PL101986B1 - Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports - Google Patents
Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports Download PDFInfo
- Publication number
- PL101986B1 PL101986B1 PL19397476A PL19397476A PL101986B1 PL 101986 B1 PL101986 B1 PL 101986B1 PL 19397476 A PL19397476 A PL 19397476A PL 19397476 A PL19397476 A PL 19397476A PL 101986 B1 PL101986 B1 PL 101986B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- copper
- electrolytic
- printed circuit
- copperizing
- holes
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 18
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 18
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 4
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 claims description 3
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 2
- 241000054822 Lycaena cupreus Species 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób miedziowania elektiolitycznego otworów skrosnych w plytkach z po¬
laczeniami drukowanymi.
Podczas wytwarzania plytek montazowych zasadnicza operacja decydujaca o niezawodnosci obwodów
drukowanych jest metalizacja miedzia otworów skrosnych laczacych sciezki przewodzace na poszczególnych
plaszczyznach z polaczeniami drukowanymi. Plytki tworza material warstwowy, skladaja sie z dielektryka
i miedzi, materialów o róznych wspólczynnikach rozszerzalnosci w temperaturze lutowania 260°C. W tej tempe¬
raturze wspólczynnik rozszerzalnosci dielektryka jest trzy razy wiekszy od wspólczynnika rozszerzalnosci mie¬
dzi. Pod wplywem temperatury w warstwie miedzi w otworze skrosnym, na jego krawedziach powstaja napreze¬
nia scinajace, których dzialanie niszczace poteguje nierównomiernosc grubosci powloki w otworze. Powoduje to
pekniecie warstwy miedzi, co przyczynia sie do powstawania przerw w polaczeniu elektrycznym. Dlatego po¬
wloki miedziane nakladane elektrolitycznie powinny byc plastyczne, o wydluzeniu wiekszym od 6% i o równo¬
miernej grubosci warstwy w otworze, przy zdolnosci krycia zblizonej do stosunku 1:1 grubosci w otworze do
grubosci warstwy na powierzchni plyty.
Znana kapiel siarczanowa o duzym stezeniu jonów miedzianych byla pierwsza kapiela, jaka zostala wyko¬
rzystana do elektrolitycznego miedziowania plytek drukowanych. Jednak jej glówna wade stanowi mala zdol¬
nosc krycia otworów ponizej srednicy 1,3 mm i mala plastycznosc powloki.
Rozwój elektroniki, miniaturyzacja sprzetu elektronicznego spowodowala zapotrzebowanie na plytki
z otworami nawet o srednicy 0,8 mm.
Zwiekszone wymagania spelnia plastyczna warstwa miedzi z kapieli pirofosforanowej o duzej zdolnosci
krycia. Proces jej nakladania jest jednak uciazliwy ze wzgledu na wysoka temperature kapieli wynoszaca 55°C
i sklada sie z drogich surowców.
Zastosowanie kapieli siarczanowej o malym stezeniu jonów miedziowych, o duzym stezeniu kwasu siarko¬
wego pozwala na ponowne uzycie tej kapieli do miedziowania plytek drukowanych o zwiekszonych wymaga¬
niach.2 101 986
Celem wynalazku jest opracowanie sposobu, który pozwoli na uzyskanie w otworze plastycznej warstwy
miedzi o równomiernej grubosci.
Sry^h-wd *"g wynalazku polega na tym, ze na plytki laminatu z otworami pokrytymi warstwa przewo-
i ;s d£aca.4ianosi sie miedz z elektrolitu sporzadzonego przez kolejne dodawanie siarczanu miedziowego uwodnione-
\ go w ilosci od 55 g/i do 100 g/l, kwasu siarkowego stezonego od 130 g/l do 220 g/l, chlorku sodowegc lub kwasu
] solnego w przeliczeniu na Cl od 0,01 g/l do 0,06 g/l i produktów inwersji mieszaniny dekstryny w przeliczeniu na
j sucha mase proszków od 0,001 g/l do 0,4 g/l. Nakladanie miedzi dokonuje sie z gestoscia pradu od 0,5 A/dcm2
^""3
Rozwiazanie wedlug wynalazku daje powloki miedziane o duzej wglebnosci i wydluzalnosci od 14-20%.
Pozwala na metalizowanie otworów o srednicy 0,3 mm przy grubosci laminatu 1,5 mm. Skladniki kapieli galwa¬
nicznej sa latwo dostepne i ekonomiczne. Sposób wedlug wynalazku daje gwarancje powloki o równomiernej
grubosci na krawedziach otworów.
Przyklad. Partie plytek z laminatu grubosci 1,6 mm z otworami srednicy 0,9 mm pokrywa sie miedzia
w elektrolicie sporzadzonym przez kolejne dodawanie skladników i mieszanie siarczanu miedziowego uwodnione¬
go 75 g/l, kwasu siarkowego stezonego 190 g/l, chlorku sodowego jako Cl 0,022 g/l, produktów inwersji mieszani¬
ny dekstryny w przeliczeniu na sucha substancje 0,05 g/l. Miedz naklada sie z gestoscia pradu 2,3 A/dm2
i uzyskuje powloke miedzi grubosci- na powierzchni 17 /zm a w otworach 16 jum.
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób miedziowania elektrolitycznego otworów skrosnych w plytkach z polaczeniami drukowanymi z metalizowanymi otworami, znamienny tym, ze na plytki z dielektryka pokrytego warstwami przewo¬ dzacymi nanosi sie miedz z elektrolitu sporzadzonego przez kolejne dodawanie siarczanu miedziowego uwodnio¬ nego w ilosci od 55 g/l do 100 g/l, kwasu siarkowego stezonego od 130 g/l do 220 g/l, chlorku sodowego lub kwasu solnego w przeliczeniu na Cl od 0,01 g/l do 0,06 g/l i produktów inwersji mieszaniny dekstryny w przeli¬ czeniu na sucha mase produktów od 0,001 g/l do 0,4 g/l oraz miedz naklada sie gestoscia pradu od 0,5 A/dm2 do 4,5 A/dm2 z umiarkowanym mieszaniem elektrolitu powietrzem. Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL19397476A PL101986B1 (pl) | 1976-11-26 | 1976-11-26 | Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL19397476A PL101986B1 (pl) | 1976-11-26 | 1976-11-26 | Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL101986B1 true PL101986B1 (pl) | 1979-02-28 |
Family
ID=19979548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL19397476A PL101986B1 (pl) | 1976-11-26 | 1976-11-26 | Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL101986B1 (pl) |
-
1976
- 1976-11-26 PL PL19397476A patent/PL101986B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100653336B1 (ko) | 우수한 내약품성 및 내열성을 가지는 인쇄배선기판용 동박및 그 제조방법 | |
| DE69312049T2 (de) | Kupferkaschiertes Laminat und Leiterplatte | |
| US4808967A (en) | Circuit board material | |
| US5547558A (en) | Process for electroplating nonconductive surface | |
| US4717439A (en) | Process for the treatment of copper oxide in the preparation of printed circuit boards | |
| EP0200398A2 (en) | Process for preparing a non-conductive substrate for electroplating | |
| JPH0224037B2 (pl) | ||
| US5448021A (en) | Copper plating process and wiring board | |
| EP0180981A1 (en) | A process for the surface treatment of copper products | |
| KR100458259B1 (ko) | 비시안화물황동도금욕및비시안화물황동도금욕을이용한황동층을갖는금속박의제조방법 | |
| EP0538006A1 (en) | Direct metallization process | |
| KR900001840B1 (ko) | 기판의 도전회로 형성방법 | |
| US5207889A (en) | Method of producing treated copper foil, products thereof and electrolyte useful in such method | |
| US20210204412A1 (en) | Carbon-Based Direct Plating Process | |
| JP3891565B2 (ja) | 抵抗層付銅箔、並びにその抵抗層付銅箔の製造方法、並びにその抵抗層付銅箔を用いた銅張積層板又は抵抗回路付プリント配線板、及びその抵抗層付銅箔を用いた抵抗回路付プリント配線板の製造方法 | |
| US4895771A (en) | Electrical contact surface coating | |
| JP3261569B2 (ja) | 電気メッキ用非伝導性基材の製造方法 | |
| PL101986B1 (pl) | Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports | |
| US3812020A (en) | Electrolyte and method for electroplating an indium-copper alloy and printed circuits so plated | |
| JP4291353B2 (ja) | 非導電性基板表面、特にポリイミド表面に直接金属層を形成する方法 | |
| EP1799884A4 (en) | METHOD FOR PRODUCING A NON-LEADING SUBSTRATE FOR GALVANIZATION | |
| KR101070470B1 (ko) | 무전해 니켈-금도금을 이용한 연성인쇄회로기판 표면처리방법 | |
| GB2274853A (en) | Process for electroplating nonconductive surface e.g through holes in print wiring board | |
| JP4136496B2 (ja) | 電解銅箔の製造方法 | |
| JPS632158B2 (pl) |