PL101986B1 - Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports - Google Patents

Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports Download PDF

Info

Publication number
PL101986B1
PL101986B1 PL19397476A PL19397476A PL101986B1 PL 101986 B1 PL101986 B1 PL 101986B1 PL 19397476 A PL19397476 A PL 19397476A PL 19397476 A PL19397476 A PL 19397476A PL 101986 B1 PL101986 B1 PL 101986B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
copper
electrolytic
printed circuit
copperizing
holes
Prior art date
Application number
PL19397476A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL19397476A priority Critical patent/PL101986B1/pl
Publication of PL101986B1 publication Critical patent/PL101986B1/pl

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób miedziowania elektiolitycznego otworów skrosnych w plytkach z po¬ laczeniami drukowanymi.
Podczas wytwarzania plytek montazowych zasadnicza operacja decydujaca o niezawodnosci obwodów drukowanych jest metalizacja miedzia otworów skrosnych laczacych sciezki przewodzace na poszczególnych plaszczyznach z polaczeniami drukowanymi. Plytki tworza material warstwowy, skladaja sie z dielektryka i miedzi, materialów o róznych wspólczynnikach rozszerzalnosci w temperaturze lutowania 260°C. W tej tempe¬ raturze wspólczynnik rozszerzalnosci dielektryka jest trzy razy wiekszy od wspólczynnika rozszerzalnosci mie¬ dzi. Pod wplywem temperatury w warstwie miedzi w otworze skrosnym, na jego krawedziach powstaja napreze¬ nia scinajace, których dzialanie niszczace poteguje nierównomiernosc grubosci powloki w otworze. Powoduje to pekniecie warstwy miedzi, co przyczynia sie do powstawania przerw w polaczeniu elektrycznym. Dlatego po¬ wloki miedziane nakladane elektrolitycznie powinny byc plastyczne, o wydluzeniu wiekszym od 6% i o równo¬ miernej grubosci warstwy w otworze, przy zdolnosci krycia zblizonej do stosunku 1:1 grubosci w otworze do grubosci warstwy na powierzchni plyty.
Znana kapiel siarczanowa o duzym stezeniu jonów miedzianych byla pierwsza kapiela, jaka zostala wyko¬ rzystana do elektrolitycznego miedziowania plytek drukowanych. Jednak jej glówna wade stanowi mala zdol¬ nosc krycia otworów ponizej srednicy 1,3 mm i mala plastycznosc powloki.
Rozwój elektroniki, miniaturyzacja sprzetu elektronicznego spowodowala zapotrzebowanie na plytki z otworami nawet o srednicy 0,8 mm.
Zwiekszone wymagania spelnia plastyczna warstwa miedzi z kapieli pirofosforanowej o duzej zdolnosci krycia. Proces jej nakladania jest jednak uciazliwy ze wzgledu na wysoka temperature kapieli wynoszaca 55°C i sklada sie z drogich surowców.
Zastosowanie kapieli siarczanowej o malym stezeniu jonów miedziowych, o duzym stezeniu kwasu siarko¬ wego pozwala na ponowne uzycie tej kapieli do miedziowania plytek drukowanych o zwiekszonych wymaga¬ niach.2 101 986 Celem wynalazku jest opracowanie sposobu, który pozwoli na uzyskanie w otworze plastycznej warstwy miedzi o równomiernej grubosci.
Sry^h-wd *"g wynalazku polega na tym, ze na plytki laminatu z otworami pokrytymi warstwa przewo- i ;s d£aca.4ianosi sie miedz z elektrolitu sporzadzonego przez kolejne dodawanie siarczanu miedziowego uwodnione- \ go w ilosci od 55 g/i do 100 g/l, kwasu siarkowego stezonego od 130 g/l do 220 g/l, chlorku sodowegc lub kwasu ] solnego w przeliczeniu na Cl od 0,01 g/l do 0,06 g/l i produktów inwersji mieszaniny dekstryny w przeliczeniu na j sucha mase proszków od 0,001 g/l do 0,4 g/l. Nakladanie miedzi dokonuje sie z gestoscia pradu od 0,5 A/dcm2 ^""3 Rozwiazanie wedlug wynalazku daje powloki miedziane o duzej wglebnosci i wydluzalnosci od 14-20%.
Pozwala na metalizowanie otworów o srednicy 0,3 mm przy grubosci laminatu 1,5 mm. Skladniki kapieli galwa¬ nicznej sa latwo dostepne i ekonomiczne. Sposób wedlug wynalazku daje gwarancje powloki o równomiernej grubosci na krawedziach otworów.
Przyklad. Partie plytek z laminatu grubosci 1,6 mm z otworami srednicy 0,9 mm pokrywa sie miedzia w elektrolicie sporzadzonym przez kolejne dodawanie skladników i mieszanie siarczanu miedziowego uwodnione¬ go 75 g/l, kwasu siarkowego stezonego 190 g/l, chlorku sodowego jako Cl 0,022 g/l, produktów inwersji mieszani¬ ny dekstryny w przeliczeniu na sucha substancje 0,05 g/l. Miedz naklada sie z gestoscia pradu 2,3 A/dm2 i uzyskuje powloke miedzi grubosci- na powierzchni 17 /zm a w otworach 16 jum.

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób miedziowania elektrolitycznego otworów skrosnych w plytkach z polaczeniami drukowanymi z metalizowanymi otworami, znamienny tym, ze na plytki z dielektryka pokrytego warstwami przewo¬ dzacymi nanosi sie miedz z elektrolitu sporzadzonego przez kolejne dodawanie siarczanu miedziowego uwodnio¬ nego w ilosci od 55 g/l do 100 g/l, kwasu siarkowego stezonego od 130 g/l do 220 g/l, chlorku sodowego lub kwasu solnego w przeliczeniu na Cl od 0,01 g/l do 0,06 g/l i produktów inwersji mieszaniny dekstryny w przeli¬ czeniu na sucha mase produktów od 0,001 g/l do 0,4 g/l oraz miedz naklada sie gestoscia pradu od 0,5 A/dm2 do 4,5 A/dm2 z umiarkowanym mieszaniem elektrolitu powietrzem. Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl
PL19397476A 1976-11-26 1976-11-26 Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports PL101986B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19397476A PL101986B1 (pl) 1976-11-26 1976-11-26 Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19397476A PL101986B1 (pl) 1976-11-26 1976-11-26 Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL101986B1 true PL101986B1 (pl) 1979-02-28

Family

ID=19979548

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL19397476A PL101986B1 (pl) 1976-11-26 1976-11-26 Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL101986B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100653336B1 (ko) 우수한 내약품성 및 내열성을 가지는 인쇄배선기판용 동박및 그 제조방법
DE69312049T2 (de) Kupferkaschiertes Laminat und Leiterplatte
US4808967A (en) Circuit board material
US5547558A (en) Process for electroplating nonconductive surface
US4717439A (en) Process for the treatment of copper oxide in the preparation of printed circuit boards
EP0200398A2 (en) Process for preparing a non-conductive substrate for electroplating
JPH0224037B2 (pl)
US5448021A (en) Copper plating process and wiring board
EP0180981A1 (en) A process for the surface treatment of copper products
KR100458259B1 (ko) 비시안화물황동도금욕및비시안화물황동도금욕을이용한황동층을갖는금속박의제조방법
EP0538006A1 (en) Direct metallization process
KR900001840B1 (ko) 기판의 도전회로 형성방법
US5207889A (en) Method of producing treated copper foil, products thereof and electrolyte useful in such method
US20210204412A1 (en) Carbon-Based Direct Plating Process
JP3891565B2 (ja) 抵抗層付銅箔、並びにその抵抗層付銅箔の製造方法、並びにその抵抗層付銅箔を用いた銅張積層板又は抵抗回路付プリント配線板、及びその抵抗層付銅箔を用いた抵抗回路付プリント配線板の製造方法
US4895771A (en) Electrical contact surface coating
JP3261569B2 (ja) 電気メッキ用非伝導性基材の製造方法
PL101986B1 (pl) Method of electrolytic copperizing of printed circuit board ports
US3812020A (en) Electrolyte and method for electroplating an indium-copper alloy and printed circuits so plated
JP4291353B2 (ja) 非導電性基板表面、特にポリイミド表面に直接金属層を形成する方法
EP1799884A4 (en) METHOD FOR PRODUCING A NON-LEADING SUBSTRATE FOR GALVANIZATION
KR101070470B1 (ko) 무전해 니켈-금도금을 이용한 연성인쇄회로기판 표면처리방법
GB2274853A (en) Process for electroplating nonconductive surface e.g through holes in print wiring board
JP4136496B2 (ja) 電解銅箔の製造方法
JPS632158B2 (pl)