - Sposob wykonywania polaczenia wprowadzenia masowego z korpusem podstawki obudowy elementow elektronicznych - Google Patents

Sposob wykonywania polaczenia wprowadzenia masowego z korpusem podstawki obudowy elementow elektronicznych Download PDF

Info

Publication number
PL106500B1
PL106500B1 PL18889376A PL18889376A PL106500B1 PL 106500 B1 PL106500 B1 PL 106500B1 PL 18889376 A PL18889376 A PL 18889376A PL 18889376 A PL18889376 A PL 18889376A PL 106500 B1 PL106500 B1 PL 106500B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
mass
lead
connection
solder
making
Prior art date
Application number
PL18889376A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL18889376A priority Critical patent/PL106500B1/pl
Publication of PL106500B1 publication Critical patent/PL106500B1/pl

Links

Landscapes

  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wykonywania pola¬ czenia wprowadzenia masowego z korpusem podstawki obudowy elementów elektronicznych, zwlaszcza podstawek -do obudów przyrzadów pólprzewodnikowych.
W róznych elementach elektronicznych takich jak obu¬ dowy ukladów hybrydowych, scalonych, a zwlaszcza w pod¬ stawkach tranzystorów malej i sredniej mocy, jedno z wpro¬ wadzen stanowi zwykle wprowadzenie masowe, to znaczy takie, które jest trwale zlaczone z metalowym korpusem podstawki.
Korpus podstawki stanowi zazwyczaj wytloczka metalowa uksztaltowana w formie miseczki z wykonanymi otworami lub tez plytka metalowa o odpowiednich ksztaltach i wy¬ miarach z otworami przeznaczonymi na wtopienie w nie, za pomoca szkla, wprowadzen metalowych.
Wprowadzenia, które sa odizolowane od korpusu za pomoca szkla przyjeto nazywac wprowadzeniami przeloto¬ wymi, natomiast wyprowadzenia zlaczone z korpusem — wyprowadzeniami masowymi.
Proces wykonania podstawki, w ogólnym ujeciu, polega na ^wykonaniu korpusu metalowego, tabletki szklanej, wy¬ prowadzenia przelotowego i wyprowadzenia masowego; zgrzaniu wyprowadzenia masowego z korpusem $ utlenia¬ niu wszystkich czesci metalowych; zmontowaniu w kasecie grafitowej wyprowadzenia przelotowego, korpusu ze zgrza- jiym wyprowadzeniem masowym z umieszczona w korpusie tabletke szklana, przez która przechodzi wyprowadzenie przelotowe; i stopieniu w piecu tabletki szklanej uzyskujac po ostudzeniu trwale polaczenie szkla z czesciami metalo- 2 wymi, to znaczy z korpusem i wyprowadzeniem przeloto¬ wym.
Zgrzewanie wyprowadzenia masowego z korpusem jest operacja bardzo pracochlonna. Po zgrzewaniu bardzo trudno jest zautomatyzowac operaqe montazu poszczegól¬ nych czesci w kasety grafitowe. Wedlug dotychczasowych znanych sposobów laczenia metali metoda lutowania nie mozna bylo przylutowac wyprowadzenia masowego do korpusu w czasie stapiania tabletki szklanej, poniewaz cala powierzchnia korpusu posiada cienka warstwe tlenku ko¬ niecznego do wytwarzania dobrego polaczenia szkla z me¬ talem.
Zadaniem wynalazku jest opracowanie sposobu trwalego laczenia wyprowadzenia masowego z korpusem, który pozwoli na unikniecie podanych niedogodnosci.
Zadanie to zgodnie z tym wynalazkiem zostalo rozwia¬ zane w ten sposób, ze na przynajmniej jeden z konców wy¬ prowadzenia masowego nanosi sie lutowie zawierajace nie mniej niz 86% wagowych niklu i nie wiecej niz 14% wagowych fosforu,po czym utleniony korpus ze spoczywaja¬ cym na nim wyprowadzeniem z naniesionym lutowiem umieszcza sie w piecu o temperaturze nie nizszej niz 900 °C» W trakcie wykonywania polaczenia wyprowadzenia ma¬ sowego z korpusem, w otworze korpusu znajduje sie wy¬ prowadzenie przelotowe z tabletka szklana, która podczas ogrzewania ulega stopieniu. Po ostudzeniu zestawu otrzy¬ muje sie trwale polaczenie wyprowadzenia masowego z korpusem oraz szkla z czesciami metalowymi, to znaczy z korpusem i wyprowadzeniem. 106 500106 500 3 Nanoszenie lutowia odbywa sie chemicznie przez zanu¬ rzenie wyprowadzenia w wodnym roztworze o skladzie —50 g/l siarczanu niklawego, 12—40 g/l podfosforynu sodowego, 8—15 g/l mrówczanu sodowego, 1—4 g/l kwasu borowego. Oczywistym jest3 ze opisany sposób mozna stosowac do laczenia metalowych czesci, gdzie zachodzi koniecznosc utrzymania warstwy tlenku na jednej z laczo¬ nych czesci oraz do czesci nie utlenionych.
Glówna zaleta tego rozwiazania jest to, ze umozliwia ono wprowadzenie automatyzacji montazu wszystkich czesci skladowych podstawki przed dokonaniem operacji stapia¬ nia tabletki szklanej w piecu. Eliminuje sie takze praco¬ chlonna operacje zgrzewania elektrod masowych z korpu¬ sami podstawek. Poza tym wykonane polaczenie posiada mala rezystancje przejscia co jest niewatpliwie bardzo duza zaleta.
Przyklady w powiazaniu z rysunkiem, na którym fig. 1 przedstawia czesci skladowe podstawki obudowy tranzys¬ torowej w przekroju osiowym w stanie rozlozonym przed stapianiem, a fig. 2 czesci skladowe innego rodzaju pod¬ stawki obudowy tranzystorowej w przekroju osiowym, dokladniej podaja sposób postepowania przy wykonywaniu lutowanego polaczenia. Fig.. 3 przedstawia w przekroju osiowym podstawke wykonana z czesci skladowych z fig. 1, a fig. 4 przedstawia w przekroju osiowym podstawke wy¬ konana z czesci skladowych z fig. 2.
Podstawka wedlug fig. 1 i fig. 3 sklada sie z korpusu metalowego 1 w postaci miseczki z jednym otworem, po¬ jedynczej szklanej tabletki 2, przelotowego wyprowadzenia metalowego 3 i masowego wyprowadzenia metalowego 4.
Poszczególne czesci skladowe podstawki umieszcza sie w odpowiednim rozstawieniu miedzy soba na grafitowej kasecie 5, a'czesc 6 sluzy do utrzymywania w odpowiedniej pozycji masowego wyprowadzenia 4.
Podstawka wedlug fig. 2 i fig. 4 sklada sie z korpusu metalowego V w postaci krazka z dwoma otworami prze¬ znaczonymi na dwie tabletki 2', metalowych wyprowadzen przelotowych 3' i metalowego wyprowadzenia masowego 4'.
Poszczególne czesci skladowe podstawki umieszcza sie w kasecie grafitowej 5'' i utrzymuje w odpowiednim usta¬ wieniu za pomoca czesci 6'.
P r z ylk l a d I. Speczone wyprowadzenie masowe 4, przeznaczone do wykonania podstawki tranzystorowej, od strony speczonej pokryto metoda chemiczna stopem nikiel- -fosfor w kapieli o skladzie: siarczan niklawy 40 g/l, pod- fosforyn sodowy 25 g/l, mrówczan sodowy 8 g/l, kwas borowy 3 g/l. Nakladanie stopu prowadzono przez 45 minut 4 w tej kapieli o temperaturze 80 °C. Nastepnie poszczególne czesci skladowe podstawki umieszczono w kasecie grafito¬ wej 5, a wyprowadzenie masowe 4 swym speczonym kon¬ cem z naniesionym na nie lutowiem spoczywalo na utle- nionej wewnetrznej powierzchni korpusu metalowego 1_ Tak zmontowany zestaw umieszczono w piecu o tempera¬ turze 1020 °C na okres 20 minut. Po ostudzeniu zestawu otrzymano dobre polaczenie wyprowadzenia masowego z korpusem. Rezystancja przejscia lutowanego polaczenia byla mniejsza niz 0,01 ohma przy pradzie 1A.
Przyklad II. Wyprowadzenie masowe 4' przeznaczone do wykonania innego rodzaju podstawki obudowy trnazys- torowej, od strony speczonej pokryto metoda chemiczna stopem nikiel-fosfor w wodnym roztworze o skladzie: siarczan niklawy 35 g/l, podfosforyn sodowy 20 g/l, mrów¬ czan sodowy 8 g/l, kwas borowy 4 g/l. Nakladanie lutu pro¬ wadzono w tym roztworze przez 60 minut. Temperatura roztworu wynosila 90°C. Nastepnie poszczególne czesci skladowe podstawki umieszczono w kasecie grafitowej 5'y a wyprowadzenie masowe 4' swym speczonym koncem spoczywalo na korpusie metalowym 1'. Tak zmontowany zestaw umieszczono w piecu o temperaturze 950 °C na okres 30 minut. Po ostudzeniu zestawu otrzymano trwale polaczenie szkla z czesciami metalowymi oraz wyprowa- dzenia masowego z korpusem.

Claims (2)

Zastrzezenia patentowe
1. Sposób wykonywania polaczenia wyprowadzenia ma- 30 sowego z korpusem podstawki obudowy elementów elektro¬ nicznych, znamienny tym, ze na wyprowadzenie masowe przeznaczone do polaczenia z korpusem nanosi sie przy¬ najmniej z jednego jego konca lutowie zawierajace nie mniej niz 86% wagowych niklu i nie wiecej niz 14% wagowych 35 fosforu, nastepnie poszczególne czesci skladowe, to znaczy korpus, tabletke szklana oraz co najmniej jedno wyprowadze¬ nie przelotowe i co najmniej jedno wyprowadzenie masowe spoczywajace swym koncem z naniesionym lutowiem na korpusie, umieszczasie w odpowiednim zestawieniu w piecu 49 o temperaturze nie nizszej niz 900 °C, po czym studzi sie do temperatury otoczenia.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze luto¬ wie na wyprowadzenie masowe nanosi sie chemicznie z roztworu wodnego o skladzie 20—50 g/l siarczanu nikla- 45 wego, 12—40 g/l podfosforynu sodowego, 8—15 g/l mrów¬ czanu sodowego, 1—4 g/l kwasu borowego, a reszte sta¬ nowi woda. i i.106 500 fig.1 fig. 3106 500 fig.2 fig. in.4 LZG Z-d 3 w Pab., zam, 1441-79, nakl. 110+20 egz. Cena 45 zl
PL18889376A 1976-04-16 1976-04-16 Sposob wykonywania polaczenia wprowadzenia masowego z korpusem podstawki obudowy elementow elektronicznych PL106500B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL18889376A PL106500B1 (pl) 1976-04-16 1976-04-16 Sposob wykonywania polaczenia wprowadzenia masowego z korpusem podstawki obudowy elementow elektronicznych

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL18889376A PL106500B1 (pl) 1976-04-16 1976-04-16 Sposob wykonywania polaczenia wprowadzenia masowego z korpusem podstawki obudowy elementow elektronicznych

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL106500B1 true PL106500B1 (pl) 1979-12-31

Family

ID=19976488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL18889376A PL106500B1 (pl) 1976-04-16 1976-04-16 Sposob wykonywania polaczenia wprowadzenia masowego z korpusem podstawki obudowy elementow elektronicznych

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL106500B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
GB1492506A (en) Immersion plating of tin-lead alloys
TW583349B (en) Method for enhancing the solderability of a surface
JPH1075052A (ja) はんだ付け方法
PL106500B1 (pl) Sposob wykonywania polaczenia wprowadzenia masowego z korpusem podstawki obudowy elementow elektronicznych
CN114206542A (zh) SnZn焊料及其制造方法
US20170042040A1 (en) Composition and method for electroless plating of palladium phosphorus on copper, and a coated component therefrom
JPS5464049A (en) Bonding of metals or alloys
DE50111820D1 (de) Bleifreie chemisch-nickel-legierung
US20080138528A1 (en) Method for Depositing Palladium Layers and Palladium Bath Therefor
JPS5985855A (ja) 金めつき浴
US1236383A (en) Process of coating tungsten or molybdenum with noble metals.
JPS57140891A (en) Pretreating solution for silver plating
JPS59500475A (ja) キレ−ト化金属
JPH0122330B2 (pl)
US6045604A (en) Autocatalytic chemical deposition of zinc tin alloy
EP0638656A4 (en) ALLOY TO BE COATED, PLATING METHOD AND PLATING SOLUTION.
JPS5594793A (en) Cream solder
US4654237A (en) Process for chemical and thermal treatment of steel workpieces
JPH024978A (ja) 無電解インジウムめっき浴
PL120542B1 (en) Method of soldering an earthing terminal to a moulding of semiconductor device basegotovke podstavki poluprovodnikovogo pribora
US3567598A (en) Rendering the surface of molybdenum and tungsten compositions soft-solderable
JP2003268561A (ja) 無電解めっき液、及びセラミック電子部品の製造方法、並びにセラミック電子部品
JPS5926985A (ja) ガラスまたはセラミツクスと銅とのろう付け結合方法
Gawrilov et al. Electroless Tin Plating on Copper and Copper Alloys
JP2000285991A (ja) 気密端子