PL103703B1 - Urzadzenie do pokrywania cienkimi warstwami duzych powierzchni,zwlaszcza plyt szklanych - Google Patents
Urzadzenie do pokrywania cienkimi warstwami duzych powierzchni,zwlaszcza plyt szklanych Download PDFInfo
- Publication number
- PL103703B1 PL103703B1 PL18986776A PL18986776A PL103703B1 PL 103703 B1 PL103703 B1 PL 103703B1 PL 18986776 A PL18986776 A PL 18986776A PL 18986776 A PL18986776 A PL 18986776A PL 103703 B1 PL103703 B1 PL 103703B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- chambers
- frames
- glass plates
- thin layers
- vacuum
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 4
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do pokrywania cienkimi warstwami duzych powierzchni,
zwlaszcza plyt szklanych, przeznaczonych do produkcji miedy innymi luster aluminiowych i luster barwnych
oraz szkiel z warstwami pólprzepuszczalnymi o zwiekszonym wspólczynniku odtrcia promieniowania cieplnego,
majacych zastosowanie w nowoczesnym budownictwie.
Znane z polskiego opisu patentowego nr 78913 urzadzenie do pokrywania plyt szklanych cienkimi
warstwami metali oraz ich zwiazkami, ma w swoim wnetrzu trzy usytuowane kolejno obok siebie zespoly:
podajacy, napedowy i odbierajacy, osadzone w ramie konstrukcyjnej. Górna czesc ramy konstrukcyjnej tworzy
poziomy tor, przy czym poczatkowy odcinek toru jest ukosnie sciety i spelnia role równi pochylej, co zapewnia
niezawodne wejscie plyt na tor. Zespól podajacy zawiera zasobnik, w którym znajduje sie podnosnik z ramkami
na plyty, przeznaczone do pokrycia, przy czym grubosc ramek jest wieksza od grubosci plyt. Podnosnik jest
polaczony z lancuchami, zaopatrzonymi w kolki, zahaczajace o wystepy ramek. Zespól odbierajacy ma
pojemnik oraz podnosnik, polaczony lancuchami z zespolem napedowym. Zespól napedowy zawiera wal
napedowy polaczony poprzez kolo lancuchowe, mimosród, dzwignie i kolo zapadkowe z lancuchami.
Lancuchy sluza do przesuwania plyt, torem ramy konstrukcyjnej pod katode. W opisanym urzadzeniu
pokrywanie plyt szklanych cienkimi warstwami metali odbywa sie okresowo na drodze rozpylania katodowego
przy cisnieniu rzedu 10"3 Tr.
W celu zastosowania opisanego urzadzenia do pokrywania duzych plyt szklanych cienkimi warstwami
metoda naparowywania w wysokiej prózni, konieczne byloby stosowanie dodatkowych pomp dyfuzyjnych o
bardzo duzej wydajnosci oraz wbudowanie zródel par i ich rozgrzewanie i studzenie w kazdym cyklu
pompowania.
Znana z polskiego opisu patentowego nr 96377 komora prózniowa, do pokrywania plyt szklanych cienkimi
warstwami metali, jest podzielona na trzy czesci, oddzielone miedzy soba pokrywami. Pokrywy sa wyposazone w
zebatki, które wspólpracuja z kolami zebatymi, osadzonymi za posrednictwem sprzegiel na walkach2 103 703
napedowych. Na walkach tych sa równiez osadzone mimosrody, dociskajace pokrywy z klinami. Ponadto na
walkach sa osadzone jeszcze inne kola zebate z zebatkami, zamocowanymi do plyt przenosnikowych,
laczonych ze soba hakami.
Opisana komora prózniowa sluzy do ciaglego pokrywania plyt szklanych cienkimi warstwami metali na
drodze rozpylania katodowego. Metoda ta wymaga uzycia szkla hartowanego, ze wzgledu na gradienty
temperatury powstajace w trakcie procesu nakladania warstw.
Znane z czasopisma Silikattechnik nr 21 z 1970 r. str. 40-44 urzadzenie do ciaglego pokrywania plyt
szklanych na drodze naparowywania, sklada sie z komór segmentowych oddzielonych miedzy soba zaworami i
wyposazonych w uklady pompowe, umozliwiajac przy pracy ciaglej uzyskiwanie w odpowiednich segmentach
koniecznej prózni roboczej. Wada opisanego urzadzenia jest to, ze w celu uzyskania prózni 10"4-10"5 Tr, musi
sie ono skladac z wielu duzych gabarytowo komór i pomp oraz skomplikowanej automatyki.
Celem wynalazku jest skonstruowanie urzadzenia, pozwalajacego powlekac w jednym cyklu pompowania,
szereg duzych plyt szklanych, przy zmniejszonej do minimum objetosci urzadzenia, co umozliwia uzyskanie
duzej wydajnosci naparowywanych plyt, przy stosunkowo niewielkich wydajnosciach stosowanych pomp
dyfuzyjnych. Cel ten zostal osiagniety przez zastosowanie trzech prostopadlosciennych komór, oddzielonych
zasuwami a wyposazonych kazda w niezalezny wysokoprózniowy uklad pompowy. W komorach skrajnych, w ich
dolnych czesciach sa usytuowane ruchome platformy jezdne, spoczywajace na stole teleskopu polaczonego z
mechanizmem podnoszaco-napedowym. Do korpusu komór sa zamocowane listwy oporowe, o które sa oparte
rolki ramek, mocujacych pokrywany przedmiot i tworzacych w stosie uklad plaskorównoleglych przestrzeni,
wyposazonych dodatkowo w zaczepy, zahaczajace o srube pociagowa, oraz w elektrody wysokiego napiecia.
Rolki ramek wspólpracuja z krzywkami, przymocowanymi do poziomego toru jezdnego, usytuowanego w górnej
czesci komór. Konstrukcja nosna wzmacniajaca sciany komór tworzy kanal), wchodzace w sklad ukladu
chlodzenia. Zródla par, znajdujace sie w komorze srodkowej, sa umieszczone na wysuwalnej podstawie,
tworzacej próznioszczelne zamkniecie wlazu.
Zaleta urzadzenia, wedlug wynalazku, jest to, ze pozwala na pokrycie cienkimi warstwami wielu plyt w
jednym cyklu pompowania bez zapowietrzenia komory srodkowej i wygaszanie zródla par. Prostopadloscienny
ksztalt komór i uklad trójkomorowy zapewniaja maksymalne wykorzystanie przestrzeni prózniowej, a co za tym
idzie zwiekszenie lacznej powierzchni, a takze rozmiarów naparowywanych plyt w porównaniu z komorami
cylindrycznymi. Ponadto urzadzenie umozliwia dzieki zastosowaniu spoletyzowanego wsadu, wtaczanego na
platformie jezdnej, zwiekszenie wydajnosci przez skrócenie czasu zaladunku i rozladunku.
Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykladzie wykonania na rysunku, który przedstawia schemat
urzadzenia, w przekroju pionowym.
Urzadzenie sklada sie z trzech prostopadlosciennych komór: wstepnej 1, srodkowej 2 i koncowej 3,
oddzielonych zasuwami próznioszczelnymi 4. Kazda 7 komór 1, 2 i 3 jest wyposazona w niezalezny uklad
pompowy. Zanikniecie zasuw 4 umozliwia utrzymanie koniecznej prózni w komorze 2 podczas otwierania drzwi
komór 1 i 3, w czasie zaladowania i wyladowania plyt w ramach 6. W komorach 1 i 3, w ich dolnej czesci sa
usytuowane platformy jezdne 7, spoczywajace na stole 8 teleskopu 9. Ramy 6, ulozone w stos, spoczywaja na
platformach 7 i sa przesuwane ku górze za pomoca mechanizmu srubowego 10, sprzegnietego z napedem
podnoszenia 11.
Do korpusu komór 1 i 3 sa zamocowane listwy oporowe 12, o które jest oparta jedna para rolek 13 ram 6,
wyposazonych dodatkowo w zaczepy 14 oraz elektrody wysokiego napiecia, sluzace do czyszczenia jonowego.
Stos ram 6 z plytami tworzy system plaskorównoleglych przestrzeni. Ramy 6, podchodzace do góry natrafiaja
rolkami 13 na krzywki kierujace 15, które wprowadzaja je na poziomy tor jezdny 16. Ramy 6 przesuwaja sie po
torze 16, zahaczajac zaczepem 14 o srube przesuwu poziomego 17, wprawiana w ruch obrotowy przez naped 18.
W komorze 2 znajduja sie zródla par 19, umieszczone na wysuwalnej podstawie 20, tworzacej
próznioszczelne zamkniecie wlazu. Wysuwalna podstawa 20 ulatwia zaladunek i wymiane zuzytych elementów
oraz szybkie przystosowanie urzadzenia do zmiany asortymentu produkcji. Konstrukcja wzmacniajaca sciany
komór 1, 2 i 3 tworzy kanaly, wchodzace w sklad ukladu chlodzenia. Ruchy pionowe platform jezdnych 7 ze
stosami ram 6 sa regulowane przez system wylaczników krancowych, wlaczanych i zwalnianych przez
przesuwajace sie ramy 6.
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Urzadzenie do pokrywania cienkimi warstwami duzych powierzchni, zwlaszcza plyt szklanych, skladajace sie z trzech prostopadlosciennych komór, polaczonych zasuwami i wyposazonych w zródla par oraz w ramy, sluzace do mocowania plyt, znamienne tym, ze kazda z komór (1, 2 i 3) jest wyposazona w niezalezny103 703 3 wysokoprózniowy uklad pompowy, przy czym w komorach (1 i 3), w ich dolnych czesciach sa usytuowane ruchome platformy jezdne (7), spoczywajace na stole (8) teleskopu (9), polaczonego z mechanizmem podnoszaco-napedowym, zas do korpusu komór (1 i 3) sa zamocowane listwy oporowe (12), o które sa oparte rolki (13) ram (6), mocujacych pokrywany przedmiot i tworzacych w stosie uklad plaskorównoleglych przestrzeni, a wyposazonych dodatkowo w zaczepy (14), zahaczajace o srube pociagowa (17), oraz w elektrody wysokiego napiecia, przy czym rolki (13) wspólpracuja z krzywkami (15), przymocowanymi do poziomego toru jezdnego (16), usytuowanego w górnej czesci komór (1,2 i 3), których konstrukcja wzmacniajaca sciany tworzy kanaly, wchodzace w sklad ukladu chlodzenia, zas zródla par (19), usytuowane w komorze (2), sa umieszczone na wysuwalnej podstawie (20), tworzacej próznioszczelne zamkniecie wlazu.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL18986776A PL103703B1 (pl) | 1976-05-25 | 1976-05-25 | Urzadzenie do pokrywania cienkimi warstwami duzych powierzchni,zwlaszcza plyt szklanych |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL18986776A PL103703B1 (pl) | 1976-05-25 | 1976-05-25 | Urzadzenie do pokrywania cienkimi warstwami duzych powierzchni,zwlaszcza plyt szklanych |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL103703B1 true PL103703B1 (pl) | 1979-07-31 |
Family
ID=19977033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL18986776A PL103703B1 (pl) | 1976-05-25 | 1976-05-25 | Urzadzenie do pokrywania cienkimi warstwami duzych powierzchni,zwlaszcza plyt szklanych |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL103703B1 (pl) |
-
1976
- 1976-05-25 PL PL18986776A patent/PL103703B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4261808A (en) | Vacuum coating apparatus with continuous or intermittent transport means | |
| ES365730A1 (es) | Instalacion para la paletizacion de objetos planos rectan- gulares. | |
| US11131019B2 (en) | Apparatus for coating substrates | |
| RU2039919C1 (ru) | Вакуумная сушильная установка | |
| US2965369A (en) | Transfer mechanism for heat treating apparatus | |
| US3077271A (en) | Process and apparatus for charging and discharging multi-level presses | |
| PL103703B1 (pl) | Urzadzenie do pokrywania cienkimi warstwami duzych powierzchni,zwlaszcza plyt szklanych | |
| US3659831A (en) | Integral quench furnace and transfer mechanism | |
| US3243059A (en) | Slab heating furances and extractors | |
| KR20210066190A (ko) | 메인 롤러를 구비한 대면적 성형 장치 | |
| KR101452189B1 (ko) | 프레스 장치 시스템 | |
| KR20100071658A (ko) | 박막 증착 장치 | |
| KR101461535B1 (ko) | 압연용 가열로에서 가열능력과 열효율을 향상시키기 위한 장치 및 그 방법 | |
| CN107826725B (zh) | 一种层架式高效储坯机 | |
| CN211471498U (zh) | 一种铝材用时效炉 | |
| CA1236293A (en) | Workpiece charger for heating furnace | |
| CN221988667U (zh) | 一种真空镀膜设备 | |
| JP2818558B2 (ja) | 成形品処理装置における開閉扉装置 | |
| PL115921B1 (en) | Vacum apparatus for coating the articles with thin films of metals,semiconductors and dielectrics | |
| SU567063A1 (ru) | Контейнер дл загрузки электродов в обжиговую печь | |
| CN221059405U (zh) | 面包烘烤隧道炉 | |
| GB1010613A (en) | Improvements in the handling of goods during processing or treatment | |
| JPS5897437A (ja) | プレスの金型交換装置 | |
| JPH05203364A (ja) | 連続処理装置 | |
| US2534325A (en) | Multiple platen press |