PL101568B1 - A method of phosphatizing metals - Google Patents

A method of phosphatizing metals Download PDF

Info

Publication number
PL101568B1
PL101568B1 PL1975177337A PL17733775A PL101568B1 PL 101568 B1 PL101568 B1 PL 101568B1 PL 1975177337 A PL1975177337 A PL 1975177337A PL 17733775 A PL17733775 A PL 17733775A PL 101568 B1 PL101568 B1 PL 101568B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
content
bath
total
phosphating
aqueous solution
Prior art date
Application number
PL1975177337A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL101568B1 publication Critical patent/PL101568B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • C23C22/06Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
    • C23C22/07Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing phosphates
    • C23C22/08Orthophosphates
    • C23C22/12Orthophosphates containing zinc cations
    • C23C22/16Orthophosphates containing zinc cations containing also peroxy-compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób fosforanowania metali, w szczególnosci zelaza i stali.
Wiadomo, ze nadtlenki, a zwlaszcza nadtlenek wodoru, moga byc stosowane jako substancje przyspieszaja¬ ce proces utleniania w wodnych, kwasnych kapielach fosforanujacych zestawionych na bazie fosforanów odkla¬ dajacych sie warstwowo na powierzchni obrabianych przedmiotów, zwlaszcza na bazie fosforanu cynku. Tego rodzaju sposoby nie znalazly jednak szerszego zastosowania w praktyce z powodu trudnosci utrzymania skutecz¬ nosci kapieli fosforanujacej w zastosowaniu do wiekszych partii obrabianych detali i uzyskania zadowalajacych pokiyc tych detali.
Kapiele fosforanujace, które zawieraja nadtlenki jako przyspieszacze procesu utleniania, sa zwykle stosowa¬ ne z zachowaniem malej stosunkowej zawartosci wolnego P2 Os do calkowitej zawartosci P2 05. Poniewaz nad¬ tlenek wodoru posiada tylko wlasnosci utleniajace bez równoczesnego oddzialywania zobojetniajacego, sklad kapieli fosforanujacej uzupelnia sie z reguly nie tylko za pomoca dodawania wymaganych ilosci stabilnego, kwasnego koncentratu fosforanu cynku i nadtlenku wodoru lecz stosuje sie równiez dodawanie srodka zoboje¬ tniajacego celu utrzymania odpowiedniego stosunku wolnego P205 do calkowitej zawartosci P205. W przypad¬ ku, gdy srodek zobojetniajacy ma byc dodawany w postaci wodnego roztworu do kapieli fosforanujacej, przyjeto powszechnie stosowac do tego celu wodorotlenek lub weglan sodu. Czynnik zobojetniajacy bywa chetnie stoso¬ wany w postaci wodnego roztworu, poniewaz w tym przypadku mozna w uproszczony i pewniejszy sposób prze¬ prowadzac dodawanie wymaganej ilosci srodka zobojetniajacego. Okazalo sie jednak, ze stosowanie roztworu wodorotlenku lub weglanu sodowego do zobojetniania kapieli fosforanujacej podczas tworzenia sie warstw na powierzchni obrabianych detali powoduje tak duzy wzrost zawartosci sodu w tej kapieli, ze powoli nastepuje bardzo duze zubozenie jej w zawartosc cynku, w zwiazku z czym nie mozna juz uzyskac powstawania zadowala¬ jacych warstw fosforanów na powierzchni obrabianych przedmiotów. Podobne niedogodnosci wystepuja w przypadku stosowania ortofosforanu trójsodowego jako srodka zobojetniajacego.Stwierdzono, ze powyzsze niedogodnosci mozna usunac przez zastosowanie jako srodka zobojetniajacego wodnego roztworu fosforanów metali alkalicznych i/lub fosforanów amonowych w zakresie pH od 6,5 do 10, korzystnie od 7,0 do 8,5.2 101568 Przedmiotem wynalazku jest zatem sposób fosforanowania metali, zwlaszcza zelaza i stali przy zastosowa¬ niu wodnej, kwasnej kapieli fosforanujacej zestawionej na bazie fosforanu cynku z dodatkiem nadtlenku wodoru jako czynnika przyspieszajacego proces utleniania, charakteryzujacy sie tym, ze dla utrzymania stosunku zawar¬ tosci wolnego P205 do calkowitej zawartosci P205 dodaje sie do kapieli fosforanujacej wodny roztwór fosfora- rló^jrpetali alkalicznych i/lub fosforanów amonowych w zakresie pH od 6,5 do 10, korzystnie od 7,0 do 8,5.
I Wedlug wynalazku do zestawienia kapieli fosforanujacej stosuje sie, najkorzystniej roztwory fosforanów, które zawieraja od 0,5 do 10 g/l Zn, od 4 do 20 g/l P205 i od 0,030 do 0,150 g/l H202 oraz w których stosunek wagowy wolnego P2j05 do calkowitej zawartosci P205 miesci sie w zakresie od 0,01 do 0,15. Temperatury piuuesu liiuzTm dTflTTTc w zakresie od 20 do 75°C, korzystnie od 40 do 60°C.
Zawartosc wolnego P205 mozna oznaczac za pomoca miareczkowania próbki kapieli 0,1 n NaOH do zmiany barwy w pierwszym stopniu dysocjacji kwasu ortofosforowego. Jako wskaznik tej zmiany barwy mozna stosowac zólcien dwumetylowa lub oranz metylowy. Calkowita zawartosc P7O5 mozna oznaczac za pomoca znanych metod analizy fosforanów. Obliczenia stosunku wagowego wolnego P205 do calkowitej zawartosci P2 Os mozna dokonac na podstawie danych zawartych w publikacji W.Dettner i J.Elze „Handbuch der Gatoano- technik", tom III, str. 90, wydawnictwo Carl Hauser, Monachium 1969.
W kapieli fosforanujacej moga wystepowac równiez inne aniony, których obecnosc moze byc pozadana, jak NO3, SO4 iCP. W przypadku koniecznosci wspóluczestnictwa tych anionów w procesie fosforanowania stosuje sie najkorzystniej jony SO4. Calkowita zawartosc omawianych anionów nie powinna byc jednak wieksza od 10 g/l kapieli. W razie uznania za celowe aktywowania procesu powstawania warstw fosforanowych na po¬ wierzchni obrabianych metalowych detali kapiel moze zawierac równiez fluorki. Wprowadza sie je celowo do kapieli w postaci zwyklych fluorków lub jako krzemofluorki. Calkowita zawartosc fluorków wprowadzonych do kapieli fosforanujacej wynosi celowo do 4 g/1 w postaci F9 i/lub SiF£.
W niektórych przypadkach korzystna moze sie okazac obecnosc w kapieli fosforanujacej równiez jonów niklu i/lub kobaltu. Zawartosc tych jonów moze wynosic do 5 g/l kapieli.
Dla wprowadzenia do kapieli fosforanujacej nadtlenku wodoru celowe jest stosowanie wodnego roztworu H202 lub wodnego roztworu nadtlenku karbamidu.
Ustalenie dla kapieli fosforanujacej najbardziej optymalnej ilosci wolnego P2 05 w stosunku do calkowitej zawartosci P205 w wymienionym zakresie od 0,01 do 0,15 zalezy od dobranych stezen i warunków prowadzenia procesu fosforanowania.
Powierzchnie metalowych detali poddawanych procesowi fosforanowania moga w dowolny sposób stykac sie z kapiela fosforanujaca, na przyklad za pomoca zanurzania, obmywania lub natryskiwania. Najkorzystniej stosuje sie natryskiwanie.
Podczas przebiegu procesu fosforanowania, w stosowanej do tego celu kapieli nastepuje zuzycie chemika¬ liów, które wymagaja uzupelniania. Zuzycie tych chemikaliów jest spowodowane tworzeniem sie warstw fosfora¬ nowych na powierzchniach obrabianych detali oraz strata pewnych ilosci kapieli unoszonej na zewnatrz na wilgotnych detalach po zakonczeniu procesu fosforanowania. Do uzupelniania skladu kapieli stosuje sie celowo stabilny, wodny roztwór kwasnego koncentratu fosforanów, który zawiera 10 do 20% wagowych Zn i 26 do 52% wagowych P205 oraz w którym stosunek zawartosci wolnego P205 do calkowitej zgwartosci P205 miesci sie w granicach 0,25 do 0,50. Liczba wyrazajaca stosunek wagowy Zn do P205 w dodawanym koncentracie fosfora¬ nów miesci sie korzystnie w zakresie 0,3 do 0,6.
Do kapieli fosforanujacej dodaje sie koncentratu fosforanów az do uzyskania stalej wartosci pH kwaso¬ wosci calkowitej. Oprócz tego do kapieli dodaje sie wymagana ilosc H202 dla utrzymania w tej kapieli zawar¬ tosci nadtlenku wodoru korzystnie w zakresie od 0,030 do 0,150 g/l. Uzupelnienie zawartosci nadtlenku wodoru przeprowadza sie za pomoca dozowania wodnego roztworu H202 lub nadtlenku karbamidu. Wedlug wynalazku utrzymanie w kapieli fosforanujacej wymaganego stosunku zawartosci wolnego P2 05 do calkowitej zawartosci P205 nastepuje za pomoca dodawania do tej kapieli wodnego roztworu fosforanów metali alkalicznych i/lub fosforanów anionu w zakresie pH od 6,5 do 10, korzystnie w zakresie od 7,0 do8,5. ^ Fosforany dodaje sie celowo w okolo 5 do 20% roztworach wodnych. Roztwory te moga byc przygotowy¬ wane bezposrednio z odpowiednich kwasnych fosforanów w postaci cial stalych lub z ich mieszanin, które w wodnych roztworach wykazuja kwasowosc o pH mieszczacym sie w wymienionym zakresie wzglednie moga byc nastawiane na wymagane pH przy zastosowaniu innych fosforanów. Jako czynnik zobojetniajacy mozna tym samym stosowac na przyklad 10% roztwór Na2HP04 lub 10% roztwór mieszaniny Na2HP04 i NaH2P04 w stosunku wagowym 90:10. Korzystne jest dodawanie roztworu zobojetniajacego do kapieli fosforanujacej w sposób ciagly.101568 3 Zastosowanie wedlug wynalazku wodnego roztworu fosforanów metali alkalicznych w zakresie pH od 6,5 do 10 do kapieli fosforanujacej jako srodka zobojetniajacego wykazuje nie tylko te nieoczekiwana korzysc, ze podczas obróbki wielu partii detali nie zachodzi w kapieli spadek zawartosci cynku, lecz równiez dalsza korzysc polegajaca na mozliwosci równoczesnego wprowadzania do kapieli lacznie z czynnikiem zobojetniajacym takiej ilosci H2 02, która jest konieczna do uzupelnienia skladu kapieli.
Taki sposób prowadzenia procesu jest stosowany najchetniej, gdyz w tym przypadku oprócz uzupelniania skladników kapieli za pomoca dodawania wodnego roztworu stabilnego, kwasnego koncentratu fosforanów konieczne staje sie jeszcze dodawanie tylko jednego wodnego roztworu^do utrzymania skutecznosci kapieli fosforanujacej.
W wodnych roztworach fosforanów metali alkalicznych, których pH lezy w zakresie do okolo 8,5, zawar¬ tosc H2 02 jest wystarczajaco stabilna bez potrzeby stosowania odpowiedniego stabilizatora H2 02. Gdyby sie okazalo, ze ze wzgledu na technologie procesu pozadane jest zobojetnianie kapieli fosforanujacej za pomoca roztworu majacego pH od 8,5 do 10 z równoczesnym uzupelnieniem zawartosci H202, zaleca sie równoczesne dodawanie do tego roztworu stabilizatorów H2 Ó2, na przyklad pirofosforanu sodowego.
Do uzupelniania zawartosci H202 w kapieli fosforanujacej stosuje sie korzystnie roztwór substancji przyspieszajacych proces zobojetniania. W roztworze tym zawartosc mieszaniny H202 i fosforanów metali alka¬ licznych i/lub fosforanu amonowego jest tak obliczona, zeby ilosci poszczególnych skladników tego roztworu byly wystarczajace zarówno do utrzymania stezenia H202 w kapieli fosforanujacej na pozadanym poziomie, jak i do równoczesnego zobojetniania w takim stopniu wolnego kwasu powstajacego podczas procesu fosforanowa¬ nia, zeby utrzymac w kapieli wymagany stosunek zawartosci wolnego P205 do calkowitej zawartosci P205 bez zmniejszania sie zawartosci cynku w tej kapieli.
Stosunek ilosciowy srodka zobojetniajacego i nadtlenku wodoru w roztworze przeznaczonym do uzupel¬ niania skladu kapieli fosforanujacej mozna ustalic za pomoca prób przeprowadzanych na próbnych partiach fosforanowanych detali. Stwierdzono, ze do tego celu dobrze nadaje sie mieszanina zawierajaca Na2HP04 i NaH2P04 (stosunek wagowy 90:10) oraz H202 (100%) w stosunku wagowym do fosforanów wynoszacym (0,5 do2,5):l.
Sposób wedlug wynalazku wyjasniaja b'izej przyklady.
Przyklad I. Do fosforanowania scali za pomoca natryskiwania zastosowano kapiel fosforanujaca o temperaturze 55°C i nastepujacym skladzie: 2,4 g/l Zn 7,8 g/lP205 0,012 g/l Ni 0,085 g/lH202 Kapiel zostala nastawiona w taki sposób, ze stosunek zawartosci w niej wolnego P205 do calkowitej zwartosci P205 wynosil 0,1.
Po przeprowadzeniu procesu fosforanowania 22 zwykle obrabianych detali (0,9 m2 obrabianej calkowitej powierzchni /l litr kapieli), uzupelniono sklad kapieli do przywrócenia stalej wartosci kwasowosci calkowitej —16 za pomoca wodnego roztworu koncentratu o nastepujacym skladzie: Zn 10,6 %wag.
P205 32,0 %wag.
Ni 0,044% wag.
Stosunek zawartosci wolnego P205 do calkowitej zawartosci P2 05 wynosil 0,28. Oprócz powyzszego do kapieli dodano 13,8% roztworu H202 w celu uzupelnienia jej skladu w zakresie stalej zawartosci H202. Stosunek zawartosci wolnego P205 do calkowitej zawartosci P205 przywrócono za pomoca dodania 10% roztworu Na2HP04. Zuzycie uzupelniajacych chemikaliów wynosilo: 14,2 g/m2 koncentratu 2,6 g/m2 Na2HP04 2,0 g/m2 H202 (100%) Po przeprowadzeniu obróbki partii stalowych detali o calkowitej powierzchni poddawanej procesowi fosforano¬ wania, wynoszacej 0,9 m2 na 1 litr kapieli, nie stwierdzono szkodliwego zmniejszenia sie zawartosci cynku w tej kapieli. Uzyskane powloki fosforanów na powierzchni wszystkich obrobionych detali okazaly sie jednakowo cienkie, drobnokrystaliczne i zadowalajace.
Przyklad II. Postapiono podobnie, jak w przykladzie I z ta róznica, ze w celu zobojetnienia kapieli i uzupelnienia w niej zawartosci przyspieszacza zastosowano wodny roztwór zawierajacy mieszanine 17% wago¬ wych Na2HP04 i 13% H202. Pozostalosc stanowila woda. Uzyskane wyniki procesu fosforanowania byly tak samo dobre jak te, które otrzymano w przykladzie I. Nie stwierdzono zmniejszenia sie zawartosci cynku w kapie¬ li.4 101 568 Przyklad III. Do fosforanowania stali zastosowano za pomoca natryskiwania kapiel fosforanujaca o temperaturze 55°C, majaca nastepujacy sklad: 2,4 g/lZn 7,9 g/lP2Os 2,2 g/lN03 0,012 g/l Ni 0,085 g/lH202 oraz w której stosunek zawartosci wolnego P205 do calkowitej zawartosci P205 wynosil 0,1. Po przeprowadze¬ niu procesu fosforanowania 20 zwykle obrabianych detali (0,8 m2 obrabianej calkowitej powierzchni/1 litr kapieli), uzupelniono sklad kapieli do przywrócenia jej stalej wartosci kwasowosci calkowitej 15-16 za pomoca wodnego roztworu koncentratu o nastepujacym skladzie: Zn 13,3 %wag.
P205 . 26,2 %wag.
N03 10,2 %wag.
Ni 0,044% wag.
Stosunek zawartosci wolnego P205 zawartosci calkowitej P205 wynosil 0,34. Oprócz powyzszego do kapieli dodano 5% roztworu H202 w celu uzupelnienia jej skladu w zakresie stalej zawartosci H202. W celu przywróce¬ nia stosunku ilosci P205 do calkowitej zawartosci P2Os uzyto roztworu zawierajacego 6,7% Na2HP04 i 0,7% NaH2P04. Mierzone za pomoca szklanej elektrody pH roztworu, nastawionego na wodzie wodociagowej, wynosi¬ lo 7,3. Zuzycie chemikaliów do uzupelnienia skladu kapieli wynosilo: 13,5 g/m2 koncentratu 2,9g/m2Na2HP04 0,3g/m2NaH2PO4 l,7g/m2H2O2(100%) Podczas procesu fosforanowania powierzchni stalowych detali nie wystapil spadek zawartosci cynku w kapieli.
Otrzymane powloki fosforanowe byly podczas calego przebiegu procesu jednakowo cienkie, drobnokrystaliczne i zadowalajace.

Claims (5)

Zastrzezenia patentowe
1. Sposób fosforanowania metali, w szczególnosci zelaza i stali przy zastosowaniu wodnego, kwasnego roz¬ tworu fosforanów, sporzadzonego na podstawie fosforanu c> nku z dodatkiem nadtlenku wodoru jako przyspie¬ szacza procesu utleniania, znamienny tym, ze w celu utrzymania stalego stosunku zawartosci wolnego P205 do calkowitej zawartosci P205 do kapieli fosforanujacej dodaje sie wodnego roztworu fosforanu metali alkalicznych i/lub fosforanu amonowego w zakresie pH 6,5-10, korzystnie 7,5-8,5.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie kapiel fosforanujaca o temperaturze 20-75°C, korzystnie 40-60°C, która zawiera 0,5-10 g/l cynku, 4-20 g/l P2Os i 0,030-0,150 g/l H202, a sto¬ sunek zawartosci wolnego P2 05 do calkowitej zawartosci P2 05 miesci sie w zakresie 0,01 -0,15.
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w celu utrzymania skutecznosci dzialania kapieli fosforanujacej sklad jej uzupelnia sie do w zasadzie stalej calkowitej zawartosci kwasów za pomoca dodawania do tej kapieli stabilnego, wodnego roztworu koncentratu zawierajacego 10—20% wagowych cynku, 26-52% wagowych P205, 0-4% wagowych fluorków w postaci Fl i/lub SiFe, 0-4% wagowych niklu i/lub kobaltu i 0—10% wagowych (S04 + CF + NO3), w którym stosunek zawartosci wolnego P205 do calkowitej zawartosci P205 wynosi 0,25—0,5 oraz do w zasadzie stalej calkowitej zawartosci nadtlenku wodoru w kapieli fosforanuja¬ cej za pomoca dodawania do tej kapieli wodnego roztworu H202 i/lub nadtlenku karbamidu, przy czym iloscio¬ wy stosunek zawartosci wolnego P205 do calkowitej zawartosci P205 w kapieli utrzymuje sie na stalym pozio¬ mie za pomoca zobojetniania tej kapieli wodnym roztworem fosforanów metali alkalicznych i/lub fosforanu amonowego do pH 6,5-10, korzystnie 7,5-8,5.
4. Sposób wedlug zastrz. 1 albo 3, znamienny tym, ze uzupelnianie zawartosci nadtlenku wodoru przeprowadza sie równoczesnie z zobojetnianiem w roztworze wodnym.
5. Sposób wedlug zastrz. 1 albo 4, znamienny tym, ze do równoczesnego uzupelniania zawartosci nadtlenku wodoru i srodka zobojetniajacego stosuje sie wodny roztwór mieszaniny zawierajacej Na2HP04 iNaH2P04 w stosunku wagowym 90:10 oraz H202 w stosunku wagowym fosforanów do H202 wynoszacym (0,5-2,5) :1. Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl
PL1975177337A 1974-01-17 1975-01-14 A method of phosphatizing metals PL101568B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19742402051 DE2402051B2 (de) 1974-01-17 1974-01-17 Verfahren zur phosphatierung von metallen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL101568B1 true PL101568B1 (pl) 1979-01-31

Family

ID=5904961

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1975177337A PL101568B1 (pl) 1974-01-17 1975-01-14 A method of phosphatizing metals

Country Status (16)

Country Link
JP (1) JPS50104150A (pl)
AT (1) AT331608B (pl)
AU (1) AU7717475A (pl)
BE (1) BE824349A (pl)
BR (1) BR7500320A (pl)
CA (1) CA1048389A (pl)
CH (1) CH594060A5 (pl)
CS (1) CS188937B2 (pl)
DE (1) DE2402051B2 (pl)
DK (1) DK10175A (pl)
FR (1) FR2258463B1 (pl)
GB (1) GB1487866A (pl)
IT (1) IT1028373B (pl)
NL (1) NL7415588A (pl)
PL (1) PL101568B1 (pl)
ZA (1) ZA75151B (pl)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2009253B (en) * 1977-11-29 1982-06-23 Ici Ltd Coating process
GB8527833D0 (en) * 1985-11-12 1985-12-18 Pyrene Chemicals Services Ltd Phosphate coating of metals
US5261973A (en) * 1991-07-29 1993-11-16 Henkel Corporation Zinc phosphate conversion coating and process
CN102311108B (zh) * 2011-05-25 2013-03-13 南京工业大学 一种花样金属磷酸铵盐纳米片组装的微球材料及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
FR2258463B1 (pl) 1976-12-31
CA1048389A (en) 1979-02-13
GB1487866A (en) 1977-10-05
CH594060A5 (pl) 1977-12-30
JPS50104150A (pl) 1975-08-16
AU7717475A (en) 1976-07-08
DE2402051B2 (de) 1976-10-28
DK10175A (pl) 1975-09-15
CS188937B2 (en) 1979-03-30
NL7415588A (nl) 1975-07-21
BR7500320A (pt) 1975-11-04
ATA928574A (de) 1975-11-15
DE2402051A1 (de) 1975-07-24
ZA75151B (en) 1976-01-28
AT331608B (de) 1976-08-25
FR2258463A1 (pl) 1975-08-18
BE824349A (fr) 1975-05-02
IT1028373B (it) 1979-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3063920B2 (ja) リン酸塩で金属表面を処理する方法
CA2023663C (en) Process of forming phospate coatings on metal surfaces
US4824490A (en) Process of producing phosphate coatings on metals
CA1330515C (en) Process of forming phosphate coatings on metals
CA1334371C (en) Process of applying phosphate coatings on metal surfaces using a phosphating solution containing iron iii-ions
EP0045110A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Phosphatüberzügen auf Eisen- und Stahloberflächen sowie dessen Anwendung
CN103114282B (zh) 一种钢铁工件磷化后免水洗的常温磷化液及其制备方法
US2540314A (en) Process and compositions for applying phosphate coatings
DE2327304B2 (de) Verfahren zum Aufbringen von Phosphatüberzügen auf Metalle
CA1205726A (en) Phosphating solutions and process
EP0603921B1 (de) Verfahren zur Erzeugung von Phosphatüberzügen
PL101568B1 (pl) A method of phosphatizing metals
US3520737A (en) Processes for the production of zinc phosphate coatings
CA2417911C (en) Phosphate conversion coating concentrate
EP0889977B1 (de) Zinkphosphatierung mit geringen gehalten an kupfer und mangan
CA2030126C (en) Process for the chemical conversion of metallic substrates, conversion bath adapted to be used in the same process and concentrate adapted for the preparation of the bath
US4233087A (en) Phosphate coating process
JPS6127467B2 (pl)
US6461450B1 (en) Method for controlling the coating weight for strip-phosphating
US2514149A (en) Coating of metal surfaces
US3723192A (en) Composition and process for treating metal
CA2413646C (en) Improved phosphating operation
US3671332A (en) Metal treating process
CA1270730A (en) Bath and process for the chemical conversion of metal substrates with zinc
WO1996022406A1 (de) Lithiumhaltige zinkphosphatierlösung