NO774300L - Stabiliseringsplate for en fleksibel opptegningsplate - Google Patents

Description

Oppfinnelsen angår en stabiliseringsskive for fleksibel opptegningsplate i et opptegnings- og/eller gjen-givelsesapparat og nærmere bestemt for apparat av den art hvor et' plateformet fleksibelt opptegningsmedium er montert for rotasjon over en stasjonær stabiliseringsskive og i drift bæres av et luftlager som dannes av luftstrømmen mellom det roterende medium og en lagringsflate. på stabiliseringsskiven.

Når den ikke er i drift hviler den fleksible opptegningsplate i berøring med skiven. Under start og stopp går det derfor en viss tid innen luftlageret helt dannes i løpet"av den tid platen beveger seg med sin flåte i berøring med skiven. Dette kan gi grunnlag for forskjellige problemer avhengig av egenskapene ved stabiliseringsskivens overflate.

Hvis for eksempel platen har en oppruet sandblåst overflate, hvilket ofte er tilfelle for at luften skal trenge inn mellom skiven og platen for lettere tilveiebringelse av et luftlager under start, kan platens berøringsflate utsettes for slitasje. En på denne måte behandlet plateoverflate er vanskelig å styre og endres også fra plate til plate ettersom slipesandkornenes størrelse varierer under sandblåsingen. Videre kan slipesandkorn feste seg til stabiliseringsskivens overflate. Se-lv om den gjennomsnittlige topp-til-topp-finish ligger på ca. l,5p kan lokale topp-til-topp-uj evnheter ligge på over 2,5y« Foruten platens vanlige slitasje kan således disse lokale ujevnheter gi opptak til dype riper som, hvis overflaten anvendes for opptegning og gjengivelse, kan forårsake feil.

Hvis istedet stabiliseringsskiven ved polering gis en speillignende overflatefinish, vil tilstedeværelsen av inne-stengt luft få platen til sterkt å klebe til overflaten av skiven. Dette fenomen og de innvirkende krefter kan være til strekkelig store for å hindre at en liten drivmotor kan starte omdreiningen av platen. Hvis motoren'er tilstrekkelig sterk for å overvinne kreftene, kan allikevel ødeleggelse av platen forekomme, og dette påvirker apparatets senere funksjon uheldig.

Mellom disse to ytterligheter finnes forskjellige grader av overflateruhet som kan velges for å avveie klebnings-problemet ved en plan skive overfor slitasjeproblemet ved en ujevn skive. Ifølge oppfinnelsen søker, man å tilveie-

bringe en stabiliseringsplate med en overf late. f inish som har begge ytterlighetenes fordeler, men ikke ulempene.

Ved opptegnings- og/eller gjengivelsesapparater

av den beskrevne art bibringes en stabiliserende skive ifølge oppfinnelsen en lagringsflate ved at en overflate av skiven forsynes med flere adskilte fordypninger som er spredt over overflaten i et forutbestemt mønster og adskilles ved ubehandlede overflatedeler.

Ved en foretrukket utførelsesform av oppfinnelsen tilveiebringes en regulær matrise av identiske fordypninger over en overflate på stabiliseringsskiven ved hjelp av fotolitografi og etsing. I et utførelseseksempel har hver fordypning en diameter på 0,7 mm og en nominell dybde på 0,2 mm. Fordypningene er spredt over platens overflate i et regelmessig gittermønster med en rektangulær deling på 1 mm. Denne spredningstetthet resulterer i at ca. ^ 0% av skivens overflate fjernes under etsingen.

Utgangsmaterialet for skiven er et sjikt av valset aluminiumlegering med en tykkelse på ca. 1,5 mm. Denne ren-gjøres, avfettes og avoksyderes ved hjelp av velkjente kom-mersielt tilgjengelige prosesser. Da aluminium oksyderer lett når det utsettes for atmosfæren, beskyttes skivens overflate ved en på markedet tilgjengelig kromateringsprosess. En foto-motstandstørrfilm lamineres på platens begge sider og de eksponerte kanter beskyttes med en beleggstoppende lakk. Fotomotstandsmaterialet eksponeres deretter gjennom en maske i et regelmessig matrisepunktmønster for å definere størrelsen på og stedet for fordypningene som sluttelig skal dannes i skivens overflate. Når man arbeider med slik film anbringes et beskyttelsessjikt av polyetylentereftalat over fotomotstandsmaterialet for å forenkle lamineringsprosessen. Dette beskyttelsessjikt fjernes fra det eksponerte fotomotstandssjikt som fremkalles,

vaskes og tørkes på vanlig måte. Mylar-belegget opprettholdes som en ytterligere beskyttelse av platens andre side. Den side av platen som er belagt med det ubeskyttede fremkalte fotomotstandsmateriale, som bestemmer fordypningene, sprøyteetses i en oppløsning av jernklorid med ikke mindre enn 3% saltsyre' ved en romtemperatur på ca. 20°C i 12 minutter. Hvis etter vasking og tørking uventede materialrester påtreffes i de etsede fordypninger, kan dette fjernes ved f.eks. lett sand-blåsning før det beskyttende fotomotstandsmaterialet fjernes. Fordypningene, kan også omkromateres før fotomotstandsmaterialet fjernes, hvis dette anses nødvendig. Fotomotstandsmaterialet fjernes så fra den etsede skive med aceton. Sluttelig kan den behandlede overflate gis en lett pusse- eller polerings-behandling for å fjerne eventuelle ujevnheter som kan ligge mellom skivens ubehandlede overflate og de etsede fordypninger..

Ved en sort .apparater, hvor foreliggende oppfin-nelse er spesielt anvendbar, er stabiliseringsskiven formet slik at den roterende fleksible plate i drift kontinuerlig bøyes opp om to kårder. Som følge av at platen søker rette

seg ut under start men hindres av den formede skive, øker problemet med slitasje som følge av berøring med en stiv stabiliseringsskive. Problemet er særlig alvorlig i dette tilfelle fordi overflaten som vender mot skiven, er den som anvendes for dataopptegning og/eller gjengivelse. Problemet løses imidlertid ved anvendelse av en stabiliseringsskive med en lagringsoverflate ifølge oppfinnelsen.

Selv om oppfinnelsen er særlig egnet for anvendelse i apparater av den ovenfor angitte art er den også anvendbar ved utstyr med anderl.edes formede eller plane stabiliseringsskiver. Det finnes også alternativ til den foretrukne behandlingsmåte for platen ved hjelp av fotolitografi og etsing, hvilke alternative måter også er beregnet på å ligge innenfor oppfinnelsens ramme. Til disse alternativer hører fremstilling av fordypninger ved hjelp av et verktøy i en presse, vanlig bearbeidelse og elektro-utladningsbearbeidning.

Claims (1)

1. Stabiliseringsskive for.fleksibel opptegningsplate i et opptegnings- og/eller gjengivelsesappårat, karakterisert ved at en lagringsflate tilveiebringes ved en slik behandling av en flate på skiven, at flere adskilte fordypninger spres over skiven i et forutbestemt mønster, hvilke fordypninger er adskilt av ubehandlede skivedeler.

2. Skive ifølge krav 1, karakterisert ved at fordypningene spres over overflaten i- et regelmessig gittermønster.

3. Skive ifølge krav 2, karakterisert ved at gittermønsteret har en rektangulær deling på 1 mm.

4. Skive ifølge et av de foregående krav, karakterisert ved at arealet av de ubehandlede deler av lagringsflaten er større enn arealet av de behandlede deler.' 5- Skive ifølge et av de foregående krav, karakterisert ved at hver fordypning er hovedsakelig sirkelrund med en diameter på 0,7 mm og en nominell dybde på 0,2 mm.

6. Skive ifølge et av de foregående krav, karakterisert ved at de ubehandlede overflatedeler ikke overskrider ^ 0% av lagringsflatens samlede areal.

7- Fremgangsmåte for fremstilling av en stabiliseringsskive ifølge krav 1, karakterisert ved belegning av platens overflate med fotomotstandsmateriale, eksponering og fremkalling av fotomotstandsmaterialet slik å frilegge deler av skivens overflate for eksponering i det forutbestemte mønster, etsing av de eksponerte deler av skiven for å tilveiebringe fordypningene, og fjerning av-belegget fra skiven.

8. Fremgangsmåte ifølge krav 7, karakterisert ved at for fjerning av det fremkalte belegg blir de etsede fordypninger gjenstand for en rengjøringsoperasjon.

9-. Fremgangsmåte ifølge krav 8, karakterisert ved at de etsede fordypninger rengjøres ved sand-blåsing.

10. Fremgangsmåte.ifølge et av kravene 9~ 10, karakterisert ved at de ubehandlede skivedeler pusses eller poleres.