NO130903B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- NO130903B NO130903B NO03659/70A NO365970A NO130903B NO 130903 B NO130903 B NO 130903B NO 03659/70 A NO03659/70 A NO 03659/70A NO 365970 A NO365970 A NO 365970A NO 130903 B NO130903 B NO 130903B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- trichlorosilane
- chlorine
- hydrogen
- approx
- tetrachlorosilane
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 30
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 claims description 28
- 229910052801 chlorine Chemical group 0.000 claims description 28
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 18
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- -1 hydrogen silanes Chemical class 0.000 claims description 5
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 36
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 17
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 3
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 150000001804 chlorine Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POFAUXBEMGMSAV-UHFFFAOYSA-N [Si].[Cl] Chemical class [Si].[Cl] POFAUXBEMGMSAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005235 decoking Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 239000002552 dosage form Substances 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000002920 hazardous waste Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011814 protection agent Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- QHAHOIWVGZZELU-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilyloxy)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)O[Si](Cl)(Cl)Cl QHAHOIWVGZZELU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/04—Hydrides of silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
Fremgangsmåte til fjerning av hydrogensilaner fra
klorsilaner.
Oppfinnelsens gjenstand er en fremgangsmåte til å fjerne selv- eller lett antennelig hydrogensilan av klorsilan med den generelle formel
hvori R kan være hydrogen eller klor.
Triklorsilan er et verdifullt teknisk produkt, som
får stigende interesse, f.eks. på områdene av silikoner, silanklebe-midler, byggbeskyttelsesmidler, polymerisasjonskatalyser, reduksjons-middel og til fremstilling av halvledersilisium for elektronikk-
industrien.
Dens tekniske fremstilling foregår ved omsetning av elementært silisium med klorhydrogen, idet det også medoppstår noen andre hydrogen- og klorsilanér som følgestoffer (sml. H. Rotzsche, Zeitschrift fur anorganische und allgemeine Chemie 324,. (1963), 197-201).
Håndteringen av teknisk triklorsilan er imidlertid forbundet med en betraktelig sikkerhetsrisiko. Enskjønt i rekken av silisiumhydrogener med den generelle formel
hvori n betyr et helt tall mellom 0 og 3, bare monosilanet er kjent som med luftoksygen selvantennelig stoff, mens klorderivatene av monosilan, monoklorsilan, diklorsilan og triklorsilan ifølge A. Stock og C. Somieski, sml. Ber. des deutschen Chem. Gesellschaft 52,, (1919) j 695-724,. gjelder som ikke selvantennelig, opptrer med sistnevnte forbindelser sågar ved normal temperatur stadig selvantennelse forbundet med eksplosjoner eller branner med ofte skadelige følger (sml. f.eks. også Gmelins Handbuch der anorganischen Chemie, 15. Si (B) 701). Således beretter eksempelvis W.C. Schumb
(Chem.Rev., 31 (1942), 587-592) den uten erkjennbar anledning foregåtte'eksplosjon av en flaske med triklorsilan ved uforstyrret henstand ved værelsetemperatur.
En fullstendig forklaring på dette forhold er ennå ikke funnet. Undersøkelsen av den termiske og fotokjemiske oksydasjon av klorderivatene av monosilan av H.J. Emeleus og A.J.E. Welch,
sml. J.Chem.Soc. (London), (1939), 1928-1937, viser imidlertid at tennbarheten av silanblandinger med oksygen øker betraktelig med antallet av silanhydrogengrupper i molekylet.
I en undersøkelse av R. Muller, H. Witte og H. Beyer (Journ.prakt.Chemie 4/ 31 (1-2, 1966) 1-6) kunne videre vises at teknisk triklorsilan med et innhold av diklorsilan kan tennes ved slag eller støt, rent triklorsilan derimot ikke.
For å nedsette den høye risiko ved håndtering og lagring av triklorsilan er det følgelig riktig å fjerne de ved den vanligvis ved omsetning av elementært silisium med klorhydrogen foregående stortekniske syntese av triklorsilan og tetraklorsilan som følgeprodukter med-dannede høyerehydrerte silaner, diklorsilan, monoklorsilan og monosilan.
Den nærliggende Qestillative adskillelse betyr
nå på grunn av den derved dannede anrikning av de farligere, høyerehydrerte silaner en øket sikkerhetsrisiko, enskjønt det dreier seg om lavtkokende stoffer. Den krever dessuten en ekstra teknisk operasjon til uskadeliggjøring av disse farlige avfalls-stoffer, da det hittil for disse produkter ikke finnes noe indu-strielt anvendelsesområde.
Det er nå blitt funnet at man kan utkople de omtalte vanskeligheter på enkel måte, idet man betjener seg av en fremgangsmåte til fjerning av selv- eller lett-tennbare hydrogensilaner fra klorsilaner med den.generelle formel
hvori R er hydrogen eller klor, idet fremgangsmåten er karakterisert ved at man-til klorsilanet tilblander vannfritt klor, ved temperaturer i området fra -30 til +300°C i en mengde som tilsvarer 1-2 ganger mengden som er nødvendig støkiometrisk for omsetning av silisium-hydrogen-bindingen som skal kloreres, lar blandingen reagere og deretter opparbeider reaksjonsproduktet på kjent måte.
Produktets opparbeidelse kan foregå på kjent måte, f.eks. ved hjelp av destillasjon.
Fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen fører til det tilstrebede resultat, da det ble funnet at de høyerehydrerte ledd av silanhydrogenrekken, som er selv- eller lett-tennbare, nemlig diklorsilan, monoklorsilan og monosilan, kloreres vesentlig hurtigere enn triklorsilan, spesielt når de foreligger i blandinger med lavere eller ikke hydrerte silaner, altså f.eks. med triklorsilan og/eller tetraklorsilan.
Denne fremgangsmåten byr således i forhold til teknikkens stand den fordel ved enkel partiell klorering på nytte-bringende måte å kunne fjerne de spesielt farlige silanhydrogener, f.eks. i teknisk triklorsilan, idet man overfører de i verdifulle produkter triklorsilan og/eller tetraklorsilan, uten på forhånd å måtte anrike dem. På denne måte fåes et teknisk triklorsilan, hvor faren for ukontrollert selvantennelse med luften ikke mer består og som kan håndteres uten risiko. Selvsagt er det også videre som ved alle silisiumklorforbindelser og utelukke alltid fuktighet på grunn av den kjente hydrolyseegenskap. Fortrinnsvis arbeider man med vannfritt klor. Klorets duggpunkt er ikke kritisk. Grensen er bare satt ved økonomiske betraktninger. Riktignok er det kjent at hydrogensilaner reagerer med elementært klor, idet hydrogen-substituentene på silisium utveksles med klorsubstituenter, idet klorhydrogen frigjøres. Det er videre å forutsette som kjent at slike reaksjoner vanligvis befordres ved innvirkning av varme eller fotoner, f.eks. av ultrafiolett lys. Den selektive effekt av den partielle klorering på de høyerehydrerte ledd av rekken SiHjj Cln, spesielt i blanding med triklorsilan og/eller tetraklorsilan, var imidlertid overraskende og var ikke nærliggende på dette saksområdes teknikkens stand.
For gjennomføring av fremgangsmåten tilsettes til
en silanblanding, eksempelvis av monosilan, monoklorsilan, diklorsilan, triklorsilan og tetraklorsilan, minst så meget elementært klor som er nødvendig støkiometrisk, for å omsette alle silisium-hydrogen-bindinger av hydrogensilanene som skal kloreres, dvs. alle ut over en silisium-hydrogen-binding pr. silan tilstedeværende, altså foruten disse i tilstedeværende triklorsilan.
Den gjennomsnittlig nødvendige mengde klor kan beregnes etter sammensetning av råsilanblandingen som skal opparbeides på enkel måte. Fortrinnsvis skal denne mengde ikke overskride et 100%-ig overskudd. Etter få minutter er det tilsatte klor forbrukt. Umiddelbart deretter kan reaksjonsblandingen hvis nødvendig opparbeides
. ved destillasjon. Det viser seg da at alle opprinnelig i utgangs-blandingen tilstedeværende høyerehydrerte silaner er blitt omsatt fullstendig og at det dannede triklorsilan som nå er helt fritt for de farlige høyerehydrerte silaner også relativt uten fare kan håndteres i luft. Dertil fremkommer ofte noe tetraklorsilan som teknisk og økonomisk likeledes er godt anvendbart. Fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen kan fortrinnsvis gjennomføres såvel ved lave temperaturer, eksempelvis ved -30°C som også ved forhøyede temperaturer, eksempelvis inntil +300°C. Fremgangsmåtens gjennomføring foregår imidletid spesielt foretrukket i temperaturområdet mellom 0 til 90°C, imidlertid er disse temperaturgrenser ikke kritiske, da omsetningen også forløper under -30°C og over +300°C på den angitte måte. Det kan arbeides såvel i flytende som også i gassfase. Det kan derved såvel anvendes vakuum- som også overtrykk-betingelser, hensiktsmessig arbeides imidlertid under normaltrykk eller bare svakt fra normaltrykket avvikende trykkbetingelser. Kloreringen for-
løper'i mørke likeledes som under belysning, eksempelvis med ultrafiolett lys, innen oppfinnelsens ramme. Lys er følgelig uten merkbar innvirkning på fremgangsmåteforløpet. Ved klorefes dosering er det å påse en hurtig homogen sammenblanding med ovennevnte silaner. Klorets doseringsform spiller derved bare en underordnet rolle. Kloret kan innmates såvel ufortynnet i flytende eller gassformet aggregattilstand som også i fortynnet tilstand i ønskelig konsentrasjon, enten i telanding med gasser, eksempelvis nitrogen, argon, klorhydrogen, karbondioksyd, tetraklorsilandamp osv. eller i oppløsninger med inerte oppløsningsmidler. Som slike inerte opp-løsningsmidler kommer det eksempelvis i betraktning tetraklorsilan eller heksaklordisiloksan oglignende.
Etter den omtalte fremgangsmåte kan alle triklorsilan og/eller tetraklorsilanholdige klorsilanblandinger opparbeides. Bare blandinger som inneholder 70 - 95, også inntil tilnærmet 100 vektprosent, og for slike som minst inneholder 10 vektprosent triklorsilan ved siden av hovedmengden av tetraklorsilan eller diklorsilan, er den spesielt egnet. *
Fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen kan såvel føres diskontinuerlig som også kontinuerlig. Ved diskontinuerlig arbeide tilblandes eksempelvis i chargedrift den beregnede klormengde og blandingen destilleres eventuelt. Ved kontinuerlig arbeide kan klor-doseringen til silanblandingen eksempelvis foregå kontinuerlig i en blandekolonne eller et blandeaggregat. Den svakt eksoterme reaksjon starter med en gang. Hensiktsmessig lar man reaksjonsproduktet etterreagere, idet oppholdstider i området fra 0,1 sek. til 1 min. er fordelaktig. Produktet underkastes avgassing som også kan kombineres med etterreaksjonen. Derved avkjøles reaksjonsproduktet og tilføres deretter til opparbeidelsen.
Fremgangsmåten skal forklares nærmere ved hjelp av noen eksempler.
Eksempel 1.
Som utgangsprodukt ble .det anvendt en teknisk silanblanding av følgende sammensetning:
a) Undersøkelse av utgangsproduktets sikkerhetsegenskaper.
a^: I en 50 ml kolbe utrustet med termometer og med'
et til dyse uttrukket glassrør som dampavledning ble ifylt 10 ml av ovennevnte blanding under fuktighets- og luftutelukkelse ved hjelp av argon eller nitrogen ved en temperatur på -80°C. Under oppvarmingen til ca. 30°C under avtrekk begynte blandingen å koke. Den oppadstigende silandamp strømmet ut gjennom dysen og tente seg ved sammentreff med luft spontant under forbrenning til Si02 og HC1. a~ : I en bak en beskyttelsesvegg installert liten destillasjonsapparatur av glass med R.eitmeier-oppsats ble 50 ml av blandingen oppvarmet under- nitrogen inntil det startet full destil-lasj onsdrift. Deretter ble forlagskolben utvekslet mot en med luft ffyå ldt rå5p0 emr l dkeostlbiell. aDt epn å ngyre unfn oralv ageskn ohlbee ftbig le ekødspelloagsjt onet.ter opotak av
b) Partiell klorering ved fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen.
12,0 kg teknisk silanblanding av ovennevnte sammensetning ble ved værelsetemperatur i en 10 liters kolbe som har en tilbakeløpskjøler, ved innfylling blandet meden oppløsning ^.v 250 g elementært klor i 250 g tetraklorsilan, som tilsvarer et forhold på ca. 1,1 mol klor pr. mol overskytende silisiumhydrogen-binding. Etter den umiddelbart etterfølgende oppkoking av det dannede klorhydrogen i løpet av ca. 15 minutter hadde reaksjonsproduktet følgende sammensetning:
Ved destillasjon ble ca. 11 kg triklorsilan og ca. 1,2 kg tetraklorsilan adskilt. c) Sammenlignende undersøkelser av sikkerhetsegenskapene av det ved fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen fremstilte triklorsilan.
c^: Det ifølge eksempel lb fremstilte triklorsilan ble behandlet analogt eksempel la^ Den utstrømmende triklorsilandamp tente seg ikke i luft.
c?: Det ifølge eksempel lb fremstilte triklorsilan ble behandlet analogt eksempel la2. Det fra destillasjonskjøleren i den luftfylte forlagskolbe neddryppende triklorsilan viste ingen eksplosjonstendens.
Destillasjonen ble derpå forsøksvis gjentatt uten beskyttelsesgass med luftfylt destillasjonsapparatur. Uten at det oppsto brann eller eksplosjoner lot.det samlede i anlegg be-finnende triklorsilan seg uten fare destillere over.
Eksempel 2.
Utgangsprodukt er en ifølge la1 og la2 lett tennbar og med luft høyeksplosiv blanding av følgende sammensetning:
I en 2 liters kolbe som er utrustet med rører, ved -80°C drevet tilbakeløpskjøler, UV-dyppelampe, indre termometer og et inndyppende gassinnledningsrør (munningstverrsnitt ca. 1 mm 2) ble under en beskyttelsesgass (nitrogen) innfylt 1,4 kg av ovennevnte utgangsprodukt ved -80°C. Kolben ble temperert med et isopropanol-bad holdt på 0°C. Under hurtig omrøring og belysning ved UV-lys ble det i løpet av 3 timer innført 1065 g (15 mol) tørr, gassformet klor, idet det utviklet.seg klorhydrogen som unnvek gjennom tilbake-løpskjøleren. Den innførte klormengde tilsvarte et blandingsforhold på 1,53 mol klor pr. mol overskytende silisium-hydrogen-binding. Etter klorhydrogenets oppkoking hadde produktet en ved hjelp av gass-kromatografi fastslått sammensetning på ca. 70 vektprosent triklorsilan og ca. 30 vektprosent tetraklorsilan. Destillasjonen ga 1310 g triklorsilan og 520, g tetraklorsilan. De farlige høyere-hydrerte silaner fra utgangsproduktet var hverken påvisbart i gass-kromatogram eller i den destillerte triklorsilan. De var følgelig fullstendig klorert.
Undersøkelsen av det i eksempel 2 dannede triklorsilan-produkt ifølge la^ og la2 viste at det hverken tennte seg av seg selv eller eksploderte med luft.
Eksempel 3j_
10 kg av det i eksempel 1 omtalte utgangsprodukt ble ify:: i en med rører, tilbakeløpskjøler, ultrafiolett dyppelampe, indre termometer og et innbygget gassinnledningsrør (munningstverrsnitt ca. 1 mm p) utrustet 10 liters kolbe under en beskyttelsesgass (argon) ved værelsetemperatur. Under ultrafiolett belysning og om-røring ble det i løpet av en time innfprt gassformet 1420 g tørt klor. Blandingen begynte derved å koke og det ble dannet klorhydrogen som unnvek gjennom tilbakeløpskjøleren. Det innførte klor tilsvarte et blandingsforhold på ca. 7 mol klor pr. mol overskytende silisium-hydrogen-binding.
Etter utkokin-^ av klorhydrogenet hadde produktet en gasskromatografisk fastslåtb sammensetning på ca. 65 vektprosent triklorsilan og ca. 35 vektprosent tetraklorsilan. Destillasjonen ga ca. 6,9 kg triklorsilan og ca. 3,7 kg tetraklorsilan. Høyere hydrerte silaner ble ikke mer funnet. Det således fremfetilte triklorsilan lar seg håndtere uten risiko.
' Eksempel 4.
Et flytende utgangsprodukt av sammensetning
ble kontinuerlig i en blandedyse, ved siden av hvilke det var installert en ultrafiolett lampe, sammenblandet med gassformet klor, idet kloret fullstendig avreagerte.
Reaksjonsproduktet strømmet gjennom en vannavkjølt
rør og ble utkondensert fullstendig i en kjølefelle på -80°C.
Tilførselen av reaksjonskomponentene foregikk over strømningsmålere og det ble pr. time bragt til reaksjon 4 kg flytende silanblanding av ovennevnte sammensetning og 106 g klor. Det tilsvarer et blandingsforhold på ca. 12,5 mol klor pr. mol overskytende silisium-hydrogen-binding.
Etter utkoking av klorhydrogenet hadde produktet
en gasskromatografisk sammensetning på ca. 10 vektprosent triklorsilan og ca. 90 vektprosent tetraklorsilan. Destilleringen av hver gang hver 3- time uttatte produktcharger på ca. 12 kg ga ca. 1,2 kg triklorsilan og ca. 10,5 kg tetraklorsilan. Det på denne måte dannede triklorsilan lot seg håndtere uten risiko.
Claims (1)
- Fremgangsmåte til fjerning av selv- eller lett-tennbare hydrogensilaner fra klorsilan med den generelle formelhvori R er hydrogen eller klor, karakterisert ved at man til klorsilanet tilblander vannfritt klor ved en temperatur i området fra -30 til +300°C i en mengde som tilsvarer 1-2 ganger den mengde som støkiometrisk er nødvendig for omsetning av silisium-hydrogenbindingene som skal kloreres, lar blandingen reagere og deretter opparbeider på kjent måte..
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1948911A DE1948911C3 (de) | 1969-09-27 | 1969-09-27 | Verfahren zur Entfernung von Hydrogensilanen aus Chlorsilanen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO130903B true NO130903B (no) | 1974-11-25 |
NO130903C NO130903C (no) | 1975-03-05 |
Family
ID=5746694
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO3659/70A NO130903C (no) | 1969-09-27 | 1970-09-25 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3790459A (no) |
JP (1) | JPS4943199B1 (no) |
AT (1) | AT303070B (no) |
BE (1) | BE756657A (no) |
CA (1) | CA937026A (no) |
CH (1) | CH540197A (no) |
DE (1) | DE1948911C3 (no) |
DK (1) | DK131619C (no) |
FI (1) | FI50407C (no) |
FR (1) | FR2062686A5 (no) |
GB (1) | GB1298738A (no) |
NL (1) | NL167658C (no) |
NO (1) | NO130903C (no) |
SE (1) | SE361297B (no) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3502367A1 (de) * | 1985-01-25 | 1986-07-31 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zum entfernen von wasserstoff aus in siliziumtetrachlorid oder germaniumtetrachlorid geloesten wasserstoffhaltigen verbindungen |
JPS6440301U (no) * | 1987-08-29 | 1989-03-10 | ||
DE3805282A1 (de) * | 1988-02-19 | 1989-08-31 | Wacker Chemitronic | Verfahren zur entfernung von n-dotierenden verunreinigungen aus bei der gasphasenabscheidung von silicium anfallenden fluessigen oder gasfoermigen stoffen |
JP2867696B2 (ja) * | 1990-11-29 | 1999-03-08 | 信越化学工業株式会社 | 四塩化ケイ素の精製方法 |
DE19616556A1 (de) * | 1996-04-25 | 1997-10-30 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Stabilisierung von hydridischen Silanen |
-
0
- BE BE756657D patent/BE756657A/xx not_active IP Right Cessation
-
1969
- 1969-09-27 DE DE1948911A patent/DE1948911C3/de not_active Expired
-
1970
- 1970-09-22 CH CH1403070A patent/CH540197A/de not_active IP Right Cessation
- 1970-09-25 DK DK489970A patent/DK131619C/da active
- 1970-09-25 NL NL7014170A patent/NL167658C/xx not_active IP Right Cessation
- 1970-09-25 FI FI702623A patent/FI50407C/fi active
- 1970-09-25 FR FR7034881A patent/FR2062686A5/fr not_active Expired
- 1970-09-25 NO NO3659/70A patent/NO130903C/no unknown
- 1970-09-25 CA CA094157A patent/CA937026A/en not_active Expired
- 1970-09-25 GB GB45905/70A patent/GB1298738A/en not_active Expired
- 1970-09-25 SE SE13088/70A patent/SE361297B/xx unknown
- 1970-09-25 AT AT867470A patent/AT303070B/de not_active IP Right Cessation
- 1970-09-28 US US00076253A patent/US3790459A/en not_active Expired - Lifetime
- 1970-09-28 JP JP45084935A patent/JPS4943199B1/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL167658B (nl) | 1981-08-17 |
FI50407B (no) | 1975-12-01 |
NL167658C (nl) | 1982-01-18 |
DK131619C (da) | 1976-01-12 |
DE1948911C3 (de) | 1985-12-05 |
AT303070B (de) | 1972-11-10 |
FR2062686A5 (no) | 1971-06-25 |
CA937026A (en) | 1973-11-20 |
DE1948911B2 (de) | 1978-06-01 |
SE361297B (no) | 1973-10-29 |
FI50407C (fi) | 1976-03-10 |
CH540197A (de) | 1973-08-15 |
JPS4943199B1 (no) | 1974-11-19 |
BE756657A (fr) | 1971-03-01 |
GB1298738A (en) | 1972-12-06 |
DK131619B (da) | 1975-08-11 |
NL7014170A (no) | 1971-03-30 |
US3790459A (en) | 1974-02-05 |
DE1948911A1 (de) | 1971-04-15 |
NO130903C (no) | 1975-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9139702B2 (en) | Method for producing halogenated polysilanes | |
JP5265760B2 (ja) | 塩水溶液を使用する固形金属塩の加水分解方法 | |
EP2033937A2 (en) | Method for producing trichlorosilane and method for producing polycrystalline silicon | |
US4112057A (en) | Process for purifying halogenosilanes | |
CA1124258A (en) | Direct esterification to monomeric and oligomeric silicic acid alkyl esters | |
KR20100134755A (ko) | 비스(플루오로설포닐)이미드 음이온 화합물의 제조 방법과 이온대화합물 | |
NO130903B (no) | ||
JPS60210515A (ja) | シラン製造方法 | |
Feher et al. | Chemistry of silicon and germanium. XII. Transformation of disilane, trisilane, and n-tetrasilane with elementary bromine and chlorine in Freon | |
SU354659A1 (ru) | Способ очистки трихлорсилана от кремнегидридов | |
US3666782A (en) | Process for producing vinylchlorosilanes | |
JP2015113250A (ja) | テトラクロロシランの精製方法 | |
JP5206334B2 (ja) | クロロポリシランの製造方法 | |
JP2889202B2 (ja) | 高分散性二酸化珪素の製造法 | |
US6869582B2 (en) | Process for the synthesis of BrSF5 | |
US2016572A (en) | Chlorinated organic compounds containing substantial amounts of acetylene tetrachloride | |
JPH1129315A (ja) | ジクロロシラン含量の減少したトリクロロシランの製造方法 | |
RU2078034C1 (ru) | Способ получения высокочистого поликристаллического кремния | |
Bulanov et al. | Preparation of high-purity silicon tetrafluoride by thermal dissociation of Na 2 SiF 6 | |
US3101997A (en) | Chlorodifluoroamine and a process for its preparation | |
IL47643A (en) | Oxidation of magnesium chloride | |
US3065161A (en) | Process for the manufacture of chlorosuccinic acid dichlorides | |
JP2535525B2 (ja) | シランの製造方法 | |
DE1767078C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siliciumtetrahalogeniden | |
SU887463A1 (ru) | Способ получени двуокиси кремни |