PL101552B1 - A method of removing sulphur dioxide from waste gases - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób usuwania dwutlenku siarki z gazów odlotowych, zawierajacych dwutlenek siarki.

Z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych nr 3928537 znany jest sposób usuwania dwutlenku siarki z gazów odlotowych zawierajacych dwutlenek siarki, który polega na kontaktowaniu gazu odlotowego zawierajacego dwutlenek siarki z wodnym roztworem alkalicznej soli kwasu organicznego w celu zaabsorbowania obecnego w gazie odlotowym dwutlenku siarki, w postaci alkalicznego siarczynu lub alkalicznego siarczanu, dodaniu weglanu wapnia lub wodorotlenku wapnia do roztworu wodnego zawierajacego zaabsorbowany w wyzej opisany sposób dwutlenku siarki w celu przeksztalcenia alkalicznego siarczynu lub alkalicznego siarczanu w siarczyn lub siarczan wapnia, oddzieleniu wytraconych siarczynów i siarczanów oraz cyklicznym zawracaniu uzyskanego przesaczu do obiegu w celu ponownego kontaktowania z gazem odlotowym. Ponizsze równania chemiczne 1—5 ilustruja mechanizm reakcji wykorzystywanej w omawianym znanym sposobie: 2RCOOM + S02 + H20-+2RCOOH +M3S03 (1) MaS03 + i 02 -+M2S04 (2) 2RCOOH + CaCOa -? (RCOO)aCa + C02 +H20 (3) M2S03 + (RCOO)*Ca -? CaS03 +2RCOOM (4) M2S04 + (RCOO)2Ca -+ CaS04 +2RCOOM (5) W powyzszych równaniach symbol RCOOM oznacza alkaliczna sól kwasu organicznego o reszcie kwasowej oznaczonej symbolem RCOO i metalu alkalicznego lub grupy amonowej NH4 oznaczonych symbolem M.

W reakcji (2) 02 oznacza tlen zawarty w gazie odlotowym itd.

W opisanym powyzej znanym sposobie roztwór uzyskany po oddzieleniu siarczynu wapnia i siarczanu wapnia (bedacy jak to wynika z równan (4 i 5) wodnym roztworem alkalicznej soli kwasu organicznego) zawiera siarczan sodu w ilosci wynikajacej ze stopnia rozpuszczalnosci tego zwiazku. W przypadku zawrócenia takiego roztworu zawierajacego rozpuszczony w nim siarczan wapnia do obiegu w celu wykorzystania go jako roztworu absorbujacego dwutlenek siarki, alkaliczny siarczyn utworzony w wyniku zaabsorbowania dwutlenku siarki ulegnie reakcji z siarczanem wapnia w mysl podanego nizej równania 6 powodujac wytworzenie wiekszych ilosci2 101 552 siarczynu wapnia, który jest trudniej rozpuszczalny niz siarczan wapnia. Takwytworzony siarczan wapnia osadza sie na wewnetrznych sciankach wiezy absorpcyjnej lub innej jednostki reakcyjnej wywolujac dobrze znane zjawisko tworzenia kamienia (nalotów).

CaS04 + M2S03->CaS03 +M2S04 (6) Gdy to zjawisko zachodzi na wewnetrznych powierzchniach scianek ukladu reakcyjnego, wywoluje spadek cisnienia w wiezy absorpcyjnej lub zatkanie rurociagów powodujac rozmaite zaklócenia w przebiegu procesu.

W celu usuniecia takiego kamienia powszechnie stosuje sie zabiegi chemiczne polegajace na rozpuszczeniu i wyplukaniu osadu poprzez ciagle lub okresowe zeskrobywanie nalotu lub zmywanie go woda. Pierwsza z metod odznacza sie ta niedogodnoscia, ze w celu usuniecia kamienia nalezy czasowo zawiesic prace ukladu reakcyjnego a w przypadku, gdy niepozadane jest przerywanie pracy ukladu, nalezy wyposazyc go w dodatkowe jednostki operacyjne ukladu, co powoduje znaczny wzrost kosztów zarówno w odniesieniu do eksploatacji jak i wyposazenia. Druga metoda równiez okazuje sie niekorzystna, zwlaszcza w przypadku instalacji przemyslo¬ wych, gdyz trudno jest osiagnac calkowite usuniecie wytworzonych nalotów.

Celem wynalazku jest opracowanie sposobu usuwania dwutlenku siarki z gazów odlotowych w tak zwanym procesie „na mokro" w którym nie nastepuje zanieczyszczanie kamieniem wewnetrznych powierzchni ukladu reakcyjnego.

Na ogól, usuwanie siarczanu wapnia z roztworu wodnego zawierajacego siarczan wapnia realizuje sie przez przeksztalcenie siarczanu wapnia w trudno rozpuszczalna sól wapnia i oddzielenie osadu wytworzonej soli wapnia. Przykladowo, weglan wapnia, siarczyn wapnia, fluorek wapnia, molibdenian wapnia i fosforan wapnia naleza do grupy trudnorozpuszczalnych soli wapnia. Majac na celu przeciwdzialanie tworzeniu sie kamienia na wewnetrznych powierzchniach scianek ukladu reakcyjnego podjeto badania nad sposobem usuniecia przesaczu zawartego w nim rozpuszczonego siarczanu wapnia w postaci takiej trudnorozpuszczalnej soli wapnia. Stwierdzo¬ no, ze dla zapewnienia wytwarzania trudnorozpuszczalnej soli wapnia bez równoczesnego uwalniania sie substancji szkodliwych ani bez zwiekszenia stezenia bezuzytecznych zwiazków w cyrku Iujacym roztworze oraz dla zapewnienia latwego z technologicznego punktu widzenia usuwania z zawracanego do obiegu roztworu rozpuszczonego w nim siarczanu wapnia, najkorzystniejsze jest wydzielanie siarczanu wapnia przez przeksztalce¬ nie go w trudnorozpuszczalny weglan wapnia.

Na ogól rozpuszczony siarczan wapnia przeksztalca sie w weglan wapnia przez wprowadzenie weglanu amonu, kwasnego weglanu amonu lub gazowego dwutlenku wegla i amoniaku do wodnego roztworu zawierajacego rozpuszczony siarczan wapnia. Przykladowo, gdy wprowadzamy do roztworu weglan amonu, rozpuszczony siarczan wapnia reaguje z weglanem amonu w mysl podanego nizej równania 7 z wytworzeniem weglanu wapnia: CaS04 (rozpuszczony) + (NH4)2C03-K;aC03 + (NH4)2S04 % (7) Jak z powyzszych rozwazan wynika, wprowadzenie weglanu amonu do zawracanego do obiegu przesaczu powoduje utworzenie weglanu wapnia i siarczanu amonu, przy czym weglan wapnia tworzy osad. Po oddzieleniu tak wytworzonego weglanu wapnia przez odsaczenie uzyskuje sie przesacz zawierajacy siarczan amonu. Przesacz ten moze byc ponownie uzyty do absorbowania dwutlenku siarki z gazów odlotowych. Ciagle stosowanie takiego roztworu w obiegu doprowadzi do niekorzystnego stopniowego wzrostu stezenia siarczanu amonu, konieczne jest wiec pelne usuwanie go z roztworu.

Badania zogniskowano zatem na opracowaniu sposobu usuwania siarczanu wapnia z roztworu, przez przeksztalcenie go w trudnorozpuszczalny weglan wapnia, z równoczesnym utrzymywaniem stalego stezenia siarczanu amonu w cyrku I ujacym roztworze absorpcyjnym. W wyniku prowadzonych badan stwierdzono ze oddzielanie rozpuszczonego w roztworze siarczanu wapnia w polaczeniu z utrzymywaniem ustalonej równowagi stezen siarczanu amonu, w ukladzie mozna osiagnac dopuszczajac mozliwosc, aby wodny roztwór zawierajacy alkaliczna sól kwasu organicznego cyrkulujacy w ukladzie w celu absorobowania dwutlenku siarki z gazów odlotowych zawieral ustalona ilosc siarczanu amonu oraz dodajac wodorotlenek wapnia do roztworu, z którego nalezy usunac rozpuszczony siarczan wapnia w celu przeksztalcenia siarczanu amonu w siarczan wapnia w mysl podanego ponizej równania (8), oddzielajac nowo wytracony siarczan wapnia i przepuszczajac przez uzyskany przesacz gazowy dwutlenku wegla w celu przeksztalcenia rozpuszczonego w roztworze siarczanu wapnia w weglan wapnia z równoczesnym wytworzeniem siarczanu amonu w mysl równania 9. Na bazie tych ustalen dokonano obecnego wynalazku.

CaS04 (rozpuszczony) + (NH4)aS04 + Ca(OH)2->CaS04 (rozpuszczony) + CaS04 • 2H20 + 2NH4OH (8) CaS04 (rozpuszczony) + 2NH4OH + C02 -+ CaCO* + (NH4)2S04 -H20 (9) Sposób usuwania dwutlenku siarki z gazów odlotowych polega wedlug wynalazku na tym, ze w pierwszym etapie gazy odlotowe kontaktuje sie z roztworem zawierajacym alkaliczna sól kwasu organicznego oraz siarczan101552 3 amonu, w celu zaabsorbowania dwutlenku siarki zawartego w gazach odlotowych przez wodny roztwór w postaci alkalicznego siarczynu lub alkalicznego siarczanu, w drugim etapie do roztworu absorpcyjnego, po zaabsorbowa¬ niu dwutlenku siarki dodaje sie weglanu lub wodorotlenku wapnia w celu przeksztalcenia alkalicznego siarczynu i alkalicznego siarczanu, zawartych w roztworze absorpcyjnym odpowiednio w siarczyn i siarczan wapnia wytracajacych sie w postaci osadu, lub w etapie tym najpierw przez roztwór absorpcyjny, zawierajacy zaabsorbowany dwutlenek siarki przepuszcza sie tlen lub powietrze w celu utlenienia zawartego w roztworze alkalicznego siarczynu do alkalicznego siarczanu a nastepnie dodaje sie weglan lub wodorotlenek wapnia w celu przeksztalcenia alkalicznego siarczanu zawartego w roztworze absorpcyjnym w siarczan wapnia wytracajacy sie w postaci osadu. W trzecim etapie dodaje sie wodorotlenek wapnia albo do przesaczu uzyskanego w drugim etapie po oddzieleniu osadu siarczynu i siarczanu wapnia badz tylko siarczanu wapnia (w dalszym opisie wynalazku obie te sole wapnia beda okreslone jako „sól wapniowa tlenku siarki") albo do uzyskanego w drugim etapie roztworu absorpcyjnego zawierajacego sól wapniowa tlenku siarki w celu przeksztalcenia siarczanu amonu zawartego w przesaczu lub roztworze absorpcyjnym na drodze reakcji z wodorotlenkiem wapnia, w siarczan wapnia wydzielajacy sie w postaci osadu, po czym w czwartym etapie oddziela sie przez odsaczenie sól wapniowa tlenku siarki wytworzona w etapie trzecim od roztworu zawierajacego te sól, zas przez uzyskany przesacz przepuszcza sie gazowy dwutlenek wegla w celu przeksztalcenia rozpuszczonego w przesaczu siarczanu wapnia, na drodze reakcji z dwutlenkiem wegla, w obecnosci wodorotlenku amonu, w weglan wapnia wytracajacy sie w postaci osadu, z jednoczesnym wytworzeniem siarczanu amonu. W kolejnym, piatym etapie oddziela sie wytworzony w poprzednim etapie weglan wapnia i uzyskany przesacz zawraca sie cyklicznie do obiegu do etapu pierwszego w celu wykorzystania jako roztwór absorpcyjny do kontaktowania z gazami odlotowymi.

Sposób wedlug wynalazku zostanie szczególowo opisany ponizej.

Stosowane okreslenie alkaliczna sól kwasu organicznego oznacza sól sodowa, potasowa, sól innego metalu alkalicznego lub sól amonowa kwasu organicznego. W sposobie wedlug wynalazku wykorzystuje sie sole takich kwasów organicznych jak kwas octowy, propionowy, maslowy lub podobnych. W wodnym roztworze absorpcyjnym zawierajacym alkaliczna sól kwasu organicznego i siarczan amonu, alkaliczna sól kwasu organicznego stanowi 5-20% wagowych, korzystnie 10—18% wagowych. Ilosc zawartego w tym roztworze siarczanu amonu powinna byc nie mniejsza niz ilosc molowa równowazna ilosci zawartego w roztworze rozpuszczonego weglanu wapnia, co opisano ponizej. Na ogól ilosc ta zawiera sie korzystnie w przedziale 0,5—5% wagowych.

Pierwszy etap sposobu wedlug wynalazku, stanowi kontaktowanie gazów odlotowych zawierajacych dwutlenek siarki z powyzej opisanym wodnym roztworem, podczas którego nastepuje zaabsorobowanie dwutlenku siarki zawartego w gazach odlotowych przez roztwór wodny. Dwutlenek siarki reaguje z alkaliczna sola kwasu organicznego zawarta w roztworze y z wytworzeniem alkalicznego siarczynu i alkalicznego siarczanu, w mysl równan reakcji 1 i 2 podanych wyzej.

W nastepnym etapie, do roztworu absorpcyjnego, po zaabsorbowaniu dwutlenku siarki dodaje sie weglan lub wodorotlenek wapnia. W rezultacie, alkaliczny siarczyn i alkaliczny siarczan zawarte w roztworze ulegaja, w mysl wyzej podanych reakcji 3 i 4, przeksztalceniu w siarczyn wapnia i siarczan wapnia, które wytracaja sie w postaci osadu. Weglan lub wodorotlenek wapnia reaguje selektywnie z wolnym kwasem organicznym zawartym w roztworze w mysl równania reakcji 3 i nie ulega reakcji z obecnym w roztworze siarczanem amonu.

Wprowadzenie do roztworu absorpcyjnego dodatku weglanu lub wodorotlenku wapnia moze byc poprzedzone przepuszczeniem tlenu lub powietrza przez roztwór absorpcyjny w celu utlenienia alkalicznego siarczynu do siarczanu. Wytworzony w roztworze absorpcyjnym siarczan alkaliczny przeksztalca sie w siarczan wapnia wytracajacy sie w postaci osadu.

Nastepnie, w sposobie wedlug wynalazku, uzyskany roztwór zawierajacy wytworzona sól wapniowa tlenku siarki saczy sie w celu oddzielenia soli wapniowej, po czym do przesaczu dodaje sie wodorotlenek wapnia, W rezultacie, zawarty w przesaczu siarczan amonu ulega reakcji z wprowadzonym wodorotlenkiem wapnia, w mysl podanego powyzej równania reakcji 8, z wytworzeniem siarczanu wapnia wytracajacego sie w postaci osadu. Ponadto wodorotlenek wapnia reaguje z czescia zawartej w przesaczu alkalicznej soli kwasu organicznego 'tworzacej sie w wyniku reakcji zilustrowanych podanymi wyzej równaniami 4 i 5 w mysl podanego ponizej równania reakcji 10 z wytworzeniem dodatkowej ilosci odpowiedniej soli wapniowej kwasu organicznego oraz wodorotlenku alkalicznego, które pozostana wstanie rozpuszczonym w ukladzie reakcyjnym. Obecnosc tych produktów w cyrkulujacym roztworze nie stanowi zadnej przeszkody dla rozwazanego w sposobie wedlug wynalazku, traktowania gazów odlotowych, poniewaz wodorotlenek alkaliczny latwo ulega reakcji z dwutlen¬ kiem siarki zilustrowanej podanym nizej równaniem 11. W razie potrzeby wodorotlenek wapnia mozna dodawac bezposrednio do roztworu zawierajacego wapniowa sól tlenku siarki w celu wytracenia zawartego w roztworze4 101 552 siarczanu amonu w postaci siarczanu wapnia bez uprzedniego oddzielania, przez odsaczenie, wapniowej soli tlenku siarki od roztworu 2RCOOM + Ca(OH)2^(RCOO)2Ca +2MOH (10) 2MOH+S02 + H20-+M2SOa +2H20 (11) Z kolei, w sposobie wedlug wynalazku, wytworzona sól wapniowa tlenku siarki oddziela sie, przez odsaczenie i przez uzyskany przesacz przepuszcza sie gazowy dwutlenek wegla. W rezultacie rozpuszczony w przesaczu siarczan wapnia zawarty w ilosci wynikajacej z jego rozpuszczalnosci w roztworze, ulega rakcji z wprowadzanym gazowym dwutlenkiem wegla, w obecnosci wodorotlenku amonu z wytworzeniem weglanu wapnia wytracajacego sie w postaci osadu, w mysl podanego powyzej równania reakcji 9. Równoczesnie w roztworze ponownie pojawia sie siarczan amonu.

Wytworzony w poprzednim etapie weglan wapnia oddziela sie przez odfiltrowanie, i uzyskany przesacz okresowo zawraca sie do wykorzystania jako roztwór absorpcyjny do kontaktowania z gazami odlotowymi, poniewaz tak uzyskany przesacz jest roztworem zawierajacym wytworzona sól alkaliczna kwasu organicznego oraz siarczan amonu. W tym przesaczu siarczan wapnia zawarty jest w bardzo niewielkiej ilosci, nie wiekszej niz 130 czesci na milion. Zawracanie tego przesaczu do obiegu nie jest grozne, gdyz niemozliwe jest, aby rozpuszczony w nim siarczan wapnia mógl wywolac zjawisko tworzenia sie kamienia na sciankach wewnetrz¬ nych instalacji. Oddzielany w tym etapie weglan wapnia moze stanowic zródlo weglanu wapnia lub wodorotlenku wapnia dodawanych do roztworu absorpcyjnego po zaabsorbowaniu dwutlenku siarki. W zwiazku zdodatniem weglanu wapnia lub wodorotlenku wapnia do roztworu absorpcyjnego po zaabsorbowaniu dwutlenku siarki, w przypadku wprowadzenia weglanu wapnia nastepuje wytworzenie dwutlenku wegla (zgodnie z podanym wyzej równaniem reakcji 3). Wydzielajacy sie gazowy dwutlenek wegla moze byc zbierany i wykorzystany w celu przeksztalcenia rozpuszczonego siarczanu wapnia w weglan wapnia.

/ W przypadku oczyszczania gazów odlotowych zawierajacych obok dwutlenku siarki równiez tlenki azotu mozliwe jest równoczesne usuwanie dwutlenku siarki i tlenków azotu, jezeli wodny roztwór zawierajacy alkaliczna sól kwasu organicznego oraz siarczan amonu bedzie dodatkowo zawieral sól zelaza, taka jak siarczan zelazawy oraz srodek chelatyzujacy taki jak kwas etylenodwuaminoczterooctowy lub jego sól alkaliczna albo kwas nitrylotrójoctowy lub jego sól alkaliczna. W wyniku zastosowania roztworu absorpcyjnego o powyzszym skladzie, tlenki azotu ulegaja zaabsorobowaniu w postaci alkalicznego imidodwusulfonianu.

Ponizsze przyklady blizej ilustruja sposób wedlug wynalazku, nie ograniczajac jego zakresu.

Przyklad I. Wodny roztwór zawierajacy 15% wagowych octanu sodu oraz 3% wagowych siarczanu amonu zastosowano do absorpcyjnego usuwania dwutlenku siarki z gazów odlotowych zawierajacych 1200 czesci na milion dwutlenku siarki przez kontaktowanie gazów odlotowych z tym wodnym roztworem.

Przez 200 litrów uzyskanego roztworu absorpcyjnego zawierajacego 3,0% wagowych siarczynu sodu oraz %33% wagowych siarczanu sodu przepuszczono powietrze w celu utlenienia siarczynu sodu do siarczanu sodu, ^wnastepnie dodano 5 kg weglanu wapnia w celu przeprowadzenia reakcji prowadzacej do wytworzenia osadu siarczanu wapnia. Roztwór nad osadem zawieral 0,56% wagowych rozpuszczonego siarczanu wapnia. Do tego roztworu dodano 1,8 g wodorotlenku wapnia. Wytworzony w konsekwencji siarczan wapnia, w postaci osadu, oddzielono przez przesaczenie. Przez uzyskany przesacz przepuszczono 600 litrów gazowego dwutlenku wegla.

Wytworzony, w rezultacie, osad weglanu wapnia oddzielono. W wyniku przeprowadzonej analizy stwierdzono, ze przesacz uzyskany po oddzieleniu weglanu wapnia zawiera 14,6% wagowych octanu sodu, 2,01% wagowych siarczanu amonu, 0,72% wagowych weglanu amonu oraz 0,011% wagowych siarczanu wapnia.

Roztwór ten stosowano do absorbowania dwutlenku siarki tak dlugo, az zawartosc siarczynu sodowego w tym roztworze osiagnela wartosc 3%.

Powyzsze postepowanie powtarzano cyklicznie i nie zaobserwowano odkladania sie kamienia z siarczynu wapnia na powierzchniach wewnetrznych scianek ukladu reakcyjnego.

Przyklad porównawczy. Wodny roztwór zawierajacy 15% wagowych octanu sodu oraz 3% wagowych siarczanu sodu zastosowano do absorpcyjnego usuwania dwutlenku siarki z gazów odlotowych zawierajacych 1200 czesci na milion dwutlenku siarki przez kontaktowanie gazów odlotowych z tym wodnym roztworem.

Przez 200 litrów uzyskanego roztworu absorpcyjnego, zawierajacego 3,0% wagowych siarczynu sodu oraz 0,33% wagowych siarczanu sodu przepuszczano powietrze w celu utlenienia siarczynu sodu do siarczanu sodu, a nastepnie dodano 5 kg weglanu wapnia w celu spowodowania reakcji prowadzacej do wytworzenia siarczanu wapnia w postaci osadu. Roztwór nad osadem zawieral 0,55% wagowych rozpuszczonego siarczanu wapnia.

Roztwór ten zastosowano do absorbowania dwutlenku siarki tak dlugo, az zawartosc siarczynu sodu w tym roztworze osiagnela wartosc 3,0% wagowych. Stwierdzono, ze wewnetrzne powierzchnie scianek ukladu101 552 5 reakcyjnego pokryly sie warstwa siarczynu wapnia. W wyniku przeprowadzonej analizy ustalono, ze roztwór zawiera 0,10% wagowych rozpuszczonego siarczanu wapnia.

Przyklad II. Wodny roztwór zawierajacy 15% wagowych octanu sodu, 3% wagowych siarczanu amonu, 0,2% wagowych siarczanu zelazawego oraz 0,44% wagowych dwusodowej soli kwasu etylenodwuamino- czterooctowego zastosowano do absorpcyjnego usuwania dwutlenku siarki i tlenków azotu z gazów odlotowych zawierajacych 1200 czesci na milion dwutlenku siarki i 200 czesci na milion tlenku azotu przez kontaktowanie gazów odlotowych z tym roztworem wodnym.

Przez 200 litrów roztworu absorpcyjnego zawierajacego 1,1% wagowych siarczynu sodu oraz 1,2% wagowych siarczanu sodu przepuszczano powietrze w celu utlenienia siarczynu sodu do siarczanu sodu.

Nastepnie do roztworu tego dodano 4,6 kg weglanu wapnia w celu spowodowania reakcji prowadzacej do wytracenia osadu siarczanu wapnia, który oddzielono przez odsaczenie.

Stwierdzono, ze otrzymany przesacz zawieral 0,55% wagowych siarczanu wapnia oraz 0,72% wagowych . imidodwusulfonianu sodu utworzonego w wyniku zaabsorobwania tlenku azotu, do przesaczu dodano 4,2 kg wodorotlenku wapnia w celu wywolania wytracenia osadu. Wytworzony w ten sposób osad odsaczono.

Stwierdzono, ze osad. zawieral siarczan wapnia, imidodwusulfonian sodowo-wapniowy oraz wodorotlenek zelaza.

Przez roztwór uzyskany po oddzieleniu tego osadu przepuszczono 400 litrów gazowego dwutlenku wegla w celu przeksztalcenia nadmiaru rozpuszczonego wodorotlenku wapnia w weglan wapnia. Tak wytworzony osad weglanu wapnia odsaczono. Stwierdzono, ze uzyskany przesacz nie zawieral rozpuszczonego siarczanu wapnia.

Do przesaczu dodano wymagana ilosc siarczanu zelazawego i zawrócono do obiegu w celu dalszego realizowania absorpcyjnego usuwania dwutlenku siarki i tlenku azotu z gazów odlotowych, przez kontaktowanie tych gazów z tak uzyskanym roztworem. Przesacz ten stosowano w ciaglym obiegu w ukladzie reakcyjnym nie obserwujac odkladania sie kamienia siarczynu wapnia na wewnetrznych powierzchniach scianek ukladu reakcyjnego.

Claims (8)

Zastrzezenia patentowe

1. Sposób usuwania dwutlenku siarki z gazów odlotowych, znamienny tym, ze gaz odlotowy kontaktuje sie z wodnym roztworem zawierajacym sól alkaliczna kwasu organicznego oraz siarczan amonowy, w celu zaabsorbowania dwutlenku siarki zawartego w gazie odlotowym w roztworze wodnym w postaci siarczynu i siarczanu metalu alkalicznego, a po zaabsorbowaniu dwutlenku siarki do roztworu absorpcyjnego wprowadza sie weglan lub wodorotlenek wapnia w celu przeksztalcenia siarczynów i siarczanów metalu alkalicznego w wytraca¬ jace sie w postaci osadu siarczyny i siarczany wapnia odpowiednio, po czym do uzyskanego roztworu siarczynu i siarczanu wapnia lub roztworu otrzymanego po oddzieleniu siarczynu i siarczanu wapnia dodaje sie wodorotlenek wapnia w celu przeprowadzenia zawartego w roztworze siarczanu amonu w wytracajacy sie w postaci osadu siarczan wapnia oddziela sie osad siarczanu wapnia a przez uzyskany przesacz przepuszcza sie gazowy dwutlenek wegla w celu przeksztalcenia rozpuszczonego w przesaczu siarczanu wapnia w nierozpuszczal¬ ny weglan wapnia z równoczesnym wytworzeniem siarczanu amonu, a nastepnie tak wytworzony weglan wapnia oddziela sie,zas uzyskany przesacz jako roztwór absorpcyjny cyklicznie zawraca sie do obiegu.

2. Sposób wedlug zastrz. 1, z n a m i e n n y tym, ze jako roztwór absorpcyjny zawierajacy alkaliczna sól kwasu organicznego oraz siarczanu amonu stosuje sie roztwór zawierajacy 5—20% wagowych soli metalu alkalicznego i kwasu organicznego oraz 0,5—5% wagowych siarczanu amonu.

3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie roztwór absorpcyjny zawierajacy jako sól alkaliczna kwasu organicznego sól amonowa lub sól metalu alkalicznego kwasu organicznego.

4. Sposób wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze stosuje sie roztwór absorpcyjny zawierajacy alkaliczna sól kwasu octowego, propionowego lub maslowego.

5. Sposób usuwania dwutlenku siarki z gazów odlotowych, znamienny tym, ze gaz odlotowy kontaktuje sie z wodnym roztworem zawierajacym alkaliczna sól kwasu organicznego oraz siarczan amonu w celu zaabsorbowania dwutlenku siarki zawartego w gazie odlotowym w postaci alkalicznego siarczanu lub siarczynu, a po zaabsorbowaniu dwutlenku siarki przez roztwór absorpcyjny przepuszcza sie strumien tlenu lub powietrza w celu utlenienia zawartego w roztworze alkalicznego siarczynu do odpowiedniego siarczanu, po czym do roztworu dodaje sie weglan lub wodorotlenek wapnia w celu przeksztalcenia alkalicznego siarczanu obecnego w utlenionym roztworze absorpcyjnym w wytracajacy sie w postaci osadu siarczan wapnia, a nastepnie do pozostalosci po oddzieleniu osadu siarczanu wapnia lub do roztworu absorpcyjnego zawierajacego siarczan wapnia dodaje sie wodorotlenek wapnia w celu przeprowadzenia obecnego w roztworze siarczanu amonu w wytracajacy sie w postaci osadu siarczan wapnia, po czym oddziela sie osad soli wapnia z roztworu6 101 552 zawierajacego tak wytworzony osad siarczanu wapnia i przez uzyskany przesacz przepuszcza sie gazowy dwutlenek wegla w celu przeprowadzania rozpuszczonego w przesaczu siarczanu wapnia w nierozpuszczalny weglan wapnia z jednoczesnym wytworzeniem siarczanu amonu, a wytracony osad weglanu wapnia oddziela sie, zas uzyskany przesacz zawraca sie cyklicznie do obiegu jako swiezy roztwór absorpcyjny.

6. Sposób wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze jako roztwór absorpcyjny zawierajacy alkaliczna sól kwasu organicznego oraz siarczan amonu stosuje sie roztwór zawierajacy 5—20% wagowych alkalicznej soli kwasu organicznego oraz 0,5—5% wagowych siarczanu amonu.

7. Sposób wedlug zastrz. 5, z n a m i e n n y tym, ze stosuje sie roztwór absorpcyjny zawierajacy jako sól alkaliczna kwasu organicznego sól amonowa lub sól metalu alkalicznego kwasu organicznego.

8. Sposób wedlug zastrz. 7, znamienny' tym, ze stosuje sie roztwór absorpcyjny zawierajacy alkaliczna sól kwasu octowego propionowego lub maslowego. Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl